タイトル: | 特許公報(B2)_アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを製造するための方法 |
出願番号: | 1996523924 |
年次: | 2007 |
IPC分類: | C07C 213/04,B01J 31/10,C07C 215/14,C07D 295/08,C07B 61/00 |
キョール,ユハン フランク,マーグヌス JP 3974939 特許公報(B2) 20070622 1996523924 19960111 アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを製造するための方法 アクゾ・ノーベル・ナムローゼ・フエンノートシャップ 深見 久郎 森田 俊雄 伊藤 英彦 堀井 豊 キョール,ユハン フランク,マーグヌス SE 9500444-6 19950208 20070912 C07C 213/04 20060101AFI20070823BHJP B01J 31/10 20060101ALI20070823BHJP C07C 215/14 20060101ALI20070823BHJP C07D 295/08 20060101ALI20070823BHJP C07B 61/00 20060101ALN20070823BHJP JPC07C213/04B01J31/10 XC07C215/14C07D295/08 AC07B61/00 C07C213/04 C07C215/14 C07D295/08 C07B 61/00 CA(STN) 特開昭56−150045(JP,A) 特開平02−104567(JP,A) 西独国特許出願公告第00206670(DE,B) 米国特許第03639403(US,A) 8 EP1996000207 19960111 WO1996024576 19960815 1998513456 19981222 7 20021030 品川 陽子 この発明は、エチレンジアミンおよびピペラジンの過剰下でエチレンジアミン、ピペラジン、または両者の混合物を連続的にエトキシル化することによって、アミノエチルエタノールアミン、ヒドロキシエチルピペラジン、またはこれら両者の化合物を製造するための方法に関する。得られるエトキシル化生成物のフローは次に、モノエタノールアミンをアンモニアでアミノ化することによって得られるアミノ化生成物のフローを処理するための蒸留プラントにおける蒸留によって処理される。かなりの量の水の存在下で室温においてエチレンオキシドをエチレンジアミンと反応させることによりアミノエチルエタノールアミンを製造することは、たとえば、クノール他(Knorr et al)のBer. 35(1902)4470頁などから長きにわたって知られていた。この反応は、N,N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)−エチレンジアミンなどの高級付加物の形成を防ぐためにエチレンジアミンの過剰下で行なわれる。DE−A−2,716,946は、特別に開発された反応装置の中で、水の存在下で100から120℃の温度においてエチレンジアミンをエチレンオキシドと反応させることによってアミノエチルエタノールアミンを製造するための非連続的な方法を開示している。特許明細書SU−A−1,512,967は、約20%の水溶液中で40から50℃の温度において1:2のモル比でエチレンジアミンをエチレンオキシドでエトキシル化することによりN,N′−ビス(2−ヒドロキシエチル)−エチレンジアミンを製造することを開示している。この反応は、多量の副産物を生成させる。特許公報EP−A−354 993は、高温、好都合には130から180℃の温度において、大気圧を上回る気圧において、無溶媒下、触媒量のアルカリ金属水酸化物および/またはアルカリ金属アルコキシドの存在下で、反応性の水素原子を含有するアミンをエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシドと反応させることを提案している。DE−A−2,013,676から、第1のステップにおいて触媒不在の下、エチレンジアミンをエチレンオキシドと反応させ、第2のステップにおいて、形成された高級縮合物を、水素(および必要に応じてアンモニア)ならびに水和触媒の存在下で、ピペラジン、ヒドロキシエチルピペラジンおよびN−アミノエチルピペラジンへと反応させることが知られている。さらに、モノエタノールアミンをアンモニアでアミノ化することによるエチレンジアミンの製造が、とりわけ、1つまたはそれ以上のヒドロキシエチル基で置換されたエチレンジアミンおよびピペラジンを少量もたらすことが知られている。アミノ化において得られる反応混合物は、次に、マルチステップの蒸留によって分離される。アミノエチルエタノールアミンおよびヒドロキシエチルピペラジンの製造に関して多くの問題がある。