タイトル: | 公開特許公報(A)_結晶性エポキシ樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物および硬化物 |
出願番号: | 2010042294 |
年次: | 2011 |
IPC分類: | C08G 59/24,C07D 303/08 |
梶 正史 大村 昌己 中原 和彦 山田 尚史 JP 2011178836 公開特許公報(A) 20110915 2010042294 20100226 結晶性エポキシ樹脂、その製造方法、それを用いたエポキシ樹脂組成物および硬化物 新日鐵化学株式会社 000006644 佐々木 一也 100132230 成瀬 勝夫 100082739 中村 智廣 100087343 佐野 英一 100088203 梶 正史 大村 昌己 中原 和彦 山田 尚史 C08G 59/24 20060101AFI20110819BHJP C07D 303/08 20060101ALI20110819BHJP JPC08G59/24C07D303/08 6 OL 15 4C048 4J036 4C048AA01 4C048BB04 4C048CC01 4C048UU05 4C048XX02 4J036AC01 4J036AC11 4J036DA01 4J036DA02 4J036DC02 4J036FA05 4J036JA07 本発明は、低粘度性に優れるとともに固体での取扱い性にも優れ、かつ耐湿性、耐熱性、難燃性等にも優れた硬化物を与える結晶性エポキシ樹脂、およびその製造方法並びにこのエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物及びその硬化物に関するものであり、半導体封止、プリント配線板等の電気電子分野の絶縁材料等に好適に使用される。 エポキシ樹脂は工業的に幅広い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ますます高度化している。例えば、エポキシ樹脂を主剤とする樹脂組成物の代表的分野に半導体封止材料があるが、半導体素子の集積度の向上に伴い、パッケージサイズは大面積化、薄型化に向かうとともに、実装方式も表面実装化への移行が進展しており、半田耐熱性に優れた材料の開発が望まれている。更に最近では、環境負荷低減の観点から、ハロゲン系難燃剤排除の動きがあり、より難燃性に優れたエポキシ樹脂が求められている。 半田耐熱性向上の観点からは、無機フィラーの高充填化が指向されており、そのためには低吸湿性、高耐熱性に優れ、かつ低粘度であるエポキシ樹脂が望まれている。これを受けて、低粘度性に優れたものとして、特許文献1にはビフェニル系エポキシ樹脂、また特許文献2にはビスフェノール系エポキシ樹脂が提案されているが、難燃性、密着性等の点で十分ではない。 リン原子やハロゲン原子を含むことなく、難燃性を向上させるものとして、特許文献3及び4ではビフェニル構造を有するアラルキル型エポキシ樹脂を半導体封止材へ応用した例が開示されているが、低粘度性に問題がありフィラーの高充填率化に限界がある。 特許文献5にはベンジル化された多官能フェノール樹脂およびエポキシ樹脂が開示され、また、特許文献6にはインデン変性の多官能フェノール性化合物が開示されているが、いずれも分子量分布を持った多官能性の樹脂状物であり低粘度性に問題があった。更に、特許文献7にはインデン変性の2官能フェノール性化合物及びエポキシ化合物が開示されているが、結晶性を示さず取扱い性、低粘度性に問題があった。特開昭58−39677号公報特開平6−345850号公報特開平11−140166号公報特開2000−129092号公報特開平8−120039号公報特開平9−208673号公報WO2008/041749号公報 したがって、本発明の目的は、流動性、フィラー高充填性、耐湿性、耐熱性、難燃性等に優れた硬化物を与える半導体素子の電子部品封止用に好適に使用されるエポキシ樹脂及びその原料となり得るフェノール性化合物およびエポキシ樹脂組成物ならびに硬化物を提供することにある。 すなわち、本発明は、下記一般式(1)で表され、示差走査熱分析における吸熱ピークが80〜150℃にある結晶性のエポキシ樹脂である。(但し、R1、R2は、独立に水素原子又は下記式(a)若しくは(b)で表される置換基を示し、Gはグリシジル基を示す。pおよびqは0〜3の数であるが、p+qの合計は平均値として0.5〜1.4である。また、nは0〜5の数を示す。) また、本発明は、4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対して、インデン又はスチレンを0.5〜1.4モル反応させて、下記一般式(2)で表されるフェノール樹脂を得た後、エピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする結晶性エポキシ樹脂の製造方法である。