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ピョ・サンヒュン チョ・ジンスク キム・モンスク ソン・ボンキュ チョイ・ホジョン JP 2009522351 公表特許公報(A) 20090611 2008549408 20061102 無定形、無水結晶形または水和結晶形ドセタキセルの製造方法 サムヤン ジェネックス コーポレイション 599167412 田中 光雄 100081422 山崎 宏 100084146 元山 忠行 100116311 冨田 憲史 100122301 ピョ・サンヒュン チョ・ジンスク キム・モンスク ソン・ボンキュ チョイ・ホジョン KR 10-2006-0000276 20060102 C07D 305/14 20060101AFI20090515BHJP A61P 35/00 20060101ALI20090515BHJP A61K 31/337 20060101ALN20090515BHJP JPC07D305/14A61P35/00A61K31/337 AP(BW,GH,GM,KE,LS,MW,MZ,NA,SD,SL,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),EP(AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,NL,PL,PT,RO,SE,SI,SK,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,GT,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,KG,KM,KN,KP,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,LY,MA,MD,MG,MK,MN,MW,MX,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PG,PH,PL,PT,RO,RS,RU,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,SV,SY,TJ,TM,TN,TR,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VC,VN,ZA,ZM,ZW KR2006004539 20061102 WO2007078050 20070712 18 20080901 4C048 4C086 4C048AA06 4C048BB34 4C048BC01 4C048BC15 4C048BC16 4C048CC01 4C048TT08 4C048UU01 4C048XX02 4C086AA04 4C086BA02 4C086GA15 4C086NA06 4C086ZB26 本発明は色々な溶媒を利用して、溶媒沈澱法、コロイド形成方法などによって、高純度の無定形、無水結晶形または水和結晶形ドセタキセルを高転換率および高収率で収得する方法に関するものである。 なお、本願は、２００６年１月２日出願の韓国特許出願第２００６−００００２７６号に対して優先権を主張するものであり、該出願を最小することにより該出願の内容をここに一体化させる。 ドセタキセルはパクリタキセルと共に重要な抗ガン剤のうちの一つとして使用されている。ドセタキセルはイチイの葉と幹から１０−ジアセチルバッカチンＩＩＩ（１０−ｄｅａｃｅｔｙｌｂａｃｃａｔｉｎＩＩＩ）、バッカチンＩＩＩ（ｂａｃｃａｔｉｎＩＩＩ）等の前駆体を得た後、これらを化学反応によってドセタキセルに転換させることによって半合成される。 ドセタキセルはパクリタキセルと同様に水をはじめとする大部分の薬学的溶媒に対して溶解度が非常に低いから、剤形化と処方において制限が非常に多い。 物質の溶解度は固体状態の性質によって影響を受け、無定形構造が最も安定な結晶形構造に比べて溶解度が１０倍乃至１６００倍高いことと提示される（非特許文献１参照）。これは特定溶媒に対する溶解度は主に物質自体の性質によって左右されるが、物質の形態を変化させることによって溶解度を向上させる可能性があることを示すものである。物質の形態変化の他にも、物質の粒子の大きさを小さくして表面積を大きくすることにより溶解度および溶解速度を向上させることができる。反面、一般に粒子形状が無定形である場合には結晶形に比べて、保存期間による安定性が低くなる短所がある。ドベズジャック（Ｊａｃｑｕｅｓ Ｄｏｖｅｚｅ）らは、ドセタキセルは無水物に比べて水和物が安定であると記載している（特許文献１参照）。 したがって、ドセタキセルは無定形、結晶形、水和物、無水物などのような最終性状によりその物性が変わるので、使用しようとする用途により適した性状を決定して、選択的に収得する必要がある。しかし、今まで特定性状を有するドセタキセルの選択的収得方法については知らされたことが殆どない状況である。 