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| タイトル： | 特許公報(B2)_核酸合成用アミダイド及び核酸合成方法 |
| 出願番号： | 2007000576 |
| 年次： | 2012 |
| IPC分類： | C07H 19/10,C07H 19/20,C07H 21/04 |
特許情報キャッシュ
藤原 健志 藤田 省三 JP 5076504 特許公報(B2) 20120907 2007000576 20070105 核酸合成用アミダイド及び核酸合成方法 富士通株式会社 000005223 廣田 浩一 100107515 藤原 健志 藤田 省三 20121121 C07H 19/10 20060101AFI20121101BHJP C07H 19/20 20060101ALI20121101BHJP C07H 21/04 20060101ALI20121101BHJP JPC07H19/10C07H19/20C07H21/04 A Ｃ０７Ｈ １９／１０−２１／０４ ＣＡ／ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ） 特表平０９−５１０６９６（ＪＰ，Ａ） J. Org. Chem.，１９８９年，５４，１６５７−１６６４ 10 2008162992 20080717 32 20090611 植原 克典 本発明は、核酸の合成に好適な核酸合成用アミダイド及びそれを用いた核酸合成方法に関する。 核酸の固相合成は、２０年以上も前から行われており、自動合成装置もその時点で販売されていた。核酸の固相合成は、例えば、ヌクレオシドを結合させた固相担体（例えば、ＣＰＧ）に核酸原料（アミダイド）を縮合反応させていくことにより行われるが、この縮合反応の際には、前記アミダイドのリン酸部分と他方の水酸基のみを縮合反応に関与させ、それ以外の反応性基は縮合反応に関与させずに行う必要がある。したがって、使用するアミダイドの塩基が有する環外アミノ基等には、保護基を導入して縮合反応への関与を防止し、全縮合反応が終了した後、保護基を脱離する（脱保護する）ことが必要となる。従来から、塩基の環外アミノ基に導入する保護基としては、ベンゾイル基、イソブチリル基等が用いられており、これらの保護基の脱保護には、濃アンモニア水を、５５℃で８〜１５時間、作用させる方法が一般的であった。 しかしながら、例えば、プライマー、プローブ、アンチセンスＤＮＡ、ｓｉＲＮＡ等、機能性人工核酸の蛍光標識等の修飾のため、より緩やかな条件で脱保護でき、核酸を得る事のできるアミダイドの改良が望まれている。例えば、従来の技術においては、嵩高い塩基、シアザビシクロウンデセン(ＤＢＵ)で脱保護可能な核酸アミダイドとして、図１４に示した構造式（４）〜（６）の核酸合成用アミダイドなどが報告されている（非特許文献１〜２）。しかしながら、前記構造式（４）〜（６）の核酸合成用アミダイドは、非プロトン性溶媒であるアセトニトリル中で不安定であり（非特許文献５）、実用には向かないものであった。また、図１５に示した構造式（７）〜（９）の核酸合成用アミダイドも、緩やかな条件（ピリジン中、０．５Ｍ ＤＢＵ １６時間）で脱保護可能であるとして報告されている（非特許文献３〜４）が、高濃度のＤＢＵ、長時間による脱保護のため、核酸塩基へのアルキル化が起こるという問題があった。また、図１６に示した構造式（１０）〜（１２）の核酸合成用アミダイドも、緩やかな条件（メタノール中、Ｋ２ＣＯ３）で脱保護可能であるとして報告されている（非特許文献５〜６）が、プロトン性溶媒であるメタノール中で塩基のＫ２ＣＯ３を使用するため、エステル等が分解するという問題があった。 したがって、緩やかな条件で脱保護可能であり、かつ実用的な核酸合成用アミダイド、及び前記核酸合成用アミダイドを用いた核酸合成方法の開発は、未だ望まれているのが現状である。Ａｃｔａ Ｃｈｅｍ，Ｓｃａｎｄ．