(但し、R1、R2、pおよびqは、一般式(1)と同じ意味を有する) 上記一般式(1)及び(2)において、nが0であり、かつpおよびqともに0である成分が全体の30〜45wt%であることが好ましい。 また、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂成分として上記のエポキシ樹脂を配合したエポキシ樹脂組成物、およびこれを硬化させて得られた硬化物である。 本発明のエポキシ樹脂及び本発明の製造方法で得られるエポキシ樹脂は、エポキシ樹脂組成物に応用した場合、優れた成形性、フィラー高充填性を有するとともに、耐湿性、耐熱性及び難燃性に優れた硬化物を与え、電気・電子部品類の封止、回路基板材料等の用途に好適に使用することが可能である。特に、難燃性に優れ、環境負荷のある難燃剤の使用を不要とさせ又は減少させる。 以下、本発明を詳細に説明する。 本発明のエポキシ樹脂は、上記一般式(1)で表される。ここで、R1、R2は水素又は上記式(a)若しくは(b)で表される置換基を示す。低吸湿性、高耐熱性の観点から、R1、R2は一般式(a)で表される置換基が好ましく、低粘度性の観点からは、一般式(b)の置換基が好ましい。なお、上記一般式(1)において、R1とR2は同じであっても異なってもてもよく、R1又はR2が複数ある場合も同じであっても異なってもい。 pおよびqは0〜3の数を示すが、pとqの合計の平均値として0.5〜1.4の範囲であることが好ましく、さらには0.5〜1.0の範囲であることが好ましい。これより小さいとフェノール樹脂としての結晶性が強く、エポキシ樹脂の合成が困難であるとともに、得られたエポキシ樹脂も高結晶性であるとともに融点も高く取り扱い性に問題がある。また、これより大きいとエポキシ樹脂としての結晶性が低下することでエポキシ樹脂の固体としての取り扱い性が低下する。上記pとqの合計の平均値は、ビフェニル環1個当たりの、上記置換基の数(平均値)ということができる。したがって、本発明のエポキシ樹脂はビフェニル環1個当たり平均して0.5〜1.4個の上記置換基を有すると理解される。ビフェニル環はベンゼン環2個からなるので、ベンゼン環1個当たり平均して0.25〜0.7個の上記置換基を有すると計算される。 nは0〜5の数を表すが、好ましくは平均値(数平均)として0.1〜2のものであり、より好ましくは0.1〜1.0である。また、結晶性固体としての取扱い性の観点からは、nが0でありかつpおよびqともに0である成分が全体の30wt%以上含まれるものが特に好ましい。これより少ないと、エポキシ樹脂としての結晶性が低下することでエポキシ樹脂の固体としての取り扱い性が低下する。しかし、pおよびqともに0である成分が多すぎると、上記置換基による難燃性向上等の変性効果が生じないので、45wt%以下であることが望ましい。 本発明のエポキシ樹脂は、結晶性を有しており、昇温速度5℃/分で測定した示差走査熱量分析における融点に基づく吸熱ピークの温度が80〜150℃、好ましくは110〜140℃の範囲にあるものである。これより高いとエポキシ樹脂組成物を調整する際の硬化剤との相溶性が低下し、これより低いとエポキシ樹脂組成物のブロッキング等の問題が発生し、取扱い性が低下する。エポキシ樹脂の結晶状態によっては、融点のピークが複数見られる場合があるが、ここで言う吸熱ピーク温度は、最も大きなピークに対応したものを指している。 本発明のエポキシ樹脂は、例えば、4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対して、インデン又はスチレンを0.5〜1.4モル反応させて得られるフェノール樹脂を中間体として得て、このフェノール樹脂とエピクロルヒドリンを反応させるなどの方法により製造することができる。インデン又はスチレンは、芳香族オレフィンの1種であるので、フリーデルクラフツ反応により、4,4’−ジヒドロキシビフェニルのベンゼン環に置換可能である。そして、式(a)又は(b)で表される置換基(以下、単に置換基ということもある)としてベンゼン環に置換する。式(a)で表される置換基はインデニル基と、式(b)で表される置換基はα-メチルベンジル基ともいうことができ、それぞれインデン又はスチレンから生ずる基ということができる。 本発明のエポキシ樹脂の中間体となるフェノール樹脂は、上記一般式(2)で表される。一般式(2)において、R1、R2、pおよびqは、一般式(1)のR1、R2、pおよびqに対応する。