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明石 欣也 横田 明穂 阪本 聡 情野 治良 酒井 薫 濱田 和彦 JP 2005247700 公開特許公報(A) 20050915 2004056122 20040301 活性酸素抑制用の組成物と、その組成物を配合する皮膚外用剤及び化粧料 ピアス株式会社 000112266 藤本 昇 100074332 薬丸 誠一 100114421 中谷 寛昭 100114432 岩田 徳哉 100117204 明石 欣也 横田 明穂 阪本 聡 情野 治良 酒井 薫 濱田 和彦 7A61K7/48A61K7/00A61K7/031A61K7/032 JPA61K7/48A61K7/00 CA61K7/00 JA61K7/031A61K7/032 7 ＯＬ 18 4C083 4C083AA082 4C083AB232 4C083AB242 4C083AB432 4C083AC012 4C083AC022 4C083AC072 4C083AC122 4C083AC302 4C083AC352 4C083AC482 4C083AC581 4C083AC582 4C083AD072 4C083AD282 4C083AD321 4C083AD322 4C083CC01 4C083CC02 4C083CC12 4C083CC14 4C083EE12 4C083EE13 本発明は、活性酸素抑制用の組成物、特にシワ、シミ等の皮膚老化や、肌荒れ、炎症性ニキビ等の皮膚細胞損傷への影響性が高いヒドロキシラジカルを抑制する組成物と、その組成物を配合する皮膚外用剤、化粧料に関する。 活性酸素は、酸素分子等が高エネルギー放電、酵素反応等により、或いは電離してラジカルを持つようになった状態のものであり、酸素自体がラジカルを持つものの他、ＯＨの酸素がラジカルを持ついわゆるヒドロキシラジカルも広義の活性酸素に含まれる。 このような活性酸素種の中でも、ヒドロキシラジカルは紫外線や電磁波等により皮膚で発生し、皮膚に対して悪影響を及ぼすことが知られている。具体的には、ニキビ、アトピー性皮膚炎、肌荒れ等の炎症性の皮膚トラブルや、光老化によって起こるシワやシミ等に深く関与していることが指摘されている。ヒドロキシラジカルは細胞障害性や過酸化脂質発生が高い一方で、皮膚損傷反応は極めて短時間で進行するため、短時間でほぼ完全にヒドロキシラジカルを抑制する技術が求められている。 従来、酸素ラジカルの生成を抑制するものとしてＳＯＤ（スーパーオキシドディムスターゼ）や、抗酸化剤であるビタミンＥ（トコフェロール）等が知られている。またビタミンＣ（アスコルビン酸）に活性酸素の抑制作用があるとする下記特許文献１のような特許出願もなされている。特開2001−322990号公報 しかし、これらのＳＯＤ、ビタミンＥ、ビタミンＣ等は、ヒドロキシラジカル抑制効果が低く、安定性、持続性も弱いという問題があった。 一方、植物からの抽出液が活性酸素の抑制作用を有することも指摘されており、たとえば下記特許文献２乃至４のように、植物エキスを配合した活性酸素抑制用の化粧料等に関する特許出願もなされている。特開2003−192566号公報特開2003−226632号公報特開2003−321337号公報 しかし、この特許文献２乃至４のように、植物エキスを配合したものであっても、活性酸素抑制効果が十分ではなく、安定性、持続性も弱いものであった。 本発明は、このような従来の問題を解決するためになされたもので、安定性、持続性が高く、短時間でほぼ完全にヒドロキシラジカル等の活性酸素を抑制することのできる活性酸素抑制効果に優れた組成物、及びその組成物を配合した皮膚外用剤、化粧料を提供することを課題とする。 本発明者等は、このような課題を解決すべく鋭意研究したところ、キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体と、アミノ酸との共存、複合化、とりわけ平均分子量1000〜5000000 のキチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体と、シトルリン、プロリン、ヒスチジン、テアニン、トリメチルグリシン、セリン、トリプトファン、システイン、カルノシン、カルニチン、オルニチン、グルタチオン、若しくはＮ−アセチルシステイン、又はこれらの誘導体等のようなアミノ酸とを共存、複合化させることにより、ヒドロキシラジカル等の活性酸素の抑制効果が効果的、相乗的に高まり、さらに皮膚細胞への作用性が高まって、上記問題が解決されることを見出し、本発明を完成するに至った。 すなわち、請求項１記載の発明は、活性酸素抑制用の組成物に係る発明であり、アミノ酸又はアミノ酸誘導体と、キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体とを含有することを特徴とする。キチン若しくはキトサンの誘導体としては、たとえばカルボキシメチルキトサン、カルボキシメチルキチン、カルボキシブチルキトサン、キトサン乳酸塩、キトサンアスコルビン酸塩、ヒドロキシプロピルキトサン等を使用することができる。 