たとえば、問題の1つは、エチレンジアミンのエトキシル化によって、いくつかの望ましくない副産物、たとえばジ−、トリ−、またはテトラ(ヒドロキシエチル)−エチレンジアミンが形成され、これらは、未反応のエチレンジアミンおよびエチレンオキシドならびに存在するすべての水とともに通常真空蒸留によってアミノエチルエタノールアミンから分離されねばならない。水を触媒として使用することによって、エチレンジアミンおよび水の沸点の高い共沸混合物が形成され、これは分けることが難しい。ピペラジンのエトキシル化によっては、ヒドロキシエチルピペラジンが形成されるだけでなく、ジ−(ヒドロキシエチル)−ピペラジンも形成される。得られる生成混合物は通常真空蒸留によって分離される。もし、全部または部分的に反応物中に溶解された触媒が使用されるのならば、これらもまた反応混合物の処理の前に取り除かねばならない。100℃を上回る反応においては、エチレンオキシドは存在する水とも反応してエチレングリコールを形成し、このためにエチレンオキシドの損失および分離の問題が生じる。この発明の目的は、精製プロセスを簡素化するような態様でアミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを製造することである。この発明のもう1つの目的は、反応を連続的に行なうことにより、バッチごとの反応に伴う問題を回避することである。この発明のさらなる目的は、所望の化合物の高い収量を達成し、必ずしも純粋であるとは限らない反応物の使用を可能にすることである。ここで、これらの目的は、触媒の存在下で、エチレンジアミン、ピペラジン、またはそれらの混合物をエチレンオキシドと次のように反応させることによって達成されることがわかった。この反応プロセスは以下のi)、ii)およびiii)のステップを含む。i)触媒の存在下でエチレンジアミンおよび/またはピペラジンを、エチレンジアミンおよび/またはピペラジン1モルあたり0.05から0.5モル、好ましくは0.1から0.3モルのエチレンオキシドと連続的に反応させるステップ、ii)モノエタノールアミンをアンモニアでアミノ化することによって得られるアミノ化生成物のフローを処理するため設計された蒸留プラントに、得られるエトキシル化生成物のフローを導入するステップ、およびiii)蒸留プラントにおいてエトキシル化生成物のフローを蒸留し、アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを回収するステップ。好ましくは、使用される触媒は、水またはエトキシル化反応の間に溶解することのない固体触媒からなる。好都合には、エトキシル化生成物のフローは第1の塔の前で蒸留プラントに導入され、第1の塔で、アミノ化生成物のフローの蒸留において、エトキシル化生成物のフローの一部を構成する化合物を含有する化合物または混合物が分離される。この発明による方法の実施態様の結果として、反応生成物を、モノエタノールアミンのアンモニアによる触媒的アミノ化によってエチレンアミン類を製造する目的のプラントにおいて処理することができる。なぜならば、エトキシル化生成物のフロー中に見られるエトキシル化生成物は、モノエタノールアミンのアンモニアによる触媒的アミノ化において得られるアミノ化生成物のフローにも存在しているからである。好ましい一実施態様において、アミノ化およびエトキシル化を並行して行ない、エトキシル化生成物のフローとアミノ化生成物のフローとを蒸留プラントにおいて合わせることが極めて適していることがわかった。加えて、こうして合わされた生成物のフロー中にはアミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンが高い含量で存在しているために、エチレンジアミンと水との共沸混合物からのエチレンジアミンの回収が容易になるということもわかった。別の好ましい実施態様においては、エチレンジアミンおよび/またはピペラジンは、エトキシル化生成物のフローおよびアミノ化生成物のフローがあわせて処理される蒸留プラントから、生成物のフローの形で引出される。このような生成物のフローは、全部または部分的にエチレンジアミンと水(場合に応じてピペラジンを含有する)との共沸混合物からなることができ、この場合には、水はエトキシル化反応における触媒の役割を果たす。まだ完全に処理されてはいない、エチレンジアミン含有フラクションは、次に反応物として使用することができる。もし、水が全部または部分的に触媒として使用されるのならば、エトキシル化反応は20から95℃、好ましくは40から80℃の温度において行なわれる。このような条件下では、アミン化合物の反応性の水素原子のエトキシル化に対する高い選択性および満足なエトキシル化率が達成され、グリコールの形成またはヒドロキシル基のいかなるエトキシル化も実質的にないことがわかった。もし、反応が水の不在下で行なわれるのならば、反応温度は適切には20から150℃、好ましくは40から120℃である。もし反応の間可溶性ではない固体のエトキシル化触媒が使用されるのならば、触媒を取り除くための付加的な処理ステップをなくすことができる。適切な固体触媒の例は、酸性のイオン交換体、酸性のゼオライト、酸性白土、およびルイス酸である。固体触媒という言葉はまた、固体担体に結合された液体触媒を含む。