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| タイトル： | 特許公報(B2)_インドール誘導体の製造法 |
| 出願番号： | 2000098393 |
| 年次： | 2011 |
| IPC分類： | C07D 209/04 |
特許情報キャッシュ
浪江 賢一 高橋 康弘 JP 4681097 特許公報(B2) 20110210 2000098393 20000331 インドール誘導体の製造法 大日本印刷株式会社 000002897 平木 祐輔 100091096 藤田 節 100118773 島村 直己 100101904 浪江 賢一 高橋 康弘 20110511 C07D 209/04 20060101AFI20110414BHJP JPC07D209/04 C07D 209/00-209/96 CA/REGISTRY(STN) CASREACT(STN) 特開昭６３−１７４９７０（ＪＰ，Ａ） 特開昭５７−０９１９７３（ＪＰ，Ａ） Robin D. Clark，Synthesis of Protected Indoles from N-(tert-Butoxycarbonyl)-2-alkylanilines，Synlett，１９９０年，No.4，207-208頁 5 2001288168 20011016 12 20061130 鈴木 智雄 【０００１】本発明はインドール誘導体の新規な製造法に関するものである。【発明が属する技術分野】インドール誘導体は医農薬の中間体として極めて重要な化合物である。【０００２】【従来の技術】４位置換インドール類は、医薬、農薬、電子材料等の原料として重要である。この化合物の製造法としては、▲１▼３位置換アニリンから合成された３位置換フェニルヒドラジンを経てＦｉｓｃｈｅｒ反応によりインドール環を形成し、次いで脱炭酸反応を行なう方法｛Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３０，３４５７（１９６５）｝や▲２▼２位置換−６−ニトロトルエンを原料としスチレン誘導体を経てＴｉＣｌ３を触媒として閉環する方法｛Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．，２９（３），７２６，（１９８１）｝、▲３▼またはＰｄやＮｉ触媒を使用して還元閉環を行なう方法（ＵＳ ３９７６６３９）▲４▼同じく２位置換−６−ニトロトルエンを原料としてフェニルエタノール誘導体、インドリンを経てインドールを得る方法｛Ｊ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ．Ｃｈｅｍ．，２５（２），３６１，（１９８８）｝、▲５▼２−アミノー６位置換トルエンを原料としてイミデート誘導体を経てインドール環へ閉環する方法｛Ｏｒｇｎｉｃ．Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ．，６５，１４６（１９８７）｝、▲６▼ｏ−ニトロフェニルピルビン酸エステル誘導体を経てインドール環へ閉環するライサート法｛Ｂｅｒ．，３０，１０３０、（１８９７）｝などが知られている。【０００３】しかしながら、これら従来の方法においては原料および反応率、反応操作において次の欠点が挙げられる。▲１▼の方法ではＦｉｓｃｈｅｒ反応による閉環の際の位置選択性が低く、収率が低いという大きな問題がある。▲２▼の方法では触媒として用いるＴｉＣｌ３は空気または水分との接触により発火する恐れがある等の危険性を有し取り扱いが困難で、且つ低収率であるため工業的製造法としては好ましくない。▲３▼の方法では高価な貴金属触媒の使用およびその処理に問題が残る。▲４▼の方法で使用するパラホルムアルデヒドは劇物、劇薬で有害性があり、大量使用は好ましくない。▲５▼の方法は反応操作が煩雑であり、反応、品質の再現性を得ることが難しく、▲６▼の方法はｏ−ニトロフェニルピルビン酸エステル誘導体の合成が容易ではなく、また、還元閉環、加水分解さらに脱炭酸と工程が長いことが問題である。【０００４】【課題を解決するための手段】本発明者はかかる課題を解決すべく鋭意研究を行なった結果、２−アミノ−６位置換トルエンを原料に、このアミノ基を一旦アシル化剤でアシル化した後に、これを有機溶媒中でＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタール類と有機２級アミンの存在下（または非存在下）反応する事により、アシル化、閉環の単純な反応の二工程で、面倒な廃棄物の放出もなく、しかも好収率でほぼ定量的にインドール誘導体が生成することを見い出し、本発明に至った。【０００５】すなわち、本発明の方法は、一般式（１）【化１】[式中Ｒ１は、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキル基、Ｃ２−Ｃ６置換又は無置換アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６置換又は無置換アルキニル基、置換又は無置換アリール基、Ｃ１―Ｃ６アルコキシ基、置換又は無置換アリールオキシ基、ホルミル基、ハロゲン、モノ―もしくはジ―（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換アミノ基、ヒドロキシ基、モノ―もしくはジ―（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換アミド基、Ｎ−置換もしくは無置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）カルバモイル基、無置換もしくはモノ―もしくはジ―もしくはトリ（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換ウレイド基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）カルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシカルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシスルホニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）チオカルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシチオカルボニル基、チオール基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）チオ基、無置換もしくはモノ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）スルファモイル基無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）スルホンアミド基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）オキシスルホニルアミノ基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）オキシカルボニルアミノ基、カルボキシル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシカルボキシル基、Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシスルホキシル基、Ｃ３―Ｃ６置換又は無置換シクロアルキル基、置換又は無置換アラルキル基、Ｏ原子又はＳ原子あるいはＮ原子を少なくとも１個含む５員もしくは６員置換又は無置換複素芳香環Ｏ原子又はＳ原子あるいはＮ原子を少なくとも１個含む５員もしくは６員置換又は無置換複素飽和環を表す。式中Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同一または異なって、水素原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキル基、Ｃ２−Ｃ６置換又は無置換アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６置換又は無置換アルキニル基、置換又は無置換アリール基、Ｃ１―Ｃ６アルコキシ基、置換又は無置換アリールオキシ基、ホルミル基、ハロゲン、モノ―もしくはジ―（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換アミノ基、ヒドロキシ基、モノ―もしくはジ―（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換アミド基、Ｎ−置換もしくは無置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）カルバモイル基、無置換もしくはモノ―もしくはジ―もしくはトリ（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換ウレイド基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）カルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシカルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシスルホニル基（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）チオカルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシチオカルボニル基、チオール基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）チオ基、無置換もしくはモノ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）スルファモイル基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）スルホンアミド基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）オキシスルホニルアミノ基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）オキシカルボニルアミノ基、カルボキシル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシカルボキシル基、Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシスルホキシル基、Ｃ３―Ｃ６置換又は無置換シクロアルキル基、置換又は無置換アラルキル基、Ｏ原子又はＳ原子あるいはＮ原子を少なくとも１個含む５員もしくは６員置換又は無置換複素芳香環、Ｏ原子又はＳ原子あるいはＮ原子を少なくとも１個含む５員もしくは６員置換又は無置換複素飽和環を表す。また、Ｒ２とＲ３もしくはＲ３とＲ４は互いに結合して５又は６員環を形成してもよい。式中Ｒ５は水素原子、ニトロ基、シアノ基、Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキル基、Ｃ２−Ｃ６置換又は無置換アルケニル基、Ｃ２−Ｃ６置換又は無置換アルキニル基、置換又は無置換アリール基、Ｃ１―Ｃ６アルコキシ基、置換又は無置換アリールオキシ基、ホルミル基、ハロゲン、モノ―もしくはジ―（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換アミノ基、ヒドロキシ基、モノ―もしくはジ―（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換アミド基、Ｎ−置換もしくは無置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）カルバモイル基、無置換もしくはモノ―もしくはジ―もしくはトリ（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）置換ウレイド基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）カルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシカルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシスルホニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）チオカルボニル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシチオカルボニル基、チオール基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）チオ基、無置換もしくはモノ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）スルファモイル基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）スルホンアミド基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）オキシスルホニルアミノ基、無置換又はモノ―もしくはジ―Ｎ置換（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルもしくは置換又は無置換アリール）オキシカルボニルアミノ基、カルボキシル基、（Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシカルボキシル基、Ｃ１―Ｃ６置換又は無置換アルキルあるいは置換又は無置換アリール）オキシスルホキシル基、Ｃ３―Ｃ６置換又は無置換シクロアルキル基、置換又は無置換アラルキル基、Ｏ原子又はＳ原子あるいはＮ原子を少なくとも１個含む５員もしくは６員置換又は無置換複素芳香環、Ｏ原子又はＳ原子あるいはＮ原子を少なくとも１個含む５員もしくは６員置換又は無置換複素飽和環を表す。]で表されるトルイジン類をアシル化剤（ここで使用するアシル化剤とは、カルボン酸のカルボキシル基から−ＯＨを除いて誘導される基だけでなく、硫酸、硝酸、燐酸のような無機酸もしくはカルバミン酸、炭酸、スルホン酸、ホスホン酸のような有機酸から−ＯＨを除いて誘導された基も含む、広義の酸から―ＯＨを除いて誘導された基の意味である。）と反応させる事により得られる下記一般式（２）【化２】[式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は前記と同一である]で表されるＮ−アシル体を有機溶媒中、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタール類と有機２級アミンの存在下（または非存在下）反応する事を特徴とする下記一般式（３）【化３】[式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は前記と同一である]で表されるインドール誘導体の製造法を提供するものである。【０００６】本発明はインドール誘導体を製造するに際し、アシル化、閉環の二工程で行なうものであり、面倒な廃棄物の放出もなく操作性も向上して、しかも好収率で目的物が得られるので工業上の利用価値が極めて高い。【０００７】本発明の製造方法を詳細に説明する。本発明では、まずアシル化剤を用いてトルイジン類のＮ−アシル化を行なう。本発明の製造法で用いる原料であるトルイジン類は一般式（１）で表される化合物である。そのような化合物としては、例えば、以下のような化合物が挙げられる。【０００８】【化４】【０００９】【化５】【００１０】【化６】【００１１】【化７】【００１２】【化８】【００１３】【化９】【００１４】【化１０】【００１５】【化１１】【００１６】【化１２】【００１７】【化１３】【００１８】【化１４】【００１９】【化１５】【００２０】【化１６】【００２１】本発明に使用されるアシル化剤としては、酢酸、無水酢酸、アセチルハライドベンゾイルハライド、ｐ−トルエンスルホン酸ハライド、ハロゲノ炭酸エチル、ハロゲン化ジエチルカルバミル、シンナモイルハライド、２−フロイルハライドプロピオニルハライド、メタンスルホニルハライド、ジエチルリン酸ハライド等が挙げられる。特に工業的見地から無水酢酸、アセチルクロライドの使用が有利である。【００２２】アシル化剤の使用量はトルイジン類に対して０．１倍モルから１０倍モル、好ましくは等モルから１．２倍モルの範囲である。等モル以下では原料残が多量に残ってしまい実用的ではなく、１．２倍モル以上では副反応（ジアシル化）が起こるので好ましくない。【００２３】本発明のアシル化反応においては反応溶媒を使用する事が好ましく、反応溶媒としては通常アシル化反応に使用される溶媒が用いられる。その具体例としては酢酸エチル、酢酸メチル、ジオキサン、ＣＣｌ４，ＣＨＣｌ３，ＣＨ２Ｃｌ２、ＴＨＦ、ヘキサン、リグロイン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンアセトン、トルエン、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル等が挙げられるが、好ましくはアセトン、トルエン、アセトニトリルである。これらは単独あるいは２種以上の混合系でも用いられる。【００２４】アシル化反応の反応溶媒の使用量はトルイジン類の種類により一定しないが、通常１〜１００倍（容量）、好ましくは２〜１０倍（容量）の範囲である。【００２５】アシル化反応の反応温度は特に制限はないが好ましくは１０℃〜１００℃の範囲である。１０℃以下では反応速度が小さく実用的ではなく、１００℃以上では副反応（ジアシル化）が起こるので好ましくない。【００２６】反応時間はトルイジン類の種類あるいは反応温度等によって一定しないが、通常は０．１乃至１０時間である。【００２７】このようにして得られた一般式（２）で示されるＮ−アシル体は、反応液を一般的な濾過、抽出または／かつ濃縮、蒸留することによって単離される。【００２８】一般式（２）で示されるＮ−アシル体は閉環反応によりインドール誘導体へと変換される。