また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の活性酸素抑制用の組成物において、アミノ酸又はアミノ酸誘導体が、シトルリン、プロリン、ヒスチジン、テアニン、トリメチルグリシン、セリン、トリプトファン、システイン、カルノシン、カルニチン、オルニチン、グルタチオン、若しくはＮ−アセチルシステイン、又はこれらの誘導体から選択される一種又は二種以上であることを特徴とする。特に、ＤＮＡ損傷に対する抑止作用や併用効果の点から、シトルリン、テアニン、及びこれらの誘導体が好ましい。 さらに、請求項３記載の発明は、請求項１記載の活性酸素抑制用の組成物において、アミノ酸がシトルリンであることを特徴とする。 さらに、請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物において、キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体が、平均分子量1000〜5000000 のキチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体から選択される一種又は二種以上であることを特徴とする。 さらに、請求項５記載の発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物において、キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体が、炭素数４〜20の脂肪酸基を部分導入した平均分子量1000〜2000000 のキチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体から選択される一種又は二種以上であることを特徴とする。 さらに、請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物を含有することを特徴とする皮膚外用剤の発明である。 さらに、請求項７記載の発明は、請求項１乃至５のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物を含有することを特徴とする化粧料の発明である。 このような皮膚外用剤や化粧料は、炎症性皮膚部位の予防、軽減用として使用することができ、或いは光老化によって起るシワ又はシミの予防、軽減用として使用することができる。 本発明によって、安定性，持続性が高く、短時間でほぼ完全にヒドロキシラジカル等の活性酸素を抑制することのできる活性酸素抑制効果に優れた組成物、及びその組成物を配合した皮膚外用剤、化粧料を提供することが可能となった。 本発明の組成物に含まれるアミノ酸としては、上述のようにシトルリン、プロリン、ヒスチジン、テアニン、トリメチルグリシン、セリン、トリプトファン、システイン、エクトイン、カルノシン、カルニチン、オルニチン、グルタチオン、若しくはＮ−アセチルシステイン、又はこれらの誘導体から選択される一種又は二種以上のものを用いるのが好ましい。アミノ酸又はこれらの誘導体として、より好ましくは、たとえば炭素数２〜10のアシル基やアルキル基を導入したもの等が用いられる。具体的には、アセチルシトルリン、アセチルヒスチジン、アセチルテアニン、サクシニルセリン等が例示される。 キチン、キトサン、又はその誘導体としては、上記アミノ酸又はアミノ酸誘導体との相乗的作用より、上述のように平均分子量1000〜5000000 のものを用いるのが好ましい。たとえば、カルボキシメチルキチン、カルボキシメチルキトサン、カルボキシブチルキトサン、ヒドロキシプロピルキトサン、Ｎ−ジカルボキシメチルキトサン、サクシニル化キトサン、リン酸化キチン、リン酸化キトサン、部分加水分解キチン、硫酸化キチン、硫酸化キトサン、エチレングリコールキトサン、エチレングリコールキチン、キチンやキトサンのグリコール酸塩やアスコルビン酸塩等の塩類等が挙げられる。 又、炭素数４〜20のアシル基等の脂肪酸基を0.1 〜50.0％部分導入したようなものも用いられる。アミノ基や水酸基に炭素数４〜20の脂肪酸基を0.1 〜50.0％部分導入した物質は相乗的作用がさらに高まるため好ましい。この観点からは、炭素数８〜20の脂肪酸基を部分導入したものがより好ましい。具体的には部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩（製品名PM−キトサン：ピアス株式会社）、部分アセチルミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩、部分ミリストイル化カルボキシメチルキトサン、部分ミリストイル化カルボキシメチルキチン、部分ミリストイル化キチン乳酸塩、部分ミリストイル化四級化キトサングリコ−ル酸塩等を利用するのが好ましい。 