タイトル: | 特許公報(B2)_臨界ミセル濃度の測定方法 |
出願番号: | 1997100741 |
年次: | 2005 |
IPC分類: | 7,G01N21/41,G01N21/27 |
荻田 正巳 藤波 達雄 吉村 賢司 JP 3691209 特許公報(B2) 20050624 1997100741 19970312 臨界ミセル濃度の測定方法 荻田 正巳 597054677 太田 明男 100100103 荻田 正巳 藤波 達雄 吉村 賢司 20050907 7 G01N21/41 G01N21/27 JP G01N21/41 A G01N21/27 C 7 G01N21/00-21/61 G01N27/12 G01N33/00-33/46 JOIS、PATOLIS 特開昭62−233759(JP,A) 特開平07−012721(JP,A) 特開平02−001803(JP,A) 特表平09−500685(JP,A) 特表平05−506308(JP,A) 国際公開第97/000437(WO,A1) 3 1998253531 19980925 6 20031120 特許法第30条第1項適用 平成8年9月17日 電気化学会化学センサ研究会発行の「CHEMICAL SENSORS Vol.12 Supplement B(1996)」に発表 樋口 宗彦 【0001】【発明の属する技術分野】本発明は、界面活性剤の諸性質が臨界ミセル濃度(CMC)を境に急激に変化する点に注目する。このCMC点を光ファイバ、又は薄膜層から成る光導波路の光伝送路を用いて検出する方法と、その検出装置に関するもので界面活性剤を利用する化学工業の産業分野で利用できる。【0002】【従来の技術】これまで、臨界ミセル濃度(CMC)の測定方法としては、電気伝導法、粘度法、色素法、表面張力法、光散乱法などがあるが、電気伝導法はイオン性の活性剤には使用できるが、非イオン性の活性剤では測定できない。粘度法は補正が必要である。色素法は色素の退色による誤差があり、最も一般的な表面張力法は試料溶液表面の流れから生ずる誤差を除去する必要があり、いずれも一長一短で長時間の測定時間を要する。【0003】【発明が解決しようとする課題】本発明は、光伝送路を使って従来のCMC測定法がもつ問題点を解決し、簡便且つ迅速に測れる測定方法とすると共に、その検出装置を提供しようとするものである。【0004】【課題を解決するための手段】本発明は、まず光伝送路のセンシング部分(ここでは光ファイバのコアの表面部分または被覆されていない光導波路)のエバネッセント波により、界面の吸着状況を屈折率に基因する反射率の変化により出力光の強度変化として観測する。この出力光の強度変化においては、濃度の増加と共に、光伝送路表面に吸着するその界面活性剤溶液中の分子の数も次第に増加する。更に濃度を濃くすると、その気体−溶液表面は分子でびっしり満たされる。この時点からは光伝送路界面への吸着の度合も急速に強まり、濃度と出力光の関係がそれまでの勾配とは異なり出力光の強度が急上昇する。つまり、CMC点を越えると、その後の濃度増加は該溶液中の分子が光伝送路界面への吸着を急に強め始め、その増加により光反射率が増加し、光伝送路の出力の急速な増大として表されることになる。この勾配の不連続変化点がCMC点となる。【0005】【発明の実施の形態】発明の実施の形態を実施例に基づき図面を参照して説明する。図1において、光伝送路1として光ファイバを用いた場合、センサ部分はクラッドを剥がしコア22をむき出しにし、光導波表面部分2とする。界面活性剤溶液3中のこの光導波表面部分2(コア22の表面)がセンシング領域となる。界面活性剤としてドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを使用した。CMCの直前は、例えばプラスチックコアのように一部吸着するものもあるが、単調な出力光の増加は起きない。CMC点を越えると光ファイバのコア界面への吸着が急速に進み、その結果反射率が増加し、図2に示すように出力光が急に増大することになる。この場合3×10−3(mol/l)のCMC値を得た。この値は文献値から得られるCMC値と一致している。【0006】図1において光源4からの入射光線の入射角を選ぶことにより、エバネッセント波の反射回数と同時に入射光に対する最適反射率の出力光を選択できる。【0007】図3に示される実施例では、光源4として凸レンズ9を有する半導体レーザダイオードと、凸レンズ10又は凸レンズ状を備えた光ファイバ21により光入射手段50を形成できる。この場合は、入射角度を変えることなく、レンズの焦点距離と両者間の置かれた距離により最適測定条件が決まる。