，Ｂ３７，２６３（１９８３）Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，５４，１６５７（１９８９）Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ ４０，４１７１（１９９２）Ｎｕｃｌｅｏｄｉｅｄ ＆ Ｎｕｃｌｒｏｔｉｄｅｓ １３，２０５９（１９９４）Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ ４６，６７２９（１９９０）Ｎｕｃｌｅｉｃ Ａｃｉｄｓ Ｒｅｓｅｒｃｈ ２１，３４９３（１９９３） 本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、緩やかな条件で脱保護可能であり、かつ実用的な核酸合成用アミダイド、及び前記核酸合成用アミダイドを用いた核酸合成方法を提供することを目的とする。 前記課題を解決するための手段としては、後述の付記に記載の通りである。即ち、 本発明の核酸合成用アミダイドは、下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする。ただし、下記一般式（Ｉ）中、Ｘは、塩基を表し、Ｙは、４−アミノ酪酸誘導体、ｏ−アミノメチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノエチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノメチルフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノフェニルプロピオン酸誘導体、及び５−アミノ吉草酸誘導体のいずれかからなる保護基を表し、Ｑは、水素原子又は水酸基を表す。 前記核酸合成用アミダイドは、前記一般式（Ｉ）に示すような特徴的な構造を有することから、緩やかな条件で脱保護可能であり、そのため、例えば、従来の核酸自動合成装置を利用して、各種プライマーやプローブ等の機能性人工核酸をより迅速に合成することができ、また、プライマーやプローブの合成時に、蛍光標識等の不安定な分子を導入することも容易である。 本発明の核酸合成方法は、本発明の前記核酸合成用アミダイドを用いることを特徴とする。 前記核酸合成方法は、本発明の前記核酸合成用アミダイドを用いるため、緩やかな条件で前記核酸合成用アミダイドの脱保護が可能であり、そのため、例えば、従来の核酸自動合成装置を利用して、各種プライマーやプローブ等の機能性人工核酸を迅速に合成することができ、また、プライマーやプローブの合成時に、蛍光標識等の不安定な分子を導入することも容易である。 本発明によると、従来における前記問題を解決することができ、緩やかな条件で脱保護可能であり、かつ実用的な核酸合成用アミダイド、及び前記核酸合成用アミダイドを用いた核酸合成方法を提供することができる。（核酸合成用アミダイド） 本発明の核酸合成用アミダイドは、下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする。 ただし、前記一般式（Ｉ）中、Ｘは、塩基を表し、Ｙは、４−アミノ酪酸誘導体、ｏ−アミノメチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノエチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノメチルフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノフェニルプロピオン酸誘導体、及び５−アミノ吉草酸誘導体のいずれかからなる保護基を表し、Ｑは、水素原子又は水酸基を表す。 前記一般式（Ｉ）中、Ｘで表される塩基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アデニン（Ａ）、グアニン（Ｇ）、シトシン（Ｃ）などが挙げられる。 前記一般式（Ｉ）中、Ｙで表される保護基は、４−アミノ酪酸誘導体、ｏ−アミノメチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノエチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノメチルフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノフェニルプロピオン酸誘導体、及び５−アミノ吉草酸誘導体のいずれかからなるものであり、その具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中でも、下記一般式（ＩＩ）で表される保護基が好ましい。 