ここで、「部分導入」とは構成単糖１残基当たりにアシル基等の脂肪酸基がどの程度導入されているかを示すもので、「脂肪酸基を0.1 〜50.0％部分導入した」とは、たとえばキトサンの場合であれば、構成単糖であるヘキソサミン1000残基に、脂肪酸基が1 〜500 個導入されていることを意味する。このように炭素数４〜20のアシル基等の脂肪酸基が部分導入されたキチン、キトサンの誘導体は、両親媒性を示すものである。 上記の場合の平均分子量は、たとえばデータモジュールＧＰＣ用カートリッジを連結させたＧＰＣ−ＨＰＬＣ〔ゲル濾過クロマトグラフィーカラム：東ソー（株）製ＴＳＫ−ｇｅｌ−Ｇ3000ＷＸＬ＋ＴＳＫ−ｇｅｌ−Ｇ2500ＰＷＸＬ、溶媒：0.4 Ｍ酢酸−酢酸Ｎａ緩衝液（ｐＨ＝4.8)〕分析により分子量分布を明らかにすることによって測定される。分子量スタンダードとしては、キトサンオリゴ糖（分子量：413,1006）、デキストラン硫酸塩（分子量:5000 、8000) 及びプルラン分子量スタンダードが用いられる。また、粘度測定法等からも平均分子量を求めることが可能である。 キトサンは、天然多糖であるキチンの高脱アセチル化物であり、脱アセチル化度50〜100 ％を示す脱アセチル化キチンを元に誘導体を合成するのが好ましい。 アミノ酸又はその誘導体と、キチン、キトサン又はこれらの誘導体の共存比は、特に限定されないが、アミノ酸又はその誘導体100 容量に対してキチン、キトサン又はこれらの誘導体の容量比が0.1 〜20容量であることが望ましい。 本発明における皮膚外用剤又は化粧料に対する組成物の配合量は、特に限定されるものではないが、外用剤等の全量中、乾燥固形物重量で0.0005〜５質量％が好ましい。0.0005質量％未満では本発明の効果が充分に得られない可能性があり、一方、５質量％を越えても、その増量に見合った効果の向上は認められないからである。この観点からは、0.001 〜３質量％がより好ましい。 皮膚外用剤の形態は特に限定されるものではなく、たとえば、ローション、エッセンス、ジェル、乳液、乳化ローション及びクリーム等にすることができる。より具体的には、低分子界面活性剤を含まない炎症予防軽減用のスキンケアクリーム、乳液状の乳化ファンデーション、乳液状の化粧下地、乳化型マスカラ等の製剤として提供することができる。 また、皮膚外用剤の形態に応じ、上記必須成分以外に化粧料や外用剤で一般的に用いられる成分を本発明の効果を阻害しない範囲で配合できる。たとえばブチレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール類、セタノール、ベヘニルアルコール等の高級アルコール類、流動パラフィン、スクワラン等の非極性油剤類、パルミチン酸イソプロピル、ミリスチン酸イソプロピル等のエステル系油剤類、小麦胚芽油やオリーブ油等の植物油類、トリメチルシロキシケイ酸、メチルフェニルポリシロキサン等のシリコン化合物類、パーフルオロポリエーテル等のフッ素化合物類が挙げられる。また、保湿柔軟化剤、抗酸化剤、収斂剤、美白剤、抗菌剤、抗炎症剤、紫外線吸収剤類、紫外線散乱剤、ビタミン類、酵素等の医薬部外品原料規格、化粧品種別配合成分規格、化粧品原料基準、日本薬局方、食品添加物公定書規格等の成分等が挙げられる。 以下、本発明の実施例について説明する。（実施例１） 本実施例では、シトルリンと部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩とを混合して活性酸素抑制用の組成物を調整した。具体的にはシトルリン１％、及び部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩0.01％を含む溶液を調製し、これを活性酸素抑制用の組成物とした。部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩としては、ピアス株式会社製のPM−キトサンを用いた。 このようにして調製した活性酸素抑制用組成物のヒドロキシラジカルの消去活性を測定し、消去作用を試験した。一方、シトルリン１％のみを含む溶液（比較例１−１）、及び部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩0.01％のみを含む溶液（比較例１−２）を調製し、同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定して、上記混合物である活性酸素抑制用の組成物と比較した。 反応組成は、40mM K-Pi buffer（pH 7.4）、0.26mMアスコルビン酸、0.15mM FeEDTA 、0.6mM 過酸化水素、2mM サリチル酸と、上記シトルリン、部分ミリストイル化キトサン等の目的とする溶質を含み、全量を400mL とし、アスコルビン酸−過酸化水素系によりヒドロキシラジカルを発生させた。25℃で90分間保温した後、水酸化されたサリチル酸を誘導体化して発色させ、510nm の吸光度を測定することにより、ラジカルの検出を行った。コントロールには、試料の代わりに精製水を添加し、ブランクは、アスコルビン酸、FeEDTA、過酸化水素を除いた溶液を用いて測定した。 