したがって、好ましいR1、R2、pおよびqも一般式(1)のR1、R2、pおよびqと同様である。 一般式(2)で表されるフェノール樹脂は、単一の化合物を主成分とするものであってもよいし、R1、R2が異なるとともに、pおよびqも異なる成分の混合物であっても良いが、結晶性の発現による固体としての取扱い性の確保、および低粘度性、成形性の観点から、R1、R2が水素原子である4,4’−ジヒドロキシビフェニルの好ましい含有率は20〜45%の範囲であり、特に好ましくは25〜40%の範囲であり、最も好ましくは30〜40%の範囲である。これより多いとエポキシ樹脂とした際の融点が高くなり、エポキシ樹脂の未融解部分が残存する等の問題でエポキシ樹脂組成物の調整が困難になるとともに、成形性が低下する。また、これより少ないと、エポキシ樹脂の結晶性が低下し、エポキシ樹脂自体の粉体としての取扱い性が低下するとともに、エポキシ樹脂組成物とした際の耐ブロッキング性が低下する。 上記フェノール樹脂は、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにインデン又はスチレンを反応させることにより製造することができるが、この場合、4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対するインデン又はスチレンの反応量は0.5〜1.4モルの範囲であるが、好ましくは、0.5〜1.0モルの範囲である。これより少ないと、エポキシ樹脂とした際の耐湿性、難燃性の向上効果が十分に発現されないとともに、エポキシ樹脂が高結晶性により融点が高く取り扱い性に問題がある。逆に、これより多いと粘度が高くなりフィラーの高充填性や成形性が低下するとともに、エポキシ樹脂としての結晶性が低下することでエポキシ樹脂の固体としての取り扱い性が低下する。 一方、4,4’−ジヒドロキシビフェニルとインデン又はスチレンを反応させる際の反応原料として使用量は、目的とする置換モル数(4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対する、置換基のモル数)とほぼ対応するので、それによって使用量を定めればよい。なお、いずれかの原料が未反応で残る反応条件を採用することもできるが、この場合でも4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対するインデン又はスチレンの使用量は0.5〜1.4モルの範囲とすることがよい。いずれかの原料が未反応で残る場合は、それを分離することが望ましいが、少量であれば残存したままでも差し支えない。また、インデン又はスチレンを多量に使用すると、未反応のインデン又はスチレンが残存するとか、インデン又はスチレンの重合体が生成することがあり、エポキシ樹脂としての耐熱性や難燃性を低下させる原因となる。 4,4’−ジヒドロキシビフェニルに反応させるインデン又はスチレンはこれらの混合物を用いても良いが、低粘度性の観点からは、スチレンを主成分とするものが好ましく、耐熱性、難燃性の観点からは、インデンを主成分とするものが好ましい。 反応に用いるインデン又はスチレン中には、他の反応性成分として、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、クマロン、ベンゾチオフェン、インドール、ビニルナフタレン等の不飽和結合含有成分を含んでいても良いが、全反応成分中のインデン及びスチレンの含有率が60wt%以上、好ましくは80wt%以上のものが使用される。これより少ないと、耐熱性、難燃性の向上効果が小さい。また、インデン又はスチレン中には、トルエン、ジメチルベンゼン、トリメチルベンゼン、インダン、ナフタレン、メチルナフタレン、ジメチルナフタレン、アセナフテン等の非反応性の化合物が含まれていても良いが、エポキシ樹脂とした際の耐熱性、難燃性等の特性向上の観点から、これら非反応性の化合物は系外に除いた方が良い。好ましくは、全体の5wt%以下、更に好ましくは、2wt%以下となるまで除かれる。除去方法としては、一般的には、減圧蒸留等の方法が適用される。 反応に用いるインデン又はスチレン中には、他の反応性成分として、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、クマロン、ベンゾチオフェン、インドール、ビニルナフタレン等の不飽和結合含有成分を含む場合、得られるフェノール樹脂にはこれらから生ずる基がベンゼン環に置換した化合物が含まれることになる。本発明のエポキシ樹脂の原料として用いるフェノール樹脂は、このような置換基を有するフェノール樹脂を含み得る。同様に、本発明のエポキシ樹脂の製造方法で得られるエポキシ樹脂は、このような置換基を有するエポキシ樹脂を含み得る。 4,4’−ジヒドロキシビフェニルとインデン又はスチレンとの反応は、酸触媒等の公知のフリーデルクラフツ触媒を使用する反応方法等が採用できる。この反応により4,4’−ジヒドロキシビフェニルのベンゼン環に上記置換基が置換したフェノール樹脂が得られる。4,4’−ジヒドロキシビフェニルとインデン又はスチレンとの反応終了後は、必要により触媒又は未反応成分の除去をして、次のエポキシ化反応に供する。しかし、エポキシ化反応を阻害しない成分や酸触媒のような中和可能な成分は除去しなくともよく、また、エポキシ化反応後に行われる洗浄、蒸留等の精製工程で除去される場合やエポキシ樹脂に含まれても差し支えない場合も、除去しなくともよい。4,4’−ジヒドロキシビフェニルとインデン又スチレンとの反応終了後の反応生成物をそのままエポキシ化反応も使用することは精製工程が1つ減るという点で有利である。なお、フェノール樹脂を目的物として精製又は単離することもできる。 本発明のエポキシ樹脂の製造方法は、上記一般式(2)で表されるフェノール樹脂を中間体として得て、これとエピクロルヒドリンとを反応させることにより得られる。 フェノール樹脂とエピクロルヒドリンとの反応には、フェノール樹脂中の水酸基に対して0.80〜1.20倍当量、好ましくは0.85〜1.05倍当量の水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が用いられる。これより少ないと残存する加水分解性塩素の量が多くなり好ましくない。金属水酸化物としては、水溶液、アルコール溶液又は固体の状態で使用される。 反応に際しては、フェノール樹脂に対しては過剰量のエピクロルヒドリンが使用される。通常、フェノール樹脂中の水酸基1モルに対して、1.5〜15倍モルのエピクロルヒドリンが使用されるが、好ましくは2〜8倍モルの範囲である。これより多いと生産効率が低下し、これより少ないとエポキシ樹脂の高分子量体の生成量が増え、粘度が高くなる。 反応は、通常、120℃以下の温度で行われる。反応の際、温度が高いと、いわゆる難加水分解性塩素量が多くなり高純度化が困難になる。好ましくは100℃以下であり、更に好ましくは85℃以下の温度である。 反応の際、四級アンモニウム塩あるいはジメチルスルホキシド、ジグライム等の極性溶媒を用いてもよい。四級アンモニウム塩としては、例えばテトラメチルアンモニウムクロライド、テチラブチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等があり、その添加量としては、フェノール樹脂に対して、0.1〜2.0wt%の範囲が好ましい。これより少ないと四級アンモニウム塩添加の効果が小さく、これより多いと難加水分解性塩素の生成量が多くなり、高純度化が困難になる。また、極性溶媒の添加量としては、フェノール樹脂に対して、10〜200wt%の範囲が好ましい。これより少ないと添加の効果が小さく、これより多いと容積効率が低下し、経済上好ましくない。 反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンや溶媒を留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩や残存溶媒を除去し、次いで溶剤を留去することによりエポキシ樹脂とすることができる。 有利には、得られたエポキシ樹脂を更に、残存する加水分解性塩素に対して、1〜30倍量の水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を加え、再閉環反応が行われる。この際の反応温度は、通常、100℃以下であり、好ましくは90℃以下である。 本発明のエポキシ樹脂の製造方法で得られたエポキシ樹脂は、上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂又はこれを主成分(50wt%以上)とするエポキシ樹脂であることが好ましい。しかし、全体として上記一般式(1)において、p+qの合計が平均値として0.5〜1.4、好ましくは0.5〜1.0のものである。同様に、本発明のエポキシ樹脂の中間体となるフェノール樹脂は、上記一般式(2)で表されるフェノール樹脂又はこれを主成分とするフェノール樹脂であることが好ましい。しかし、全体として上記一般式(2)において、p+qの合計が平均値として0.5〜1.4、好ましくは0.5〜1.0のものである。 本発明のエポキシ樹脂組成物は、上記一般式(1)で表されるエポキシ樹脂又はこのエポキシ樹脂を主成分とするエポキシ樹脂と硬化剤を必須成分とする。