【0008】図4に示される実施例では、光ファイバ21のクラッド23を剥がしたコア22の端面に金属、例えばアルミニウム(Al)又は白金(Pt)等を0.2μmを蒸着し金属反射膜8とする。出力信号としての出力光は反射光をスプリッターを通して検出するものである。【0009】図5に示される実施例では、アルミニウム(Al)、白金(Pt)などの金属反射膜8とコア22の表面との間に、クラッド23を剥がさない光ファイバ21を残しておいたものである。金属反射膜8が弱い場合は、光ファイバ21と金属反射膜8とを樹脂等、例えばエポキシ樹脂で被覆し、金属反射膜8を物理的、化学的に保護することができる。【0010】図6に示される実施例では、基板14に、例えば板ガラスに溶液セル11を機械加工又はエッチングで掘って作る。光伝送路1としてこの板ガラスより高い屈折率のガラスを、例えばスパッタにより光導波表面部分2とし、溶液セル11に界面活性剤溶液3を満たす。光の入力、出力は光カプラー100を介して行う。【0011】図7に示される実施例では、基板14に、例えば板ガラスをイオン交換して表面に1μm前後の光伝送薄膜層15を形成したものである。この上に測定用の溶液セル16を、例えば陽極酸化法又は接着剤で取り付ける。光の入力、出力はカプラープリズム200を介して行う。【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成されているので、以下に記載されるような効果を奏する。【0012】 本発明は、臨界ミセル濃度の測定に液体−固体界面に対する吸着現象を利用している。この吸着現象をエバネッセント波と溶液の屈折率、つまり溶液−固体界面への吸着による反射率の変化を利用して、出力光の急激な変化を生じさせる濃度の値(CMC値)が現れることを使っている。光伝送路の界面を利用してセンシングされた信号はそのまま光伝送路を伝わる。減衰が少なく電磁誘導の影響を受ず、遠隔測定が行える。界面活性剤溶液のこのCMC測定方法には、次のような効果がある。1.本測定方法は、迅速且つ簡便な測定ができる。2.図2に示された結果から明らかなように、CMC値がこの曲線の屈曲点として明確に得られる。3.試料を調整の際、表面張力や光散乱法のような微妙な注意を払わなくてよい。4.本測定方法は、イオン性界面活性剤に限らず非イオン性のものまで適用できる。5.光伝送路を使っていることにより、離れた場所での信号処理、コンピュータ制御が行える。6.溶液−固体の界面を構成する光伝送路は、ガラス材質に限らずプラスチックやテフロン(登録商標)などの合成樹脂材、光を通すセラミックや半導体の無機材料も使うことができる。【図面の簡単な説明】【図1】本発明の臨界ミセル濃度(CMC)の測定方法、及び測定装置の一実施例を示す概略図である。【図2】この図2は、規格化された出力光の強さと界面活性剤濃度の関係を示す。ガラスファイバ(PCS)をドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム溶液に浸した場合の結果である。【図3】光入射結合部の実施例を示す断面図である。【図4】センシング部の一実施例を示す図である。【図5】センシング部の他の実施例を示す図である。【図6】センシング部の他の実施例を示す図である。【図7】センシング部の他の実施例を示す図である。【符号の説明】1 光伝送路2 光導波表面部分3 界面活性剤溶液8 金属反射膜9、10 凸レンズ11、16 溶液セル14 基板15 光伝送薄膜層21 光ファイバ22 コア23 クラッド50 光入射結合手段51 出力光を検出する手段100、100A、100B、 光カプラー200、200A、200B、 カプラープリズム 光伝送路(1)の光導波表面部分(2)に界面活性剤溶液(3)中の分子を吸着させ、界面活性剤の臨界ミセル濃度を測定する方法であって、界面活性剤溶液(3)中の界面活性剤分子を光伝送路(1)の光導波表面部分(2)のセンシング領域に吸着させ、該センシング領域における光導波表面部分(2)を経由したエバネッセント波によって生ずる出力光の変化を、光伝送路(1)を通して観測し、出力光強度が、急激に増加する勾配の不連続変化点を得ることを特徴とする臨界ミセル濃度の測定方法。 光伝送路(1)として光ファイバ(21)を用い、光ファイバ(21)の途中に光導波表面部分(2)として光ファイバ(21)のコア(22)の表面を露出させ、該光導波表面部分(2)に界面活性剤分子を吸着させることを特徴とする請求項1に記載の臨界ミセル濃度の測定方法。 光源(4)として凸レンズ(9)を有する半導体レーザダイオードまたは発光ダイオード等の光源(4)を用い、光源(4)と先端に凸レンズ(10)を備えた光伝送路(1)とを組み合わせて光入射結合手段(50)としたことを特徴とする請求項1又は2に記載の臨界ミセル濃度の測定方法。