さらに、水と組合せて固体のエトキシル化触媒を使用することもできる。エチレンジアミンおよびピペラジンのアミノエチルエタノールアミンおよびヒドロキシエチルピペラジンへのエトキシル化は、それぞれ、エチレンジアミンおよびピペラジンの4つおよび2つの反応性水素原子のうち1つのみがそれぞれエチレンオキシドと反応するということを意味している。この発明によれば、かなり過剰量のエチレンジアミンおよび/またはピペラジンを用いて反応を行なうことによってこの問題は解決される。この方法においては、また、アミノ化プラントから得られる反応性水素原子を備えた他の化合物を少量含有するエチレンジアミンおよび/またはピペラジンを使用してもよい。これらの化合物から形成されるエトキシレートは、未反応のエチレンジアミンおよびピペラジンと同様に、純粋な生成物または沸点の高い蒸留残渣として、場合に応じて対応するアミノ化フローの成分とともに、回収され得る。エトキシル化のための適切な出発物は、たとえば、少なくとも95重量%のエチレンジアミンを含有しかつ蒸留プラントから得られたエチレンジアミンのフラクションである。もしこのフラクションが水を含まないのであれば、反応は好ましくは水を含まない環境において固体触媒の存在下で行なわれる。エチレンジアミンとピペラジンとの混合物をエトキシル化することも適切であり、この場合、2つのアミン化合物は蒸留プラントにおいて得ることができる。このような生成混合物は、60から100重量%、好ましくは80から95重量%のエチレンジアミンと、0から40重量%、好ましくは0から20重量%のピペラジンとを含有してもよい。好ましくは、モノエタノールアミンをアンモニアと反応させたときに形成されるエチレンジアミン共沸混合物を使用する。また、付加的なエチレンジアミンおよび/またはピペラジンを付加的な量の水と同様に共沸混合物に付加してもよい。好都合には、このような生成混合物は、55から95重量%、好ましくは70から90重量%のエチレンジアミン、1から30重量%、好ましくは10から20重量%の水、および0から40重量%、好ましくは0から10重量%のピペラジンを含有する。上述の特別な態様でエチレンジアミンおよび/またはピペラジンのエトキシル化を行なうことにより、かつモノエタノールアミンをアンモニアでアミノ化することによって得られるアミノ化生成物のための蒸留プラントで処理を行なうことによって、アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンの簡単かつ費用効果の高い製造態様が得られる。添付した図1および図2は、いかにしてエトキシル化の処理を、モノエタノールアミンをアンモニアでアミノ化することによって得られるアミノ化生成物のフローを処理するための蒸留プラントに統合できるかの2つの例を模式的に示す。以下の略語を図の説明および以下の例において使用する。AEEA=アミノエチルエタノールアミンDETA=ジエチレントリアミンEDA=エチレンジアミンEO=エチレンオキシドHEP=ヒドロキシエチルピペラジンMEA=モノエタノールアミンPIP=ピペラジン図1は、EDAおよび/またはPIPのAEEAおよび/またはHEPへのエトキシル化を統合する配置を模式的に示す。A、B、およびDは、MEAをアンモニアでアミノ化することによって得られるアミノ化生成物のフローを処理するための蒸留プラントにおける塔である。Cはさまざまな生成物を分離するための蒸留塔のシステムであり、EはEDAおよび/またはPIPをエトキシル化するための反応器である。アミノ化生成物のフロー11は蒸留塔Aに導入され、ここでアンモニアが分離される。蒸留塔Bにおいては、アミノ化生成物のフロー内に存在する水の主要部分が分離され、導管31を通って引出される。残りのアミンは導管32を通って蒸留システムCに導かれ、ここでEDA−水の共沸混合物、EDA、PIP、DETA、AEP、およびHEPがそれぞれ導管41、42、43、44、45、および46を通じて分離される。通常、共沸混合物は80から90重量%のEDAと0から5重量%のPIPと10から20重量%の水とを含有する。沸点の高いアミンのフロー47は塔Cのシステムを離れる。塔Dにおいては、これらの沸点の高いアミンは、蒸留によって、AEEAと残留フラクションとに分離され、前者は導管51を通って引出され、後者は導管52を通って引出される。共沸混合物41は、全部または部分的に、かつ冷却器K内で適切な反応温度まで必要に応じて冷却された後、導管61を通ってエトキシル化反応器Eに導かれる。もし所望ならば、より多くの水を導管64を通って、かつより多くのピペラジンを導管63を通って、共沸混合物に添加することもできる。エチレンオキシドは、導管65を通って適切には反応器Eのいくつかの場所に導入される。EDAおよび水に加えてEDA付加物および/またはPIP付加物を含有する、エトキシル化反応器Eで形成された反応混合物は、蒸留のため、アンモニアを含まないアミノ化生成物のフロー22に合わされる。図2は、EDA−水の共沸混合物のみを使用したときに可能なものよりも多くのAEEAを製造することのできる別の配置を示す。