前記保護基は、前記塩基の環外アミノ基に結合してなることが好ましく、例えば、アデニン塩基の６位、グアニン塩基の２位、シトシン塩基の６位に結合してなることが好ましい。 前記核酸合成用アミダイドの具体例としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、下記構造式（１）〜（３）で表される核酸合成用アミダイドなどが挙げられる。 前記核酸合成用アミダイドの合成方法としては、特に制限はなく、例えば、後述する実施例に記載の方法等により、合成することができる。 前記核酸合成用アミダイドでは、前記保護基は、緩やかな条件で脱保護可能である。 前記「緩やかな条件で脱保護可能」とは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記保護基が、非プロトン性溶媒中で、嵩高い塩基により脱保護可能であることをいう。前記非プロトン性溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトニトリル、ジクロロメタン、ＤＭＦ（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、Ｎ−メチルピロリドンなどが挙げられる。また、前記嵩高い塩基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＤＢＵ（１，８−ジアザビシクロ[５．４．０]−７−ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５−ジアザビシクロ[４．３．０]−５−ノネン）、テトラメチルグアニジンなどが挙げられる。これらの中でも、前記保護基は、前記アセトニトリル中、前記ＤＢＵにより脱保護されることが好ましい。また、この場合、前記保護基の脱保護に要するＤＢＵ濃度としては、０．５Ｍ以下が好ましく、０．１Ｍ以下がより好ましく、０．０１Ｍ以下が特に好ましい、時間としては、８時間以内が好ましく、１時間以内がより好ましく、１５分間以内が特に好ましい。 前記核酸合成用アミダイドは全て、前記保護基を、前記したような緩やかな条件で脱保護可能であるので、例えば、後述する本発明の核酸合成方法に好適に利用可能である。なお、前記核酸合成用アミダイドは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。前記核酸合成用アミダイドは、塩基の種類（アデニン、グアニン、シトシン）にかかわらず、全て前記したような緩やかな条件で脱保護可能である点で、有利である。（核酸合成方法） 本発明の核酸合成方法は、本発明の前記核酸合成用アミダイドを用いることを特徴とする。 前記核酸合成方法は、前記核酸合成用アミダイドを用いるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ジエステル法、トリエステル法、ホスファイト法、ホスホロアミダイト法、Ｈ−ホスホネート法、チオホスファイト法等に、固相法を組み合わせた従来の核酸合成方法などが挙げられる。また、前記核酸合成は、例えば、従来の核酸自動合成装置を用いて行うことができる。 前記核酸合成方法に用いる核酸合成用アミダイドとしては、Ａアミダイド、Ｇアミダイド、及びＣアミダイドの全てが本発明の前記核酸合成用アミダイドであってもよいし、一部のみが本発明の前記核酸合成用アミダイドであってもよいが、中でも、Ａアミダイド、Ｇアミダイド、及びＣアミダイドの全てが本発明の前記核酸合成用アミダイドであることが好ましい。 例えば、前記核酸合成方法により得られた核酸を、ＰＣＲ用プライマー等として使用する場合、前記プライマーを実際にＰＣＲ等に適用する段階では全ての核酸合成用アミダイドが同様に脱保護されている必要があるが、前記核酸合成方法において、本発明の前記核酸合成用アミダイド以外のＡアミダイド、Ｇアミダイド、及びＣアミダイドを一部に用いると、緩やかな条件で脱保護を行った際に、脱保護が充分に行われず、そのため、その後のＰＣＲ等の妨げとなる場合がある。一方、用いる核酸合成用アミダイドの全て（Ａアミダイド、Ｇアミダイド、及びＣアミダイド）が、本発明の前記核酸合成用アミダイドであると、全ての核酸合成用アミダイドが緩やかな条件で同様に脱保護されるため、その後のＰＣＲ等を効率的に行うことができる点で、有利である。 前記核酸合成方法においては、前記核酸合成用アミダイドの縮合反応の後、前記核酸合成用アミダイドの保護基の脱保護を行う。