最近、水和物の安定性に起因して、ドセタキセルを水和物の製法に対する関心が高まっている。ドベズジャックらは、ドセタキセルを三水和物は水と炭素数１乃至３の脂肪族アルコールの混合物からドセタキセルを結晶化し、得られた生成物を相対湿度が約８０％に調節された湿度大気で約４０℃温度、および４乃至７ｋＰａの減圧下で乾燥させることによって得られると記載している（特許文献１参照）。ここに提示された方法は結晶化段階と水和段階で構成されている。結晶化段階ではドセタキセルを好ましくは４０乃至６０℃の温度で炭素数１乃至３の脂肪族アルコールに溶解させ、同一温度で精製水を加えた後、冷却して結晶を生成させる。実施例では３０３ｇのドセタキセルが０．９８３Ｌのエタノールに完全に溶解するまで５０℃で加熱し、温度を５０℃に維持しながら、４．３９Ｌの精製水を１時間にわたって加えると記載されている。しかし、このような結晶化工程は溶液下で高い温度で少なくとも１時間以上加温することを必要とし、この時、ドセタキセルは不安定で、分解される可能性があるという問題がある。実施例で使用された試料の力価が最初９２．４％で結晶化を通して９８．７％に向上した結果を示すが、含まれている不純物には結晶化工程で分解された物質が含まれることもある。したがって、提示された実施例は最終製品の性状を決定するための生産工程中の最終段階であるので、９９．５％以上に精製された高純度のドセタキセルを利用して、工程中に発生する不純物に対する評価と比較も並行されることが好ましいが、低い力価の試料を使用することによって結晶化過程中に生成できる分解産物に対する評価を無視したという限界がある。 Ａｒｕｎ Ｐｒａｋａｓｈ Ｓｈａｒｍａらは、パクリタキセルとドセタキセルの三水和物の製造方法を提示している（特許文献２参照）。前記方法において、部分精製されたドセタキセルをアルカン−クロロ化アルカン、アセトン−ヘキサン条件下でクロマトグラフィー純度９９．５３％に精製した後、アセトニトリルと水を利用して結晶化する。精製されたドセタキセルをアセトニトリルに５０乃至７０℃で溶解後、精製水を徐々に加えて、１５乃至２０℃で追加的に攪拌して沈殿物を得る。前記文献に提示された方法は、溶解時間は言及しなかったが、５０乃至７０℃で加温することによって、たとえ結晶化前後の純度変化はほとんど現れなかったが、ドセタキセルの分解を排除することはできない。また、適用された過程は最終精製工程で回収率が大変重要な要素になり得る。前記文献の実施例では結晶化実施前の無水物４６０ｇを利用して三水和物４１５ｇ（水分６．８％）を得られた結果を得たが、水分を考慮する時、実際収率は比較的に低い水準である約８４％に相当する。これは一般的な再結晶法に現れる短所の例といえる。 Ｌｉ Ｊｉｎｌｉａｎｇらは、無水ドセタキセルを精製水とアセトン混合溶液下で結晶化して、三水和物を得る方法を提示した（特許文献３参照）。実施例で８７ｇの無水物をアセトンに溶解し、１．５倍の精製水を加えた後、０℃で２日間結晶化して、８５ｇの三水和物（水分６．４３％）を得たが、提示された方法も一般的な再結晶法であって、水分含有量を考慮すれば実際回収率は９１％で、低い回収率を有する短所がある。 Ｌｅｅらは、多様な溶媒を利用して無定形、無水結晶形および水和結晶形を有するパクリタキセルを製造する方法を提示した（非特許文献２参照）。前記方法において、適用された多様な溶媒によってパクリタキセルの結晶構造は選択されるが、減圧乾燥および再結晶法には次のような多くの問題点がある。 まず、Ｌｅｅなどの単純減圧乾燥の場合、乾燥時に使用される容器にパクリタキセルがコーティングされるようにゲル化されながら乾燥されて、回収に困難が多く、粒子の大きさが非常に大きく形成されるため、回収して破砕した後にも粒子大きさが１００μｍ以上であって非常に大きい。このように大きい粒子大きさは溶解度低下の原因になり、残留する溶媒の量を極微量に維持するための乾燥を難しくする。医薬用として使用される医薬品はＩＣＨガイドライン（非特許文献３参照）によって、各溶媒別に一定水準以下に残留されなければならず、減圧蒸発などの方法によって乾燥された場合には粒子大きさと粒子の物性上残留溶媒水準を十分に低くするために多くの時間がかかるなど、製造に困難がある。また、既存の再結晶法は工程特性上収率が低く再結晶のために低温で長時間実施しなければならず、結晶の大きさが大きく形成されるという問題点がある。大韓民国特許登録第１０−０３９１７５３号米国特許登録第６、８３８、５６９号国際特許ＷＯ２００４/０９９１６７Ｂｒｕｎｏ Ｃ． Ｈａｎｃｏｃｋ ａｎｄ Ｍｉｃｈａｅｌ Ｐａｒｋｓ、Ｗｈａｔ ｉｓ ｔｈｅ ｔｒｕｅ ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ ａｄｖａｎｔａｇｅ ｆｏｒ ａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ． Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ Ｒｅｓ． ２０００，１７，３９７−４０４Ｊｅｏｎｇ Ｈｏｏｎ Ｌｅｅ，Ｕｎ−Ｓｏｏｋ Ｇｉ，Ｊｉｎ−Ｈｙｕｎ Ｋｉｍ，Ｙｏｎｇａｅ Ｋｉｍ、Ｓｅｏｎ−Ｈｏ Ｋｉｍ，Ｈｕｎｓｅｕｎｇ Ｏｈ，ａｎｄ Ｂｕｍｃｈａｎ Ｍｉｎ，Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ ａｎｄ ｃｈａｒａｃｔｅｒｉｚａｔｉｏｎ ｏｆ ｓｏｌｖｅｎｔ ｉｎｄｕｃｅｄ ｄｉｈｙｄｒａｔｅｄ，ａｎｈｙｄｒｏｕｓ、ａｎｄａｍｏｒｐｈｏｕｓ ｐａｃｌｉｔａｘｅｌ，Ｂｕｌｌ．Ｋｏｒｅａｎ Ｃｈｅｍ． Ｓｏｃ．， ２００１， ２２， ９２５−９２８Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅｏｎ Ｈａｒｍｏｎｉｓａｔｉｏｎ ｏｆ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｒｅｑｕｉｒｅｍｅｎｔｓ ｆｏｒ Ｒｅｇｉｓｔｒａｔｉｏｎ ｏｆ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ ｆｏｒ Ｈｕｍａｎ Ｕｓｅ このような問題点を解決するために、本発明は多様な種類の溶媒を利用して無定形、無水結晶形または水和結晶形を有するドセタキセルを効率的で選択的に製造する方法を提供することを目的とする。 本発明の詳細な内容とその利点らを次の詳細な説明によってさらに明白に説明する。 本発明は多様な種類の溶媒に対して溶媒沈澱法およびコロイド形成方法などによって無定形、無水結晶形または水和結晶形ドセタキセルを製造し、高転換率および高収率で収得する段階を含む、ドセタキセルを製造方法に関するものである。 本発明のドセタキセル製造方法は、微細粒子のドセタキセルを高い収率で効率的に生産することができるという利点を有する。また、高純度のドセタキセルからその純度を維持しながら、より簡便な方法で高転換率および高収率で所望する性状を有するドセタキセルを収得することができるという利点を有する。 後述する本発明のすべてのドセタキセル製造方法は、単一物質としてのドセタキセルだけでなく、ドセタキセル以外のタクサン系物質が含まれているドセタキセル含有物にも適用可能である。本発明において‘ドセタキセル含有物’は、ドセタキセルと共にパクリタキセルなどのタクサン系物質が含まれているものであって、ドセタキセル含有量（純度）が５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは９０％以上、最も好ましくは９８．５％以上であるものを意味する。 まず、本発明は極性−非極性溶媒による溶媒沈澱法を利用して無定形（Ａｍｏｒｐｈｏｕｓ）ドセタキセルを製造する方法を提供する。前記のように、ドセタキセルは難溶性であるが、無定形構造を有する場合が安定な結晶形構造を有する場合に比べて溶解度が１０倍乃至１６００倍高いと知られている。従来は無定形のドセタキセルを収得するために複雑で難しい工程が行われなければならなかったが、本発明は特定極性−非極性溶媒を使用する溶媒沈澱法を行うことによって単純で簡便に高転換率および高収率で無定形のドセタキセルを製造することができる。 本発明の無定形ドセタキセル製造方法は次のような段階を含む：ドセタキセル含有物またはドセタキセルを極性溶媒に溶解させ；前記得られた溶液を非極性溶媒に加えて、沈澱を生成させ；前記生成された沈澱をろ過し乾燥して、無定形のドセタキセルを収得する段階。 前記無定形ドセタキセル製造方法において、前記極性溶媒としてハロゲン化アルカン類、ケトン類およびこれらの混合溶媒からなる群の中で選択されたものを使用するのが良い。前記ハロゲン化アルカン類はジクロロメタン、クロロホルムなどを使用することができ、ケトン類はアセトンであり得る。ドセタキセルを極性溶媒に溶解する時、１乃至３０％（ｗ／ｖ）、好ましくは５乃至２０％（ｗ／ｖ）濃度で溶解するのが初期純度維持と高純度無定形ドセタキセルの高収率収得の側面から好ましい。 前記非極性溶媒としてアルカン類、シクロアルカン類およびジイソプロピルエーテル以下の極性値を有する非極性溶媒からなる群の中で選択された１種以上の溶媒を使用するのが、直ちに沈澱が形成されるので、好ましい。前記アルカン類はヘキサンまたはペンタンであり、前記シクロアルカン類はシクロヘキサンまたはシクロペンタンであり、前記ジイソプロピルエーテル以下の極性値を有する非極性溶媒はジアルキルエーテルであり得る。 ドセタキセル含有物またはドセタキセルを極性溶媒に溶解した溶液を前記非極性溶媒に加える段階において、非極性溶媒の体積を添加される溶液の体積の５倍以上とするのが良く、より好ましくは、溶液と非極性溶媒の体積比が１：８乃至１：２０になるようにすることが良い。