本発明の閉環反応においては反応溶媒を使用することが好ましく、反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール等の低級脂肪族アルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソロブ、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル、ジオキサン、ＤＭＦ、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）、ＣＣｌ４、ＣＨＣｌ３，ＣＨ２Ｃｌ２、ＴＨＦ、ヘキサン、リグロイン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、トルエン、ベンゼン、キシレン、アセトニトリル等が挙げられるが、好ましくはＤＭＦ、ＤＭＳＯ、トルエン、キシレン等の高沸点溶媒である。【００２９】閉環反応の反応溶媒の使用量はＮ−アシル体の種類により一定しないが、通常１〜１００倍（容量）、好ましくは２〜１０倍（容量）の範囲である。【００３０】閉環反応に使用されるＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタール類としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドビス｛２−（トリメチルシリル）エチル｝アセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジベンジルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジ−ｔ−ブチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジシクロヘキシルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジイソプロピルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジネオペンチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等が挙げられるが、特に工業的見地からＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールの使用が有利である。【００３１】このＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジアルキルアセタール類の使用量はＮ−アシル体に対して０．１倍モルから１０倍モル、好ましくは等モルから１．５倍モルの範囲である。等モル以下では原料残が多量に残ってしまい実用的ではなく、１．５倍モル以上では経済性を考慮すると好ましくない。【００３２】閉環反応に使用される有機２級アミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−２−エチルヘキシルアミン、ジアリルアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、ジイソプロパノールアミン、３、３’−イミノジプロピオニトリル、イミノジ酢酸、エチレンイミン、ジシクロヘキシルアミン、ジベンジルアミン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニリン、ジフェニルアミン、ピペリジン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、ピペラジン、Ｎ−メチルピペラジン、モルホリン、ピロリジン、イミダゾール、トリアゾール等が挙げられるが、特に工業的見地からジエチルアミン、ジイソブチルアミン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、モルホリン、ピロリジンの使用が有利である。【００３３】この有機２級アミンは反応性により使用しなくても良い場合もあるが、使用する場合は使用量に特に制限はないが、好ましくは等モルから１．５倍モルの範囲である。反応性により等モル以下でも問題ないが、１．５倍モル以上では経済性を考慮すると好ましくない。【００３４】閉環反応の反応温度は特に制限はないが好ましくは５０℃〜１５０℃の範囲である。５０℃以下では反応速度が小さく実用的ではなく、１５０℃以上では副反応が起こるので好ましくない。【００３５】反応時間はＮ−アシル体の種類あるいは反応温度等によって一定しないが、通常は０．１乃至１０時間である。【００３６】このように本発明で得られた一般式（３）で示されるインドール誘導体は反応液を一般的な濾過、抽出または／かつ濃縮、蒸留することによって単離される。所望により公知方法例えばカラムクロマト、蒸留、再結晶等により精製することが可能である。【００３７】【実施例】以下に、実施例を掲げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【００３８】比較例１攪拌機、還流冷却器、温度計の備わった２００ｍｌフラスコに、２−アミノ−６−ニトロトルエン３０．４ｇ（０．２ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミアミドジメチルアセタール３５．７ｇ（０．３ｍｏｌ）、ピロリジン２１．３ｇ（０．３ｍｏｌ）およびＤＭＦ１５０ｍｌを仕込んだ後、内温１００℃で３時間攪拌した。その後、濃縮し、濃縮残渣をガスクロマトグラフィーマススペクトロメーターで分析したところ、痕跡の４−ニトロインドールを得た。【００３９】実施例１攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートの備わった２００ｍｌフラスコに、２−アミノ−６−ニトロトルエン４５．６ｇ（０．３ｍｏｌ）およびアセトニトリル９０ｍｌを仕込んだ後、室温攪拌下、滴下ロートに入れた無水酢酸３３．７ｇ（０．３３ｍｏｌ）を約１０分で添加した。添加終了後、放冷攪拌中に６０℃近くまで昇温があり、この時点で結晶が析出した。