本発明のエポキシ樹脂組成物に配合する硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤として知られているものはすべて使用できる。例えば、ジシアンジアミド、多価フェノール類、酸無水物類、芳香族及び脂肪族アミン類等がある。 具体的に例示すれば、多価フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以上のフェノール類がある。更には、フェノール類、ナフトール類等の1価のフェノール類や、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリレングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノール性化合物等がある。また、これらのフェノール性硬化剤にインデン又はスチレンを反応させたものを硬化剤に用いても良い。 酸無水物としては、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイミック酸、無水ナジック酸、無水トリメリット酸等がある。 また、アミン類としては、4,4'−ジアミノジフェニルメタン、4,4'−ジアミノジフェニルプロパン、4,4'−ジアミノジフェニルスルホン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン等の脂肪族アミン類がある。 本発明のエポキシ樹脂組成物には、これら硬化剤の1種又は2種以上を混合して用いることができる。 また、本発明のエポキシ樹脂組成物中には、エポキシ樹脂成分として、本発明のエポキシ樹脂以外に別種のエポキシ樹脂を配合してもよい。この場合の別種のエポキシ樹脂としては、分子中にエポキシ基を2個以上有する通常のエポキシ樹脂が使用できる。例を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フルオレンビスフェノール、4,4'−ビフェノール、2,2'−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェノール類又はテトラブロモビスフェノールA等のハロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂は、1種又は2種以上を混合して用いることができる。そして、本エポキシ樹脂を必須成分とするエポキシ樹脂組成物の場合、本エポキシ樹脂の配合量はエポキシ樹脂全体中、5〜100wt%、好ましくは60〜100wt%の範囲であることがよい。 必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充填材が配合され得る。無機充填材としては、例えば、球状あるいは、破砕状の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉末、ガラス粉末等が挙げられる。半導体封止材に応用する場合、無機充填材の使用量は、通常、75wt%以上であるが、低吸湿性、高半田耐熱性の点からは、80wt%以上であることが好ましい。 更に、本発明のエポキシ樹脂組成物中には、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテル、ポリウレタン、石油樹脂、インデンクマロン樹脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマー又は高分子化合物を適宜配合してもよいし、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリング剤、流動性向上剤等の添加剤を配合してもよい。顔料としては、有機系又は無機系の体質顔料、鱗片状顔料等がある。揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワックス、有機ベントナイト系等を挙げることができる。また更に必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステアリン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。 更に必要に応じて、本発明のエポキシ樹脂組成物には、公知の硬化促進剤を用いることができる。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホスフィン類、ルイス酸等がある。添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、0.2から5重量部の範囲である。また、硬化剤の添加量としては、通常、エポキシ樹脂100重量部に対して、10〜100重量部の範囲である。 