非極性溶媒の使用量が前記範囲を逸脱すれば効果的な沈澱形成が不可能になる。このように得られた沈澱を減圧ろ過および乾燥して、容易で簡便に無定形ドセタキセルを収得することができる。 また、本発明はドセタキセル含有物またはドセタキセルをコロイド化可能な溶媒で懸濁された状態でコロイド化した後、減圧乾燥して、無水結晶形ドセタキセルを製造する方法を提供する。無水結晶形のドセタキセルは保存安定性が優れているが、溶解性が低いという短所がある。しかし、本発明の製造方法による場合、収得されるドセタキセルの粒子が非常に微細で、溶解性が顕著に改善される。したがって、本発明は保存安定性が優れていながら、改善された溶解性を有する無水結晶形ドセタキセルの製造方法を提供することにある。 本発明の無水結晶形ドセタキセルの製造方法は次の段階を含む：ドセタキセル含有物またはドセタキセルをコロイド化可能な溶媒で完全溶解せずに懸濁された状態でコロイド化させ；前記得られたコロイド溶液中の溶媒を増発させ減圧乾燥させて微細粉末の無水結晶形ドセタキセルを収得する段階。 前記ドセタキセルのコロイド化可能な溶媒はドセタキセルを完全に溶解せずに懸濁された状態で存在できるようにするものであって、アセトンなどを使用することができる。 ドセタキセルをアセトンに溶解する時、ドセタキセルを１乃至３０％（ｗ／ｖ）、好ましくは５乃至１０％（ｗ／ｖ）濃度で添加する。前記溶媒蒸発は通常の回転型蒸発器（Ｒｏｔａｒｙ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）を使用して行うことができ、温度条件は３５℃乃至４０℃にするのが好ましい。本発明において、‘コロイド’はドセタキセルが溶媒に溶解されずに懸濁された状態を意味する。 前記方法によって無水結晶形ドセタキセルを製造する場合、前記のようなＬｅｅなどの方法のように一般的な減圧乾燥に現れる短所である容器にコーティングされながら粒子が大きくなることとは異なって、コロイドを通じて微細な粒子の形成が誘導されるために乾燥が容易で、残留溶媒水準を低く維持することができるという利点がある。また、収得されるドセタキセルの粒子大きさが５乃至３０μｍであって微細であり、溶解性が顕著に改善される。 また、本発明はドセタキセル含有物またはドセタキセルを常温で有機溶媒に溶解させ、精製水または緩衝溶液を加えた後に沈殿させて、水和結晶形ドセタキセルを製造する方法を提供する。水和結晶形は溶解性側面で有利な性状であるが、従来の水和結晶形ドセタキセルの製造方法は比較的に高温で行われてドセタキセルの安定性を低下させ、初期純度を最終産物まで維持させることができないという短所があった。しかし、本発明の水和結晶形ドセタキセル製造方法は比較的に低温で行われてドセタキセルの安定性において有利で初期純度を維持することができるという利点を有する。 前記水和結晶形ドセタキセルの製造方法は次の段階を含む：ドセタキセル含有物またはドセタキセルを常温で有機溶媒に溶解させ；得られた溶液に精製水または緩衝溶液を滴加し；−２０℃乃至２０℃、好ましくは０℃乃至１０℃で、１時間乃至４８時間、好ましくは５時間乃至は２４時間放置して沈殿物生成させ；生成された沈殿物をろ過して、水和結晶形ドセタキセルを収得する段階。 前記水和結晶形ドセタキセル製造方法において、前記有機溶媒としてメタノール、エタノールまたはプロパノールなどの炭素数１乃至３のアルコール類、アセトンなどのケトン類およびアセトニトリルからなる群の中で選択された１種以上を使用することができる。ドセタキセルを有機溶媒に溶解する時、ドセタキセルを１乃至３０％（ｗ／ｖ）、好ましくは５乃至２０％（ｗ／ｖ）の濃度で溶解する。 前記の方法によって得られる水和結晶形ドセタキセルは水和形態において制限がなく、好ましくは一水和物、二水和物または三水和物の形態であり得る。 前記得られた溶液に精製水または緩衝溶液を体積比で１０：４乃至１０：１５（溶液体積：精製水または緩衝溶液体積）、好ましくは１０：１０乃至１０：１２（溶液体積：精製水または緩衝溶液体積）に滴加するのが好ましい。精製水の体積比が前記比率より小さい場合には沈澱が遅くなったり沈澱形成が起こらないことがあり、精製水の体積比が前記比率より大きい場合には反応時に溶液の体積が過度に大きくなる問題がある。前記緩衝溶液としては燐酸緩衝溶液、アンモニア緩衝溶液などを使用することができる。 前記の常温でドセタキセル含有物またはドセタキセルを有機溶媒に溶解し、精製水を加えた後に沈殿させて水和結晶形ドセタキセルを収得する方法は、ドベズジャックなどの大韓民国特許登録１０−０３９１７５３で提示された方法と類似な溶媒を使用するが、これに比べてさらに容易に産業的に適用できるという長所を有する。 つまり、ドベズジャックなどの方法は４０乃至６０℃の温度で炭素数１乃至３の脂肪族アルコールに溶解する方法で、工程中ドセタキセルの安定性に深刻な問題を招く。ドベズジャックなどはアルコール類に５０℃で１時間溶解した後、精製水を加えて結晶を形成させ、得られたドセタキセルの純度は９２．