ヒドロキシラジカル消去率は、以下の計算式に従い、算出した。 ヒドロキシラジカル消去率 (%)＝〔１−（試料OD−ブランクOD）／（コントロールOD−ブランクOD）〕×100 この式において、ＯＤとは、510nm における吸光度を示す。生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表１及び図１に示す。 表１及び図１からも明らかなように、シトルリンのみを含む溶液の比較例１−１では約17％の消去活性が得られ、部分ミリストイル化キトサンのみを含む溶液の比較例１−２では約３％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約28％の消去活性が得られた。この結果から、シトルリンと部分ミリストイル化キトサンとの双方を含む液の場合には、シトルリンのみを含む溶液の消去活性の数値と、部分ミリストイル化キトサンのみを含む溶液の消去活性の数値とを合算した以上の消去活性が得られることがわかった。このことから、シトルリンと部分ミリストイル化キトサンとの双方を含有させることで、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（実施例２） 本実施例では、シトルリンの濃度を２％とし、部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩の濃度を0.05％とした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１と同じである。 そして、本実施例の活性酸素抑制用の組成物について、実施例１と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定した。一方、シトルリン２％のみを含む溶液（比較例２−１）、及び部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩0.05％のみを含む溶液（比較例２−２）を調製し、同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定して、上記混合物である本実施例の活性酸素抑制用の組成物と比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表２に示す。 表２からも明らかなように、シトルリンのみを含む溶液の比較例２−１では約22％の消去活性が得られ、部分ミリストイル化キトサンのみを含む溶液の比較例２−２では約29％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約57％の消去活性が得られた。この結果から、シトルリンと部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩との双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（実施例３） 本実施例では、キトサン誘導体として実施例２の部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩に代えて、濃度0.1 ％のカルボキシメチルキチンを用いた。シトルリンの濃度は実施例２と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１、２と同じである。 本実施例の活性酸素抑制用の組成物について、実施例１、２と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し、シトルリン２％のみを含む溶液（比較例３−１）、及びカルボキシメチルキチン0.1 ％のみを含む溶液（比較例３−２）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して本実施例の活性酸素抑制用の組成物と比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表３に示す。 表３からも明らかなように、比較例３−１では約22％の消去活性が得られ、比較例３−２では約８％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約35％の消去活性が得られた。この結果から、シトルリンとカルボキシメチルキチンとの双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（実験例４） 本実施例では、キトサン誘導体として実施例２の部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩に代えて、濃度0.1 ％のキトサンピロリドンカルボン酸塩を用いた。シトルリンの濃度は実施例２、３と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至３と同じである。 