内温が室温まで戻った時点から１時間氷冷し、濾過することにより、ガスクロマトグラフィー純度１００．０％の２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−ニトロトルエン５０．７ｇを得た。２−アミノ−６−ニトロトルエンに対する２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−ニトロトルエンの収率は８７．１％であった。【００４０】実施例２攪拌機、還流冷却器、温度計の備わった５００ｍｌフラスコに、２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−ニトロトルエン４８．５ｇ（０．２５ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミアミドジメチルアセタール４４．６ｇ（０．３７５ｍｏｌ）、ピロリジン２６．６ｇ（０．３７５ｍｏｌ）およびＤＭＦ２５０ｍｌを仕込んだ後、内温１００℃で７時間攪拌した。その後、濃縮し、褐色のオイルを得た。このオイルをメタノール−水混合溶媒で再結晶し、ガスクロマトグラフィー純度１００．０％の４−ニトロインドール３３．０ｇが得られた。２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−ニトロトルエンからの収率は８６．８％であった。融点２０６〜２０７℃。【００４１】実施例３攪拌機、還流冷却器、温度計、滴下ロートの備わった２００ｍｌフラスコに、２−アミノ−６−クロロトルエン４２．６ｇ（０．３ｍｏｌ）およびアセトニトリル９０ｍｌを仕込んだ後、室温攪拌下、滴下ロートに入れた無水酢酸３３．７ｇ（０．３３ｍｏｌ）を約１０分で添加した。添加終了後、放冷攪拌中に６０℃近くまで昇温があり、この時点で結晶が析出した。内温が室温まで戻った時点から１時間氷冷し、濾過することにより、ガスクロマトグラフィー純度１００．０％の２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−クロロトルエン４６．９ｇを得た。２−アミノ−６−クロロトルエンに対する２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−クロロトルエンの収率は８５．２％であった。【００４２】実施例４攪拌機、還流冷却器、温度計の備わった５００ｍｌフラスコに、２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−クロロトルエン４５．９ｇ（０．２５ｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルミアミドジメチルアセタール４４．６ｇ（０．３７５ｍｏｌ）、ピロリジン２６．６ｇ（０．３７５ｍｏｌ）およびＤＭＦ２３０ｍｌを仕込んだ後、内温１００℃で７時間攪拌した。その後、濃縮し、褐色のオイルを得た。このオイルを蒸留により精製し、ガスクロマトグラフィー純度１００．０％の４−クロロインドール３１．５ｇが得られた。２−（Ｎ−アセチルアミノ）−６−クロロトルエンからの収率は８３．２％であった。沸点１２９〜１３０℃／４ｍｍ。【００４３】【発明の効果】本発明法によれば、入手困難である置換基を有するインドール誘導体を短い工程で、しかも、位置選択的に収率良く製造することができ、これによってその工業的な製造が可能になり、その製造コストの大幅な低減を図る事ができる。 下記一般式（１） ［式中Ｒ１は、ニトロ基又は塩素原子を表す。 式中Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、水素原子を表す。 式中Ｒ５は水素原子を表す。］ で表されるトルイジン類をアシル化剤（ここで使用するアシル化剤とは、無水酢酸又はアセチルクロライドを表す。）と反応させる事により得られる下記一般式（２） ［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は前記と同一であり、Ａは前記アシル化剤によって付加された基である］で表されるＮ−アシル体を有機溶媒中、有機２級アミンの存在下で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドビス｛２−（トリメチルシリル）エチル｝アセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジベンジルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジ−ｔ−ブチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジシクロヘキシルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジエチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジイソプロピルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジネオペンチルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジプロピルアセタール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドから選択される化合物と反応させる事を特徴とする下記一般式（３） ［式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５は前記と同一である］で表されるインドール誘導体の製造法。 Ｒ１がニトロ基である請求項１記載のインドール誘導体の製造法。 Ｎ−アシル体を得るために使用するアシル化剤が無水酢酸である請求項１記載の製造法。 一般式（２）で表されるＮ−アシル体を、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルアセタールと反応させる請求項１記載の製造法。 有機２級アミンがピロリジンまたはピペリジンである請求項１記載の製造法。