前記脱保護の条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記したような緩やかな条件で脱保護を行うことが好ましく、例えば、非プロトン性溶媒中で、嵩高い塩基により脱保護を行うことが好ましい。前記非プロトン性溶媒、前記嵩高い塩基としては、前記同様である。また、脱保護に要する濃度、時間としても、前記同様である。 前記核酸合成方法は、本発明の前記核酸合成用アミダイドを用いるため、前記したような緩やかな条件で前記核酸合成用アミダイドの脱保護が可能である。そのため、例えば、従来の核酸自動合成装置を利用して、各種プライマーやプローブ等の機能性人工核酸を迅速に合成することができ、また、プライマーやプローブの合成時に、蛍光標識等の不安定な分子を導入することも容易である。 なお、前記核酸合成方法により得られた核酸は、様々な用途に好適に使用することができ、その用途に特に制限はなく、例えば、ＰＣＲ用プライマー、配列決定用プライマー、ハイブリダイゼーション用プローブ、アンチセンスＤＮＡ、ｓｉＲＮＡ等の各種機能性核酸として、好適に使用することができる。 以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。（実施例１：核酸合成用アミダイドの合成） 本発明の核酸合成用アミダイドＩＩＩａ、ＩＩＩｇ、ＩＩＩｃを以下のようにして合成した。なお、前記核酸合成用アミダイドＩＩＩａ、ＩＩＩｇ、ＩＩＩｃは、それぞれ前記した構造式（１）、（２）、（３）に対応する核酸合成用アミダイドである。＜Ｉａ、Ｉｇ、Ｉｃの合成＞ Ｎメチルアミノ酪酸塩酸塩７．６８ｇ（５０ｍｍｏｌ）を５０ｍＬの水に溶かし、ＮａＨＣＯ３４．２０ｇ（５０ｍｍｏｌ）を加え、１０分間攪拌した。この溶液に炭酸９−フルオレニルメチルスクシンイミジル１３．４９ｇ（４０ｍｍｏｌ）、アセトニトリル１００ｍＬ、及び硫酸水素テトラブチルアンモニウム０．１４ｇ（０．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２日間攪拌した。溶液を減圧濃縮した後、塩化メチレンで希釈し、水で洗浄した。塩化メチレン溶液を減圧濃縮し、脱水アセトニトリルで２回共沸した後、脱水塩化メチレンで共沸した。残渣を２００ｍＬの脱水塩化メチレンに溶かし、０℃でＮ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド４．１３ｇ（２０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。不溶物をろ過した後、減圧濃縮し、残渣Ａを得た。 デオキシヌクレオシド（ｄＡ、ｄＧ、又はｄＣ、２０ｍｍｏｌ）を脱水ピリジンで懸濁し、減圧濃縮する操作を３回行った。残渣を１００ｍＬの脱水ピリジンで懸濁し、０℃でトリメチルクロロシラン８．４５ｍＬ（６６ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した後、再び０℃に冷却し、本溶液を残渣Ａに導入した。反応混合物を、室温で２時間攪拌した。氷冷下２０ｍＬの水を加え、室温で一晩攪拌した。本溶液を塩化メチレンで希釈し、水で洗浄した。塩化メチレン溶液を減圧濃縮し、残渣を中圧クロマトグラフィー（ジクロロメタン−エタノール１９：１→４：１）にて精製し、目的物Ｉａ ６．９１ｇ（６０％）、Ｉｇ ９．４３ｇ（８０％）、Ｉｃ ８．８０ｇ（８０％）を得た。＜ＩＩａ、ＩＩｇ、ＩＩｃの合成＞ Ｉａ、Ｉｇ、又はＩｃ、１０ｍｍｏｌを脱水ピリジンに溶解し、減圧濃縮を３回行った。残渣を５０ｍＬの脱水ピリジンに溶解し、氷冷下４，４’−ジメトキシトリチルクロリド３．３６ｇ（１０．５ｍｍｏｌ）を加え、室温にて４時間攪拌した。続いてメタノール１０ｍＬを加え、３０分攪拌した。溶液を減圧濃縮し、塩化メチレンで希釈し、水で洗浄した。塩化メチレン溶液を減圧濃縮し、残渣を中圧クロマトグラフィー（ジクロロメタン−エタノール９８：２→９：１）にて精製し、目的物ＩＩａ ７．９２ｇ（９１％）、ＩＩｇ ８．３５ｇ（９４％）、ＩＩｃ ７．６４ｇ（９０％）を得た。＜ＩＩＩａ、ＩＩＩｇ、ＩＩＩｃの合成＞ ＩＩａ、ＩＩｇ又はＩＩｃ、５ｍｍｏｌを脱水アセトニトリル、脱水ジクロロメタン混合溶液に溶解し、減圧濃縮を３回行った。