本実施例の活性酸素抑制用の組成物について、実施例１乃至３と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し、シトルリン２％のみを含む溶液（比較例４−１）、及びキトサンピロリドンカルボン酸塩0.1 ％のみを含む溶液（比較例４−２）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して本実施例の活性酸素抑制用の組成物と比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表４に示す。 表４からも明らかなように、シトルリンのみを含む溶液の比較例４−１では約22％の消去活性が得られ、キトサンピロリドンカルボン酸塩のみを含む溶液の比較例４−２では約15％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約41％の消去活性が得られた。この結果から、シトルリンとキトサンピロリドンカルボン酸塩の双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（実験例５） 本実施例では、アミノ酸として実施例２のシトルリンに代えて濃度２％のテアニンを用いた。キトサン誘導体の種類、濃度は実施例２と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至４と同じである。 本実施例の活性酸素抑制用の組成物について、実施例１乃至４と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し、テアニン２％のみを含む溶液（比較例５−１）、及び部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩0.05％のみを含む溶液（比較例５−２）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して本実施例の活性酸素抑制用の組成物と比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表５に示す。 表５からも明らかなように、比較例５−１では約20％の消去活性が得られ、比較例５−２では約28％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約56％の消去活性が得られた。この結果から、テアニンと部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩の双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（実験例６） 本実施例では、アミノ酸として濃度２％のテアニンを用い、キトサン誘導体の種類、濃度は実施例３と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至５と同じである。 本実施例の活性酸素抑制用の組成物について、実施例１乃至５と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し、テアニン２％のみを含む溶液（比較例６−１）、及びカルボキシメチルキチン0.1 ％のみを含む溶液（比較例６−２）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して本実施例の活性酸素抑制用の組成物と比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表６に示す。 表６からも明らかなように、比較例６−１では約20％の消去活性が得られ、比較例６−２では約８％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約33％の消去活性が得られた。この結果から、テアニンとカルボキシメチルキチンの双方を含む液の場合には、それぞれのヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（実験例７） 本実施例では、アミノ酸として濃度２％のテアニンを用い、キトサン誘導体の種類、濃度は実施例４と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至５と同じである。 本実施例の活性酸素抑制用の組成物について、実施例１乃至６と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し、テアニン２％のみを含む溶液（比較例７−１）、及びキトサンピロリドンカルボン酸塩0.1 ％のみを含む溶液（比較例７−２）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して本実施例の活性酸素抑制用の組成物と比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表７に示す。 表７からも明らかなように、比較例７−１では約20％の消去活性が得られ、比較例７−２では約15％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む溶液の場合は約40％の消去活性が得られた。