４％から９８．７％まで増加すると提示したが、本発明を進行しながら同様な方法で純度９９．７％のドセタキセルをメタノールに５０℃溶解した後、０時間から２４時間放置し、０時間、１時間、５時間、１０時間、２４時間純度分析した結果、大韓民国特許登録１０−０３９１７５３とは異なって純度が急激に低くなることを確認した（下記の比較例２参照）。ドベズジャックなどによって提示された通り反応を完了するためにメタノールに溶解した後、５０℃で最小１時間維持する時、ドセタキセルの純度は９５．７％まで低くなりながら、ドセタキセルが分解される現象を確認した。これはアルコール類などの溶媒に溶解した後に加温する時、ドセタキセルが分解される一般的な事実を確認することができる結果である。したがってドベズジャックなどの方法による方法は水和結晶形を生産することはできるが、ドセタキセルの安定性を確保しながら高純度に製品化することは難しいので、本発明で提示した常温での溶解後低温での溶媒沈澱法はこれら方法と区別される非常に有用で産業的利用の妥当性を提示するものであると言える。つまり、ドベズジャックなどの方法は溶液内ドセタキセル濃度を高めて収率を高めようとする試みを提示したものである反面、本発明の前記水和結晶形ドセタキセル製造方法は、ドセタキセルの安定化と高純度維持において温度が低く維持されることが非常に重要な因子であるのを認識して、ドセタキセルの安定性と高純度維持に最も適切な温度範囲を定めたことに特徴がある。 また、本発明は、他の水和結晶形ドセタキセルの製造方法として、有機溶媒と精製水との混合溶媒または有機溶媒と緩衝溶液との混合溶媒にドセタキセル含有物またはドセタキセルを溶解した後に得られた溶液を減圧濃縮して沈澱を形成させることによって水和結晶形ドセタキセルを収得する方法を提供する。 前記混合溶媒を使用する水和結晶形ドセタキセルの製造方法は次の段階を含む：有機溶媒と精製水との混合溶媒または有機溶媒と緩衝溶液との混合溶媒にドセタキセル含有物またはドセタキセルを溶解させ；得られた溶液を増発させ混合溶媒中の有機溶媒を除去して沈澱を生成させ；得られた沈澱を減圧ろ過および乾燥して、水和結晶形ドセタキセルを製造する段階。 前記の方法によって得られる水和結晶形ドセタキセルは水和形態において制限がなく、好ましくは一水和物、二水和物または三水和物の形態であり得る。 前記有機溶媒としては精製水とよく混合される溶媒としてメタノールなどの炭素数１乃至３のアルコール類、アセトン、およびアセトニトリルなどからなる群の中で選択された１種以上を使用することができる。前記有機溶媒は精製水または緩衝溶液と混合して混合溶媒として使用し、この時、有機溶媒と精製水または緩衝溶液との混合比は７：０．５乃至は７：５、好ましくは７：１乃至は７：４の体積比とすることが良い。精製水の比率が前記より低ければ沈澱形成がよく行われないおそれがあり、前記比率より高ければ反応液の体積が過多になる問題がある。前記緩衝溶液として燐酸緩衝溶液、アンモニア緩衝溶液などを使用することができる。前記混合溶媒にドセタキセルを０．１乃至５％（ｗ／ｖ）、好ましくは１乃至２％（ｗ/ｖ）の濃度で溶解させる。 前記蒸発は通常の回転型蒸発器（Ｒｏｔａｒｙ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）を利用して、３５℃乃至４０℃で行うことが良い。 前記有機溶媒と精製水または緩衝溶液の混合溶液にドセタキセル含有物またはドセタキセルを溶解した後、通常の回転型蒸発器（Ｒｏｔａｒｙ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）を利用して溶媒を増発させて形成される沈澱をろ過し乾燥して水和結晶形ドセタキセルを収得する方法は、短時間に高収率で効果的に行うことができる方法である。つまり、有機溶媒と精製水の混合溶媒にドセタキセルを溶解した後に減圧濃縮を進めると、有機溶媒が先に蒸発されながら残っている精製水または緩衝溶液の比率が高くなる。これによってドセタキセルの溶解度が低くなりながら、沈澱形成が開始される。有機溶媒が全て蒸発されるとドセタキセルの精製水に対する溶解度は非常に低いので、大部分のドセタキセルが沈澱を形成する。形成された沈殿物を減圧ろ過すれば比較的に簡単に水和結晶形を収得することができ、この時、得られた沈殿物は粒子が非常に小さい特徴があり、結晶化方法に比べて回収率は非常に高い長所がある。また、結晶化方法などに比べて非常に短時間内に安定した方法で水和結晶形を収得することができるという利点がある。 また、本発明はまた他の水和結晶形ドセタキセルの製造方法として、有機溶媒にドセタキセル含有物またはドセタキセルを溶解した後、過剰の精製水に加えて沈澱を形成させることによって水和結晶形ドセタキセルを製造する方法を提供する。 