残渣を２０ｍＬの脱水ジクロロメタンに溶解し、氷冷下ジメチルアミノピリジン３０．５ｍｇ（０．２５ｍｍｏｌ）、ジイソプロピルエチルアミン１．０５ｍＬ（６．０ｍｍｏｌ）を加え、２−シアノエチルジイソプロピルクロロホスホロアミジト１．２３ｍＬ（５．５ｍｍｏｌ）の５ｍＬ塩化メチレン溶液を１５分以上かけ滴下した。混合溶液を０℃（ＩＩａ、ＩＩｃ）又は室温（ＩＩｇ）で２時間攪拌した。続いてメタノール５ｍｌを加え、３０分攪拌した。溶液を減圧濃縮し、酢酸エチルで希釈し、水で洗浄した。酢酸エチル溶液を減圧濃縮し、残渣を２５ｍＬの酢酸エチルに溶解し、−３０℃で５００ｍＬのヘキサンに１５分以上かけ滴下した。不溶物をろ過し、冷ヘキサンで洗浄し、濾物から減圧下溶媒を除くことにより、目的物ＩＩＩａ ５．２２ｇ（９７％）、ＩＩＩｇ ５．２２ｇ（９６％）、ＩＩＩｃ ４．７０ｇ（９４％）を得た。＜各化合物の構造確認＞ 前記Ｉａ、Ｉｇ、Ｉｃ〜ＩＩＩａ、ＩＩＩｇ、ＩＩＩｃの各化合物の構造確認を以下のようにして行った。結果を図１〜１２に示す。[１Ｈ−ＮＭＲ] 各サンプル約１０ｍｇを重溶媒に溶解し、測定した。内部標準は溶媒ピークを基準とした。[３１Ｐ−ＮＭＲ] 外部標準としてＰＰｈ３を用い、−６．２ｐｐｍを基準として測定した。ＢＣＭにて測定を行った。（実施例２：ＤＮＡ合成における脱保護の確認１） 前記実施例１で合成した各核酸合成用アミダイドが緩やかな条件で脱保護可能であることを、以下のようにして確認した。以下の条件１〜４に示す通り、各々のアミダイドを使用し、キャッピィング操作を行わずに５’−ｄＧｐＡｐＣｐＴｐ Ｃ３ ＳＳ ＣＰＧを合成して、各々の脱保護操作を行った。 なお、本実施例２で使用した、ｄＴアミダイト、ｂｅｎｚｏｙｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＡアミダイド、ｂｅｎｚｏｙｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＣアミダイド、ｉｓｏｂｕｔｙｒｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＧアミダイト、３’−Ｔｈｉｏｌ−Ｍｏｄｉｆｉｆｉｅｒ Ｃ３ ＳＳ ＣＰＧ、ｐｈｅｏｘｙａｃｅｔｙｌ ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＡアミダイト、ａｃｅｔｙｌ ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＣアミダイト、及び４−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ−ｐｈｅｏｘｙａｃｅｔｙｌ ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＧアミダイトは、それぞれグレンリサーチ社から購入した。また、ｔｒｉｓ（２−ｃａｒｂｏｘｙｅｔｈｙｌ）ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ（ＴＣＥＰ）は、アルドリッチ社から購入した。なお、ＤＮＡ合成には、ジーンワルド社製のＨ８−Ｆを用い、付属の合成プログラムを変更せずに使用した。−条件１（対照区）− ｄＴアミダイト、ｂｅｎｚｏｙｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＡアミダイド、ｂｅｎｚｏｙｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＣアミダイド、ｉｓｏｂｕｔｙｒｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＧアミダイトを用いて５’−ｄＧｐＡｐＣｐＴｐ Ｃ３ ＳＳ ＣＰＧを合成した。本ＣＰＧをスクリュウュウキャップドチューブに回収し、２８％アンモニア水を加え、５５℃で８時間加熱後、溶媒を減圧溜去し、残渣に０．１Ｍ ＴＣＥＰ−ｔｒｉｓ ｐＨ＝７．０を５００μｌ加え、室温で３０分静置した。本溶液の一部をＨＰＬＣで解析した。（解析条件：カラム５Ｃ１８カラム Ａ溶媒 １００ｍＭギ酸アンモニウム Ｂ溶媒 アセトニトリル Ｂ ５→３５％（２０ｍｉｎ）ｌｉｎｅａｒ ｇｒａｄｉｅｎｔ） 解析結果を図１３に示す。