この結果から、テアニンとキトサンピロリドンカルボン酸塩の双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇することが確認できた。（比較例８） 実施例２、５のアミノ酸に代えて、濃度２％のアルギニンを用いた。キトサン誘導体の種類、濃度は実施例２、５と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至７と同じである。 比較例８の組成物について、実施例１乃至７と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し（比較例８−１）、アルギニン２％のみを含む溶液（比較例８−２）、及び部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩0.05％のみを含む溶液（比較例８−３）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表８に示す。 表８からも明らかなように、比較例８−２では約16％の消去活性が得られ、比較例８−３では約28％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む比較例８−１では約41％の消去活性が得られた。この結果から、アルギニンと部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩の双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇しないことが確認できた。（比較例９） 比較例８と同様のアルギニンを用い、キトサン誘導体の種類、濃度は実施例３、６と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至７と同じである。 比較例９の組成物について、実施例１乃至７と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し（比較例９−１）、アルギニン２％のみを含む溶液（比較例９−２）、及びカルボキシメチルキチン0.1 ％のみを含む溶液（比較例９−３）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表９に示す。 表９からも明らかなように、比較例９−２では約16％の消去活性が得られ、比較例９−３では約９％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む比較例９−１では約22％の消去活性が得られた。この結果から、アルギニンとカルボキシメチルキチンの双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇しないことが確認できた。（比較例10） 比較例８、９と同様のアルギニンを用い、キトサン誘導体の種類、濃度は実施例４、７と同じとした。この両者を混合して活性酸素抑制用の組成物を調製したが、その調製方法は実施例１乃至７と同じである。 比較例10の組成物について、実施例１乃至７と同様にヒドロキシラジカル消去活性を測定し（比較例10−１）、アルギニン２％のみを含む溶液（比較例10−２）、及びキトサンピロリドンカルボン酸塩0.1 ％のみを含む溶液（比較例10−３）のヒドロキシラジカル消去活性を同様に測定して比較した。 生成したヒドロキシラジカルに対する消去率を表10に示す。 表10からも明らかなように、比較例10−２では約16％の消去活性が得られ、比較例10−３では約15％の消去活性が得られた。これに対して、両方を含む比較例10−１では約28％の消去活性が得られた。この結果から、アルギニンとキトサンピロリドンカルボン酸塩の双方を含む液の場合には、それぞれ単独の場合におけるヒドロキシラジカルの消去活性が相乗的に上昇しないことが確認できた。 以上の実施例２乃至７及び比較例８乃至10の結果をまとめると次表11のとおりである。表11において、○は相乗効果が認められたこと、△は必ずしも相乗効果が認められなかったこと、△−○はほぼ相乗効果が認められたことを示す。 すなわち、表11に示すように、アミノ酸であるシトルリン若しくはテアニンと、キトサン若しくはキチン誘導体との混合物のヒドロキシラジカル消去活性は、それぞれ単独のヒドロキシラジカル消去活性に比べて相乗的に上昇したが、アルギニンとキトサン若しくはキチン誘導体との混合物のヒドロキシラジカル消去活性は、それぞれ単独のヒドロキシラジカル消去活性に比べて相乗的に上昇しなかった。（実施例８） 本実施例では、アミノ酸とキトサン又はキチン誘導体との混合物のＤＮＡ損傷抑制作用について試験した。被検物質である濃度0.2 ％のシトルリン及び濃度0.05％の部分ミリストイル化カルボキシメチルキトサン、20mM Tris-Ｈｃｌ（pH7.4)、80ng/μL のｐＵＣ18プラスミドＤＮＡ、２mM 50μM ＥＤＴＡ−Ｎａ−Ｆｅ(III) 、８mM過酸化水素となるように全量が20uLの溶液を調整し、25℃で保温した。