前記有機溶媒にドセタキセルを溶解した後、過剰の精製水に加えて沈澱を形成させることによって水和結晶形ドセタキセルを製造する方法は次の段階を含む：ドセタキセル含有物またはドセタキセルを常温で有機溶媒または有機溶媒と精製水との混合溶媒に溶解させ；得られた溶液を過剰の精製水または緩衝溶液に徐々に加えながら懸濁および沈殿させ；得られた沈殿物を減圧ろ過および乾燥して水和結晶形ドセタキセルを収得する段階。 前記の方法によって得られる水和結晶形ドセタキセルは水和形態において制限がなく、好ましくは一水和物、二水和物または三水和物の形態であり得る。 前記有機溶媒としては精製水とよく混合される溶媒であるメタノールなどの炭素数１乃至３のアルコール類、アセトン、アセトニトリルおよびテトラヒドロフランなどからなる群の中で選択された１種以上の有機溶媒を使用することができる。前記有機溶媒は単独で使用したり、精製水と混合して混合溶媒として使用することができる。有機溶媒を精製水と混合して混合溶媒として使用する場合、混合溶媒の濃度は０．５％乃至５０％（ｖ／ｖ）、好ましくは１０％乃至３０％（ｖ／ｖ）とするのが良い。 前記溶液を体積基準に１乃至２０倍、好ましくは５乃至１０倍の精製水または緩衝溶液に徐々に加えながら沈殿物を得る。 前記有機溶媒にドセタキセルを溶解した後、過剰の精製水に加えて沈澱を形成させることによって水和結晶形ドセタキセルを収得する方法は、結晶化方法などに比べて非常に短時間内に安定的に水和結晶形を収得することができるようにする。つまり、有機溶媒または有機溶媒と精製水の混合溶媒にドセタキセルを溶解した後、過剰の精製水に徐々に加えると、精製水に対するドセタキセルの溶解度が低くなりながら、懸濁されて沈澱を形成する。ドセタキセルの溶解が常温で進められ、形成された沈殿物を減圧ろ過方法によって簡単に得ることができるので、高い回収率でドセタキセルの安定性を確保できるだけでなく、工程時間も短くて非常に容易に収得することができる。 以下、本発明を下記の実施例によってさらに詳しく説明する。しかしこれら実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明をいかなる方式でも制限しない。 下記の実施例に提示されたそれぞれの製造方法によって回収されたドセタキセルは真空乾燥を実施した後、純度、収率、Ｘ線分析（ＸＲＰＤ）および走査電子顕微鏡（ＳＥＭ：ＪＳＭ−６６３５Ｆ、Ｊｅｏｌ）を通じてドセタキセルの形態、粒子の大きさなどを確認した。Ｘ線分析（ＸＲＰＤ）と純度分析条件は表１と表２の通りである。 本発明でドセタキセルの純度および回収率は表２の条件でＨＰＬＣを使用して定量分析して計算した。実施例１：無定形ドセタキセル製造１ 使用した全ての試料は純度９９．７％以上のドセタキセル（図１Ａ）であり、製造工程後に純度低下はなかった（図２Ｂ）。常温で純度９９．７％のドセタキセル２ｇをアセトン２０ｍｌに溶解した後、前記得られた溶液をｎ−ペンタン２００ｍｌに攪拌しながら加えて沈澱を形成させた。得られた沈澱をろ過した後、温度４０℃、真空度６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％の無定形ドセタキセル１．９４ｇを得た。実施例２：無定形ドセタキセル製造２ 純度９９．７％のドセタキセル２ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解した後、攪拌しながらｎ−ペンタン２００ｍｌに加えて、沈澱を直ちに形成させた後、得られた沈澱をろ過し、温度４０℃、真空度６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％の無定形ドセタキセル１．９５ｇを得た。実施例３：無定形ドセタキセル製造３ 純度９９．７％のドセタキセル２ｇをジクロロメタン２０ｍｌに溶解した後、攪拌しながらｎ−ヘキサン２００ｍｌに加えて、沈澱を直ちに形成させた後、得られた沈澱をろ過し、温度４０℃、真空度６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％の無定形ドセタキセル１．９２ｇを得た。実施例４：無水結晶形ドセタキセル製造 純度９９．７％のドセタキセル２ｇをアセトン１０ｍｌに入れて溶解した後、減圧濃縮した。得られた溶液に再びアセトン２ｍｌを添加して、ドセタキセルが完全に溶解されずに懸濁されるコロイドを形成した。回転型蒸発器（Ｒｏｔａｒｙ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）を利用して３５℃乃至４０℃で得られたコロイドから溶媒を増発させ、温度４０℃、真空度６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％の無水結晶形ドセタキセル１．９６ｇを得た。実施例５：水和結晶形ドセタキセル製造１ 純度９９．７％のドセタキセル２５０ｍｇを常温でメタノール３ｍｌに溶解させ、蒸溜水３ｍｌを徐々に加えた後、４℃で２４時間放置して結晶化させた。