−条件２（実験区）− ｄＴアミダイト、及び、ＩＩＩａ、ＩＩＩｇ、ＩＩＩｃ（実施例１で合成した本発明の核酸合成用アミダイド）を用いて５’−ｄＧｐＡｐＣｐＴｐ Ｃ３ ＳＳ ＣＰＧを合成した。本ＤＮＡ合成用カラムに０．０１Ｍ ＤＢＵアセトニトリル溶液５ｍＬを１時間かけて流した後、アセトニトリル、水で洗浄したのち０．１Ｍ ＴＣＥＰ−ｔｒｉｓ ｐＨ＝７．０ ２５０μｌを２時間かけて流し溶液を回収した。本溶液の一部をＨＰＬＣで解析した。（解析条件：カラム５Ｃ１８カラム Ａ溶媒 １００ｍＭギ酸アンモニウム Ｂ溶媒 アセトニトリル Ｂ ５→３５％（２０ｍｉｎ）ｌｉｎｅａｒ ｇｒａｄｉｅｎｔ） 解析結果を図１３に示す。−条件３（比較対照区）− ｄＴアミダイト、ｂｅｎｚｏｙｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＡアミダイド、ｂｅｎｚｏｙｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＣアミダイド、ｉｓｏｂｕｔｙｒｌ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＧアミダイトを用いて５’−ｄＧｐＡｐＣｐＴｐ Ｃ３ ＳＳ ＣＰＧを合成した。本ＤＮＡ合成用カラムに０．０１Ｍ ＤＢＵアセトニトリル溶液５ｍＬを１時間かけて流した後、アセトニトリル、水で洗浄したのち０．１Ｍ ＴＣＥＰ−ｔｒｉｓ ｐＨ＝７．０ ２５０μｌを２時間かけて流し溶液を回収した。本溶液の一部をＨＰＬＣで解析した。（解析条件：カラム５Ｃ１８カラム Ａ溶媒 １００ｍＭギ酸アンモニウム Ｂ溶媒 アセトニトリル Ｂ ５→３５％（２０ｍｉｎ）ｌｉｎｅａｒ ｇｒａｄｉｅｎｔ） 解析結果を図１３に示す。−条件４（比較対照区）− ｄＴアミダイト、ｐｈｅｏｘｙａｃｅｔｙｌ ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＡアミダイト、ａｃｅｔｙｌ ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＣアミダイト、４−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ−ｐｈｅｏｘｙａｃｅｔｙｌ ｐｒｏｔｅｃｔｅｄ ｄＧアミダイトを用いて５’−ｄＧｐＡｐＣｐＴｐ Ｃ３ ＳＳ ＣＰＧを合成した。本ＤＮＡ合成用カラムに０．０１Ｍ ＤＢＵアセトニトリル溶液５ｍＬを１時間かけて流した後、アセトニトリル、水で洗浄したのち０．１Ｍ ＴＣＥＰ−ｔｒｉｓ ｐＨ＝７．０ ２５０μｌを２時間かけて流し溶液を回収した。本溶液の一部をＨＰＬＣで解析した。（解析条件：カラム５Ｃ１８カラム Ａ溶媒 １００ｍＭギ酸アンモニウム Ｂ溶媒 アセトニトリル Ｂ ５→３５％（２０ｍｉｎ）ｌｉｎｅａｒ ｇｒａｄｉｅｎｔ） 解析結果を図１３に示す。 これらの結果、条件１と条件２でのみ主生成物の保持時間が一致した（図１３）ことから、ＩＩＩａ、ＩＩＩｇ、ＩＩＩｃ（実施例１で合成した本発明の核酸合成用アミダイド）を使用したＤＮＡ合成でのみ、０．０１Ｍ ＤＢＵアセトニトリル溶液中、１時間で脱保護可能であることが示された。また条件２では、条件１と同等にメインピーク以外の生成物は少量で本条件では塩基のアルキル化が無視できるとわかった。（実施例３：ＤＮＡ合成における脱保護の確認２） また、前記実施例１で合成した各核酸合成用アミダイドが緩やかな条件で脱保護可能であることを、更に、以下のようにして確認した。 ＤＮＡ自動合成機としてアプライドバイオシステム社のＡＢＩ３８１Ａを用い、グレンリサーチ社から購入した３’Ｔｈｉｏｌ−ｍｏｄｉｆｉｅｒ Ｃ３ Ｓ−Ｓ ＣＰＧに、ＩＩＩａ→ＩＩＩｃ→ＩＩＩｇ→Ｔアミダイドの順に合成した。合成サイクルは、改良せずにそのまま用いることで、各段階９８％以上の収率で合成できた。本レジンに０．０１Ｍ ＤＢＵ ２００μｌを１５分間かけて流した後、０．１Ｍ ＤＴＴ水溶液４００μｌを４時間かけて流すことによりＤＮＡ溶液Ａを得た。 また、対照として、同様の３’Ｔｈｉｏｌ−ｍｏｄｉｆｉｅｒ Ｃ３ Ｓ−Ｓ ＣＰＧにＡアミダイド→Ｃアミダイド→Ｇアミダイド→Ｔアミダイドの順に合成し、定法に従い、ＤＴＴ存在下、アンモニア水により脱保護及び切り出しを行い、ＤＮＡ溶液Ｂを得た。 ＨＰＬＣを用いて溶液Ａ、及び溶液Ｂを比較した結果、主生成物が一致することがわかった。