２時間後、反応溶液にゲルローディングバッファー（0.25％ＢＰＢ，１mMＥＤＴＡ，30％グリセロール）を1/2 当量加え、エチジウムブロマイド含有１％アガロースゲル、及びＴＢＥ（×0.5)を用いて電気泳動した。泳動後、アガロースゲルに紫外線照射を行い、泳動結果の写真を撮影した。各バンドの大きさはＡＴＴＯ Lanc & Spot Analyzer により定量した。 一方、被検物質を加えない状態で同様に電気泳動を行い、泳動結果の写真を撮影し、各バンドの大きさを同様に定量した。被検物質を加えた場合と加えない場合の定量値から、ＤＮＡ損傷の抑制率を求めた。抑制率は次式で示される。 抑制率（％）＝〔１−（被検物質を加えた場合のバンドの定量値）／（被検物質を加え ない場合のバンドの定量値）〕×100 この抑制率を求めることで、過酸化水素から発生するヒドロキシラジカルによってｐＵＣ18プラスミドＤＮＡが損傷される程度が、上記被検物質によりどの程度抑制されるかが確認できる。結果を表12に示す。 本実施例では、表12に示すように抑制率は25％であり、非常に優れた結果が得られた。 （実施例９） 本実施例では、被検物質として濃度0.2 ％のテアニン及び濃度0.05％のカルボキシメチルキチンの混合物を用いた。実施例８と同様の方法でＤＮＡ損傷抑制作用について試験した。本実施例では、表12に示すように抑制率は45％であり、実施例８と同様に非常に優れた結果が得られた。（比較例８） 被検物質として濃度0.2 ％のシトルリンを用いた。実施例８、９と同様の方法でＤＮＡ損傷抑制作用について試験した。比較例８では、表12に示すように抑制率は16％であり、ある程度の抑制作用は認められたが、実施例８に比べると抑制率は劣っていた。（比較例９） 被検物質として濃度0.2 ％のテアニンを用いた。実施例８、９と同様の方法でＤＮＡ損傷抑制作用について試験した。比較例９では、表12に示すように抑制率は29％であり、ある程度の抑制作用は認められたが、実施例９に比べると抑制率は劣っていた。（比較例10） 被検物質として濃度0.2 ％のシステインを用いた。実施例８、９と同様の方法でＤＮＡ損傷抑制作用について試験した。比較例10では、表12に示すように抑制率は５％以下であり、抑制作用はほとんど認められなかった。（比較例11） 被検物質として濃度0.2 ％のアルギニンを用いた。実施例８、９と同様の方法でＤＮＡ損傷抑制作用について試験した。比較例11では、表12に示すように抑制率は５％以下であり、抑制作用はほとんど認められなかった。（処方例１） 本処方例は、化粧料の一例としてのエッセンスの処方例であり、その組成は次のとおりである。 成分 配合量（質量％）(1) シトルリン 2.0 (2) 部分ミリストイル化キトサンピロリドン カルボン酸塩１％水溶液（製品名：PM−キトサン) 20.0 (3) アセチルシトルリン 0.5 (4) グリセリン 10.0 (5) ヒドロキシエチルセルロース 0.5 (6) メチルパラベン 0.1 (7) 精製水 残量 (1) 〜(3) の成分を均一に加熱処理し、超音波処理又は高圧乳化処理したものを凍結乾燥させることにより複合化させる。この複合化したものを、(4) 〜(7) の成分を混合、攪拌した攪拌溶解物に徐々に添加、溶解することにより、エッセンスを調製した。（処方例２） 本処方例は、化粧料の一例としてのローションの処方例であり、その組成は次のとおりである。 成分 配合量（質量％) (1) テアニン 1.5(2) アセチルヒスチジン 0.5(3) カルボキシメチルキトサン 0.2(4) 部分ミリストイル化キトサンピロリドン カルボン酸塩１％水溶液（製品名：PM−キトサン) 10.0(5) ブチレングリコール 10.0(6) グリセリン 5.0(7) クエン酸 0.01(8) メチルパラベン 0.2 (9) 精製水 残量 (1) 〜(4) の成分を均一に加熱処理し、超音波処理又は高圧乳化処理したものを凍結乾燥させることにより複合化させる。この複合化したものを、(5) 〜(9) の成分を混合、攪拌した攪拌溶解物に徐々に添加、溶解することにより、ローションを調製した。（処方例３） 本処方例は、化粧料の一例としての乳化ファンデーションの処方例であり、その組成は次のとおりである。 成分 配合量（質量％) (1) 流動パラフィン 2.0(2) ミリスチン酸イソプロピル 3.0(3) スクワラン 7.0(4) ワセリン 2.0(5) セタノール 1.5(6) 部分ミリストイル化キトサン乳酸塩 0.2(7) キトサンピロリドンカルボン酸塩 0.1(8) Ｎ−ジカルボキシメチルキトサン 0.1(9) 黄酸化鉄 4.0(10)タルク 5.5(11)酸化チタン 5.0(12)シトルリン 0.5(13)テアニン 1.0(14)グリセリン 5.0(15)メチルパラベン 0.1(16)精製水 残量 加熱処理した上記(6) 〜(13)の成分に、(1) 〜(5) の成分を添加し、ホモミキサー処理（8500rpm,20分処理）による乳化により乳化ファンデーションを調製した。