得られた結晶をろ過し、３５℃、６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％水和結晶形ドセタキセル２５４ｍｇ（水分：４．５％）を得た。実施例６：水和結晶形ドセタキセル製造２ 純度９９．７％のドセタキセル３００ｍｇを常温でアセトンと蒸溜水の混合比が体積を基準に７：３である混合溶媒６０ｍｌに溶解した。回転型蒸発器（Ｒｏｔａｒｙ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）を利用して３５℃乃至４０℃で前記得られた溶液中の溶媒を増発させた。溶媒が蒸発しながら沈殿物が生成された。前記生成された沈殿物をろ過し、温度３５℃、６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％水和結晶形ドセタキセル３０３ｍｇ（水分：４．３％）を得た。実施例７：有機溶媒と精製水の混合溶媒に溶解後、精製水に加えて沈澱を形成させることによる水和結晶形ドセタキセル製造 純度９９．７％のドセタキセル３００ｍｇを常温でメタノールと蒸溜水の混合比が体積を基準に８：２である混合溶媒６０ｍｌに溶解した。得られた溶液を３００ｍｌの精製水に徐々に加えながら沈殿物を形成させた。得られた沈殿物をろ過し、温度３５℃、６５０ｍｍＨｇで１５時間真空乾燥を実施して、純度９９．７％水和結晶形ドセタキセル３１１ｍｇ（水分：４．６％）を得た。比較例１ Ａｒｕｎ Ｐｒａｋａｓｈ Ｓｈａｒｍａなどの米国特許登録６，８３８，５６９で提示された方法によって、純度９９．５％のドセタキセル２０３ｍｇを６８℃温度でアセトニトリル６．１１ｍｌに溶解した後、これに１８．３４ｍｌ精製水を攪拌しながら徐々に滴加した後、温度２０℃で３時間攪拌を実施して沈殿物を得た。生成された沈殿物をろ過し、温度３６℃、真空度６５０ｍｍＨｇで３６時間真空乾燥を実施して、純度７８．８％水和結晶形ドセタキセル１６２ｍｇを得た。 本比較例を通じて提示された条件は適用温度と時間によって程度の差はあり得るが、ドセタキセルが分解できる非常に不安定な条件であることを確認できた。比較例２ 高温でアルコールに溶解して水和結晶形ドセタキセルを製造する場合のドセタキセルの安定性を試験するために、有機溶媒としてメタノールとエタノールをそれぞれ使用し、溶解温度および放置温度を５０℃にして、０、１、５、１０および２４時間放置した後のドセタキセル純度変化と分解程度を測定して下記の表３に示した。前記の測定は表２に記載されたようなＨＰＬＣ条件下で行った。 表３から分かるように、５０℃で溶解および放置した場合、大部分のドセタキセルはその代謝産物である７−エピ−ドセタキセル（７−ｅｐｉ−ｄｏｃｅｔａｘｅｌ）に転換され、時間の経過に伴ってドセタキセルの純度が顕著に減少するのを確認することができた。前記試験結果もドセタキセルの安定性および純度維持において温度条件が非常にｓ重要であるのを示す。 以上の通り、本発明は色々な溶媒を利用して無定形、無水結晶形または水和結晶形ドセタキセルを選択的に製造する方法を提供する。本発明によれば、所望する用途によって無定形、無水結晶形および水和結晶形のドセタキセルを初期の高純度を維持しながら、高収率で選択的に生産することができる。実施例１の製造工程前後のドセタキセルの純度変化を確認するためにＨＰＬＣを利用して分析した結果であって、図１Ａは製造工程前の試料のＨＰＬＣ分析結果である。実施例１の製造工程前後のドセタキセルの純度変化を確認するためにＨＰＬＣを利用して分析した結果であって、図１Ｂは製造工程遂行後の試料のＨＰＬＣ分析結果である。実施例１の溶媒沈澱法によって製造された無定形ドセタキセルに対するＳＥＭ（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｙ）分析結果である。前記無定形ドセタキセルに対するＸＲＰＤ（Ｘ−ｒａｙ ｐｏｗｄｅｒ ｄｉｆｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒ）分析結果である。実施例４のコロイド形成法によって製造された無水結晶形ドセタキセルのＳＥＭ分析結果である。前記無水結晶形ドセタキセルに対するＸＲＰＤ分析結果である。実施例５の低温での溶媒沈澱法によって製造された水和結晶形ドセタキセルに対するＸＲＰＤ分析結果である。実施例６の有機溶媒と精製水の混合溶媒に溶解後減圧蒸発によって製造された水和結晶形ドセタキセルに対するＸＲＰＤ分析結果である。実施例７の有機溶媒と精製水の混合溶媒に溶解後精製水に加えて沈澱を形成させて製造された水和結晶形ドセタキセルに対するＸＲＰＤ分析結果である。比較例１の高温での溶媒沈澱後、常温での攪拌によって製造されたドセタキセルに対する製造工程前後の純度変化を確認するためのＨＰＬＣおよびＸＲＰＤ分析結果であって、図７Ａは製造工程前の試料のＨＰＬＣ分析結果である。