本発明の樹脂組成物を硬化させて得られる本発明の硬化物は、上記エポキシ樹脂組成物を注型、圧縮成形、トランスファー成形等の方法により、成形加工し得ることができる。この際の温度は通常、120〜220℃の範囲である。 以下実施例により本発明を更に具体的に説明する。合成例1 4,4’−ジヒドロキシビフェニル600g(3.23モル)、ジグライム1800gを仕込み150℃まで昇温させた。溶融後、撹拌しながら48%硫酸 19.5gを仕込み、140℃においてインデン374g(3.23モル)を約3時間かけて滴下した。更に全還流下において3時間反応を継続した。その後、30%炭酸ナトリウム水溶液33.4gを加えて中和し、減圧下でジグライムと水を除去し、ほぼ100%の収率でインデン付加フェノール樹脂974gを得た(フェノール樹脂A)。OH当量は151g/eq.であった。合成例2 インデン299g(2.58モル)を用いた他は、合成例1と同様に反応を行い、インデン付加フェノール樹脂899gを得た(フェノール樹脂B)。OH当量は139g/eq.であった。合成例3 インデン374gの代わりにスチレン336g(3.23モル)を用いた他は、合成例1と同様に反応を行い、スチレン付加フェノール樹脂936gを得た(フェノール樹脂C)。OH当量は145g/eq.であった。合成例4 スチレン268g(2.58モル)を用いて、合成例3と同様に反応を行い、スチレン付加フェノール樹脂868gを得た(フェノール樹脂D)。OH当量は135g/eq.であった。合成例5 スチレン201g(1.94モル)を用いて、合成例3と同様に反応を行い、スチレン付加フェノール樹脂801gを得た(フェノール樹脂E)。OH当量は124g/eq.であった。合成例6 スチレン134g(1.29モル)を用いて、合成例3と同様に反応を行い、スチレン付加フェノール樹脂734gを得た(フェノール樹脂F)。OH当量は114g/eq.でああった。 合成例7 スチレン503g(3.75モル)を用いて、合成例3と同様に反応を行い、スチレン付加フェノール樹脂1103gを得た(フェノール樹脂G)。OH当量は171g/eq.であった。合成例8 1LフラスコにビスフェノールF(本州化学製、4,4’体(31%)、2,4’体(49%)、2,2’体(20%))を600g(3.0モル)を仕込み175℃まで昇温させた。溶融後、撹拌しながらp−トルエンスルホン酸0.44gを仕込み、175℃においてインデン278g(2.4モル)を約3時間かけて滴下した。更に全還流下において3時間反応を継続した。その後、減圧下で低沸点成分を除去し、粘調なフェノール樹脂Hを878g得た。OH当量は146g/eq.、軟化点は粘調な液状物であるために測定できず、150℃での溶融粘度は0.04Pa・s、であった。 なお、上記合成例1〜8において、インデン又はスチレンの反応率はほぼ100%であった。また、合成例6〜8は比較のエポキシ樹脂を製造するために使用する中間体の合成例である。実施例1 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例1で合成したフェノール樹脂A400g、エピクロルヒドリン1470g及びジグライム221gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液225gを4時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロルヒドリンとの共沸により系外に除き、留出したエピクロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、更に1時間反応を継続した。その後、エピクロルヒドリン及びジグライムを減圧留去し、トルエン1700gに溶解した後、水洗により生成した塩を除いた。その後、12%水酸化ナトリウム水溶液150gを加え、80℃で2時間反応させた。反応後、水洗を行った後、溶媒であるトルエンを減圧留去し、淡褐色結晶性のエポキシ樹脂520gを得た(エポキシ樹脂A)。このエポキシ樹脂Aのエポキシ当量は220g/eq.であり、加水分解性塩素は330ppm、示差走査熱量分析における融点のピーク温度は110℃、キャピラリー法による融点は85〜113℃、150℃での溶融粘度は0.02Pa・sであった。FD−MS測定において、4,4’−ジヒドロキシビフェニルのエポキシ化物(成分A)に対応したm/z=298、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにインデンが1つ付加した化合物のエポキシ化物(成分B)に対応したm/z=414、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにインデンが2つ付加した化合物のエポキシ化物(成分C)に対応したm/z=530、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにインデンが3つ付加した化合物(成分D)のエポキシ化物に対応したm/z=647を観測した。