（処方例４） 本処方例は、化粧料の一例としての乳化マスカラの処方例であり、その組成は次のとおりである。 成分 配合量（質量％) (1) 流動パラフィン 5.0 (2) ミツロウ 15.0 (3) ベヘニルアルコール 1.0 (4) ワセリン 2.0 (5) セタノール 1.5 (6) シトルリン 1.0 (7) 部分ミリストイル化キトサン ピロリドンカルボン酸塩１％水溶液（製品名：PM−キトサン〔ピアス株式会社製〕) 20.0 (8) グリセリン 1.0 (9) メチルパラベン 0.2 (10)黒酸化鉄 5.0 (11)タルク 2.5 (12)微粒子酸化チタン 1.0 (13)ナイロン末 4.0 (14)ヒドロキシエチルセルロース 0.5 (15)精製水 残量 加熱処理した上記(6) 〜(15)の成分に、加熱溶解させた上記(1) 〜(5) の油相組成のも＋−のを添加し、ホモミキサー処理による乳化によりpH4.8 の弱酸性の耐水性Ｏ／Ｗ型エマルションを調製した。（処方例５） 本処方例では、上記処方例１のエッセンス中の成分であるシトルリンに代えてプロリンを用い、アセチルシトルリンに代えてヒスチジンを用いた。その他の成分は、上記処方例１と同じであるため、その説明は省略する。（処方例６） 本処方例では、上記処方例２のローション中の成分であるテアニンに代えてトリメチルグリシンを用い、アセチルヒスチジンに代えてエクトインを用いた。その他の成分は、上記処方例２と同じであるため、その説明は省略する。（処方例７） 本処方例では、上記処方例３の乳化ファンデーション中の成分であるシトルリンに代えてトリプトファンを用い、テアニンに代えてシステインを用いた。その他の成分は、上記処方例３と同じであるため、その説明は省略する。（処方例８） 本処方例では、上記処方例４の乳化マスカラ中の成分であるシトルリンに代えてカルノシンを用いた。その他の成分は、上記処方例３と同じであるため、その説明は省略する。 本発明の組成物は、活性酸素抑制用、特にシワ、シミ等の皮膚老化や、肌荒れ、炎症性ニキビ等の皮膚細胞損傷への影響性が高いヒドロキシラジカルを抑制する皮膚膚外用剤、化粧料に広く適用することができる。シトルリンと部分ミリストイル化キトサンピロリドンカルボン酸塩とのヒドロキシラジカルに対する消去率の相乗効果を示すグラフ。 アミノ酸又はアミノ酸誘導体と、キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体とを含有することを特徴とする活性酸素抑制用の組成物。 アミノ酸又はアミノ酸誘導体が、シトルリン、プロリン、ヒスチジン、テアニン、トリメチルグリシン、セリン、トリプトファン、システイン、カルノシン、カルニチン、オルニチン、グルタチオン、若しくはＮ−アセチルシステイン、又はこれらの誘導体から選択される一種又は二種以上である請求項１記載の活性酸素抑制用の組成物。 アミノ酸又はアミノ酸誘導体が、シトルリン若しくはテアニン、又はこれらの誘導体である請求項１記載の活性酸素抑制用の組成物。 キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体が、平均分子量1000〜5000000のキチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体から選択される一種又は二種以上である請求項１乃至３のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物。 キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体が、炭素数４〜20の脂肪酸基を部分導入した平均分子量1000〜2000000 のキチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体から選択される一種又は二種以上である請求項１乃至３のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物。 請求項１乃至５のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物を含有することを特徴とする皮膚外用剤。 請求項１乃至５のいずれかに記載の活性酸素抑制用の組成物を含有することを特徴とする化粧料。 【課題】 シワ、シミ等の皮膚老化や、肌荒れ、炎症性ニキビ等の皮膚細胞損傷への影響性が高いヒドロキシラジカルを抑制する組成物と、その組成物を配合する皮膚外用剤、化粧料に関し、安定性，持続性が高く、短時間でほぼ完全にヒドロキシラジカル等の活性酸素を抑制することのできる活性酸素抑制効果に優れた組成物、及びその組成物を配合した皮膚外用剤、化粧料を提供することを課題とする。 【解決手段】 活性酸素抑制用の組成物に、アミノ酸又はアミノ酸誘導体と、キチン若しくはキトサン又はキチン若しくはキトサンの誘導体とを含有させたことを特徴とする。【選択図】 なし

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