比較例１の高温での溶媒沈澱後、常温での攪拌によって製造されたドセタキセルに対する製造工程前後の純度変化を確認するためのＨＰＬＣおよびＸＲＰＤ分析結果であって、図７Ｂは製造工程後の試料のＨＰＬＣ分析結果である。比較例１の高温での溶媒沈澱後、常温での攪拌によって製造されたドセタキセルに対する製造工程前後の純度変化を確認するためのＨＰＬＣおよびＸＲＰＤ分析結果であって、図７ＣはＸＲＰＤ分析結果である。ドセタキセル含有物またはドセタキセルを極性溶媒に１乃至３０％（ｗ/ｖ）の濃度で溶解させ；前記得られた溶液を５倍以上の体積の非極性溶媒に加えて、沈澱を生成させ；前記生成された沈澱をろ過し乾燥して、無定形のドセタキセルを収得する段階を含み、前記極性溶媒はハロゲン化アルカン類およびケトン類からなる群の中から選択した１種以上のものであり、前記非極性溶媒はアルカン類、シクロアルカン類およびジイソプロピルエーテル以下の極性値を有する非極性溶媒からなる群の中から選択した１種以上のものであることを特徴とする無定形ドセタキセルの製造方法。前記ハロゲン化アルカン類はジクロロメタンまたはクロロホルムであり、前記ケトン類はアセトンであり、前記アルカン類はヘキサンまたはペンタンであり、前記シクロアルカン類はシクロヘキサンまたはシクロペンタンであり、前記ジイソプロピルエーテル以下の極性値を有する非極性溶媒はジアルキルエーテルであることを特徴とする、請求項１に記載の無定形ドセタキセルの製造方法。１乃至３０％（ｗ/ｖ）のドセタキセル含有物またはドセタキセルをとコロイド化可能な溶媒を混合して、懸濁された状態でコロイド化させ；前記得られたコロイド中の溶媒を３５℃乃至４０℃で増発させ減圧乾燥して、微細粉末の無水結晶形ドセタキセルを収得する段階を含むことを特徴とする無水結晶形ドセタキセルの製造方法。前記コロイド化可能な溶媒がアセトンであることを特徴とする、請求項３に記載の無水結晶形ドセタキセルの製造方法。ドセタキセル含有物またはドセタキセルを常温で有機溶媒に１乃至３０％（ｗ/ｖ）の濃度で溶解させ；得られた溶液に精製水または緩衝溶液を１０：４乃至１０：１５の体積比で滴加し；−２０℃乃至２０℃で、１時間乃至４８時間放置して沈殿物を生成させ；生成された沈殿物をろ過して、水和結晶形ドセタキセルを収得する段階を含むことを特徴とする水和結晶形ドセタキセルの製造方法。前記有機溶媒がメタノール、エタノール、プロパノール、アセトンおよびアセトニトリルで構成される群から選択した１種以上のものであることを特徴とする、請求項５に記載の水和結晶形ドセタキセルの製造方法。前記水和結晶形ドセタキセルは一水和物、二水和物および三水和物からなる群の中から選択されたものであることを特徴とする、請求項５に記載の水和結晶形ドセタキセルの製造方法。有機溶媒と精製水との混合比が体積を基準に７：０．５乃至は７：５である混合溶媒または有機溶媒と緩衝溶液との混合比が体積を基準に７：０．５乃至は７：５である混合溶媒にドセタキセル含有物またはドセタキセルを０．１乃至５％（ｗ/ｖ）の濃度で溶解させ；得られた溶液を３５℃乃至４０℃で増発させて、混合溶媒中の有機溶媒を除去して、沈澱を生成させ；得られた沈澱を減圧ろ過および乾燥して、水和結晶形ドセタキセルを製造する段階を含むことを特徴とする、水和結晶形ドセタキセルの製造方法。、前記有機溶媒はメタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、アセトニトリルで構成される群から選択した１種以上のものであることを特徴とする、請求項８に記載の水和結晶形ドセタキセルの製造方法。前記水和結晶形ドセタキセルは一水和物、二水和物および三水和物からなる群の中から選択されたものであることを特徴とする、請求項８に記載の水和結晶形ドセタキセルの製造方法。ドセタキセル含有物またはドセタキセルを常温で有機溶媒または有機溶媒と精製水との混合溶媒に溶解させ；得られた溶液を１乃至２０倍の精製水または緩衝溶液に徐々に加えながら懸濁および沈殿させ；得られた沈殿物を減圧ろ過および乾燥して、水和結晶形ドセタキセルを収得する段階を含む、水和結晶形ドセタキセルの製造方法。前記有機溶媒はメタノール、エタノール、プロパノール、アセトン、アセトニトリルで構成される群から選択した１種以上のものであることを特徴とする、請求項１１に記載の水和結晶形ドセタキセルの製造方法。前記水和結晶形ドセタキセルは一水和物、二水和物および三水和物からなる群の中から選択されたものであることを特徴とする、請求項１１に記載の水和結晶形ドセタキセルの製造方法。 本発明は無定形、無水結晶形または水和結晶形構造を有するドセタキセルの製造方法に関するものである。本発明によれば、溶媒沈澱法、コロイド形成法などを利用して、高純度無定形、無水結晶形または水和結晶形ドセタキセルを高収率で生産することができる。

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