また、化合物Ｉａ及びＩｇを用いることにより、ＤＴＴ水―ピリジン混合溶液中で保護基が安定であることも確認してあるので、以上の結果から、前記ＩＩＩａ、ＩＩＩｃ、及びＩＩＩｇ（前記構造式（１）、（２）、（３）の核酸合成用アミダイド）の保護基は０．０１Ｍ ＤＢＵ ２００μｌ、１５分間で脱保護可能であることが示された。 本発明の好ましい態様を付記すると、以下の通りである。（付記１） 下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする核酸合成用アミダイド。 ただし、前記一般式（Ｉ）中、Ｘは、塩基を表し、Ｙは、４−アミノ酪酸誘導体、ｏ−アミノメチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノエチル安息香酸誘導体、ｏ−アミノメチルフェニル酢酸誘導体、ｏ−アミノフェニルプロピオン酸誘導体、及び５−アミノ吉草酸誘導体のいずれかからなる保護基を表し、Ｑは、水素原子又は水酸基を表す。（付記２） 一般式（Ｉ）中、Ｙで表される保護基が、下記一般式（ＩＩ）で表される保護基である付記１に記載の核酸合成用アミダイド。（付記３） 一般式（Ｉ）中、Ｘで表される塩基が、アデニン、グアニン、及びシトシンのいずれかである付記１から２のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記４） 一般式（Ｉ）中、Ｙで表される保護基が、Ｘで表される塩基の環外アミノ基に結合してなる付記１から３のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記５） 下記構造式（１）〜（３）のいずれかで表される付記１から４のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記６） 非プロトン性溶媒中で脱保護可能である付記１から５のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記７） 非プロトン性溶媒が、アセトニトリル、ジクロロメタン、ＤＭＦ、及びＮ−メチルピロリドンからなる群より選択される少なくともいずれかである付記６に記載の核酸合成用アミダイド。（付記８） 嵩高い塩基により脱保護可能である付記１から７のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記９） 嵩高い塩基が、ＤＢＵ、ＤＢＮ、及びテトラメチルグアニジンからなる群より選択される少なくともいずれかである付記８に記載の核酸合成用アミダイド。（付記１０） ０．０１Ｍ ＤＢＵ濃度以下で脱保護可能である付記１から９のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記１１） １５分間以内に脱保護可能である付記１から１０のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。（付記１２） 付記１から１１のいずれかに記載の核酸合成用アミダイドを用いることを特徴とする核酸合成方法。（付記１３） 核酸合成用アミダイドの縮合反応の後、前記核酸合成用アミダイドの保護基の脱保護が行われる付記１２に記載の核酸合成方法。（付記１４） 非プロトン性溶媒中で脱保護が行われる付記１２から１３のいずれかに記載の核酸合成方法。（付記１５） 非プロトン性溶媒が、アセトニトリル、ジクロロメタン、ＤＭＦ、及びＮ−メチルピロリドンからなる群より選択される少なくともいずれかである付記１４に記載の核酸合成方法。（付記１６） 嵩高い塩基により脱保護が行われる付記１２から１５のいずれかに記載の核酸合成方法。（付記１７） 嵩高い塩基が、ＤＢＵ、ＤＢＮ、及びテトラメチルグアニジンからなる群より選択される少なくともいずれかである付記１６に記載の核酸合成方法。（付記１８） ０．０１Ｍ ＤＢＵ濃度以下で脱保護が行われる付記１２から１７のいずれかに記載の核酸合成方法。（付記１９） １５分間以内に脱保護が行われる付記１２から１８のいずれかに記載の核酸合成方法。（付記２０） 核酸自動合成装置を用いて行われる付記１２から１９のいずれかに記載の核酸合成方法。 本発明の核酸合成用アミダイドは、緩やかな条件で脱保護可能であるので、例えば、本発明の核酸合成方法に好適に利用可能である。 