図1と類似の構成要素は同様の番号によって示す。エトキシル化の点では、EDAからなるフロー42の部分は導管62を通ってエトキシル化反応器Jに導かれ、これは酸性のイオン交換体を触媒として含有する。水を添加する必要はない。反応混合物はEOおよび過剰量のEDAを含有するので、エトキシル化生成物のフロー71においては、EDAを除いては、EDAエトキシレートのみが得られる。次に、エトキシル化生成物のフロー71は蒸留塔Bからのフロー32と合わされ、これは結果的に負荷をより小さくする。蒸留プラントの多数の配置方式およびそのエトキシル化反応器との統合がこの発明の範囲内で考えられる。たとえば、図2におけるフロー41、すなわちエチレンジアミンと水との共沸混合物は、全部または部分的にエトキシル化反応器Jに導入されてもよい。しかしながら、もしそうならば、エトキシル化生成物のフローは、塔Aからのアンモニアを含まないアミノ化生成物のフロー22と合わされるべきである。この発明を以下に2つの例の助けを借りてさらに詳しく説明する。例1図1により、蒸留プラントを離れる、72%のEDAと4%のPIPと23%の水とを含有するフローは、40℃まで冷却され、スタティック・ミキサーを備えるエトキシル化反応器に導入される。次にいくつかのステップにおいてEDAのEOに対するモル比が1:0.17になるようエチレンオキシドが反応器に添加された。反応において、温度は90〜95℃に上昇した。反応器からのエトキシル化生成物のフローは、56.5%のEDA、2.5%のPIP、19.5%の水、17%のAEEA、3%のHEP、および1.5%の他の反応生成物を含有した。すべてのエチレンオキシドが反応した。消費されたEDAの95%および消費されたPIPの93%がAEEAおよびHEPへと反応した。供給されたEOの79%がAEEAへと反応し、一方その11%はHEPへと反応し、その10%が他の生成物へと反応した。得られたエトキシル化生成物のフローは、蒸留のためアミノ化生成物のフローと合わせられた。図1による処理において、分析から予測された量で、AEEAおよびHEPの両者の付加物が見出された。例2図2により、EDAを含有するフロー(50℃まで冷却された99.5重量%よりも多いEDA)がスルホン酸型イオン交換体からなる固体触媒を含有するエトキシル化反応器に導入された。加えて、いくつかのステップを通じてEDA1モルあたり0.105モルのエチレンオキシドが反応器に供給され、反応が約75℃で行なわれた。反応器を離れるエトキシル化のフローは85%のEDA、14%のAEEAおよび1%の他の反応生成物を含有した。すべてのEOが反応した。消費されたEDAの99%より多くがAEEAへと反応した。得られたエトキシル化生成物のフローは、蒸留のためアミノ化生成物のフローと合わせられた。図2による処理において、分析から予測された量でAEEAの付加物が見出された。 触媒の存在下で、エチレンジアミンおよび/またはピペラジンをエチレンオキシドでエトキシル化することによって、アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを製造するための方法であって、エチレンジアミンおよび/またはピペラジンを、エチレンジアミンおよび/またはピペラジン1モルあたり0.05から0.5モルのエチレンオキシドと連続的に反応させ、得られたエトキシル化生成物のフローを、モノエタノールアミンをアンモニアでアミノ化することによって得られるアミノ化生成物のフローを処理するため設計された蒸留プラントに導入し、かつ、蒸留プラントにおいてエトキシル化生成物のフローを蒸留し、アミノエチルエタノールアミンおよび/またはヒドロキシエチルピペラジンを回収することを特徴とする、方法。 20から95℃の温度において触媒としての水の存在下で行なわれることを特徴とする、請求項1に記載の方法。 20から150℃の温度において、水の不存在下、反応の間に溶解しない固体触媒の存在下で行なわれることを特徴とする、請求項1に記載の方法。 エトキシル化生成物のフローを、第1の塔の前で前記蒸留プラントに導入し、前記第1の塔で、アミノ化生成物のフローの蒸留において、エトキシル化生成物のフローの一部を構成する化合物を含有する化合物または混合物が分離されることを特徴とする、請求項1、2、または3に記載の方法。 エトキシル化生成物のフローをアミノ化生成物のフローと合わせ、かつ蒸留プラントでそれらをあわせて蒸留することを特徴とする、請求項1から4のいずれか1項に記載の方法。 少なくとも95重量%のエチレンジアミンを含有しかつ蒸留プラントから得られたエチレンジアミンのフラクションをエトキシル化することを特徴とする、請求項1から5のいずれか1項に記載の方法。 55から95重量%のエチレンジアミン、1から30重量%の水、および0から20重量%のピペラジンを含有する生成混合物をエトキシル化することを特徴とする、請求項1、2、4および5のいずれか1項に記載の方法。 60から100重量%のエチレンジアミンおよび0から40重量%のピペラジンを含有する生成混合物をエトキシル化することを特徴とする、請求項3、4、または5に記載の方法。