また、本発明の核酸合成方法は、緩やかな条件で前記核酸合成用アミダイドの脱保護が可能であるので、例えば、ＰＣＲ用プライマー、配列決定用プライマー、ハイブリダイゼーション用プローブ、アンチセンスＤＮＡ、ｓｉＲＮＡ等の各種機能性核酸の合成に、好適に利用可能である。図１は、実施例１における化合物Ｉａの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図２は、実施例１における化合物Ｉｇの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図３は、実施例１における化合物Ｉｃの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図４は、実施例１における化合物ＩＩａの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図５は、実施例１における化合物ＩＩｇの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図６は、実施例１における化合物ＩＩｃの１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図７は、実施例１における化合物ＩＩＩａ（構造式（１）の核酸合成用アミダイド）の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図８は、実施例１における化合物ＩＩＩａ（構造式（１）の核酸合成用アミダイド）の３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルである。図９は、実施例１における化合物ＩＩＩｇ（構造式（２）の核酸合成用アミダイド）の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図１０は、実施例１における化合物ＩＩＩｇ（構造式（２）の核酸合成用アミダイド）の３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルである。図１１は、実施例１における化合物ＩＩＩｃ（構造式（３）の核酸合成用アミダイド）の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。図１２は、実施例１における化合物ＩＩＩｃ（構造式（３）の核酸合成用アミダイド）の３１Ｐ−ＮＭＲスペクトルである。図１３は、実施例２における条件１〜条件４での各ＤＮＡ合成物のＨＰＬＣ解析結果である。図１４は、従来の核酸合成用アミダイド（構造式（４）〜（６））である。図１５は、従来の核酸合成用アミダイド（構造式（７）〜（９））である。図１６は、従来の核酸合成用アミダイド（構造式（１０）〜（１２））である。 下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする核酸合成用アミダイド。 ただし、前記一般式（Ｉ）中、Ｘは、塩基を表し、Ｙは、下記一般式（ＩＩ）で表される保護基を表し、Ｑは、水素原子又は水酸基を表す。 一般式（Ｉ）中、Ｑが水素原子である請求項１に記載の核酸合成用アミダイド。 一般式（Ｉ）中、Ｘで表される塩基が、アデニン、グアニン、及びシトシンのいずれかである請求項１から２のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。 下記構造式（１）〜（３）のいずれかで表される請求項１から３のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。 非プロトン性溶媒中で脱保護可能である請求項１から４のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。 非プロトン性溶媒が、アセトニトリル、ジクロロメタン、ＤＭＦ、及びＮ−メチルピロリドンからなる群より選択される少なくともいずれかである請求項５に記載の核酸合成用アミダイド。 嵩高い塩基により脱保護可能である請求項１から６のいずれかに記載の核酸合成用アミダイド。 嵩高い塩基が、ＤＢＵ、ＤＢＮ、及びテトラメチルグアニジンからなる群より選択される少なくともいずれかである請求項７に記載の核酸合成用アミダイド。 請求項１から８のいずれかに記載の核酸合成用アミダイドを用いることを特徴とする核酸合成方法。 核酸自動合成装置を用いて行われる請求項９に記載の核酸合成方法。