また、GPC測定結果から、成分Aが24.4%、成分Bが28.8%、成分Cが19.3%、成分Dが6.2%、その他高分子量体が21.3%であった。ここで、成分Aは、一般式(1)においてnが0でp+qが0である成分であり、成分Bはnが0でp+qが1である成分であり、成分Cはnが0でp+qが2である成分であり、成分Dはnが0でp+qが3である成分であり、高分子量体とは一般式(1)において、nが1以上の成分をいう。 ここで、加水分解性塩素とは、試料0.5gをジオキサン30mlに溶解後、1N-KOH、10mlを加え30分間煮沸還流した後、室温まで冷却し、更に80%アセトン水100mlを加えたものを、0.002N-AgNO3水溶液で電位差滴定を行うことにより測定された値である。また、軟化点とはボール&リング法により昇温速度5℃/分で得られる値であり、粘度はブルックフィールド社製コーンプレート型粘度計を用いて測定した。示差走査熱量分析は、セイコーインスツル製DSC6200型を用い、昇温速度5℃/minで測定した。また、キャピラリー法による融点測定は柴田科学器械工業製ビュッヒ融点測定装置535型を用い、2℃/minで測定した。 GPC測定条件は、装置;MODEL151(ウオーターズ(株)製)、カラム;TSK-GEL2000×3本及びTSK-GEL4000×1本(いずれも東ソー(株)製)、溶媒;テトラヒドロフラン、流量;1 ml/min、温度;38℃、検出器;RIの条件で行った。実施例2 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例2で合成したフェノール樹脂B400gをエピクロルヒドリン1593g及びジグライム239gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液244gを用いて、実施例1と同様に反応を行い、淡褐色結晶性のエポキシ樹脂533gを得た(エポキシ樹脂B)。エポキシ当量は200g/eq.であり、加水分解性塩素は480ppm、示差走査熱量分析における融点のピーク温度は114℃、キャピラリー法による融点は95〜130℃、150℃での溶融粘度は0.01Pa・sであった。GPC測定結果から、成分Aが31.5%、成分Bが36.8%、成分Cが17.9%、成分Dが3.1%、その他高分子量体が10.7%であった。実施例3 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例3で合成したフェノール樹脂C400gをエピクロルヒドリン1530g及びジグライム230gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液270gを用いて、実施例4と同様に反応を行い、白色結晶性のエポキシ樹脂527gを得た(エポキシ樹脂C)。エポキシ当量は210g/eq.であり、加水分解性塩素は310ppm、示差走査熱量分析における融点のピーク温度は106℃、キャピラリー法による融点は60〜112℃、150℃での溶融粘度は0.01Pa・sであった。FD−MS測定において、4,4’−ジヒドロキシビフェニルのエポキシ化物(成分A)に対応したm/z=298、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにスチレンが1つ付加した化合物のエポキシ化物(成分E)に対応したm/z=402、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにスチレンが2つ付加した化合物のエポキシ化物(成分F)に対応したm/z=506、4,4’−ジヒドロキシビフェニルにスチレンが3つ付加した化合物(成分G)のエポキシ化物に対応したm/z=611を観測した。また、GPC測定結果から、成分Aが23.8%、成分Eが39.0%、成分Fが25.3%、成分Gが7.0%、その他高分子量体が4.9%であった。実施例4 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例4で合成したフェノール樹脂D400gをエピクロルヒドリン1650g及びジグライム250gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液290gを用いて、実施例4と同様に反応を行い、白色結晶性のエポキシ樹脂538gを得た(エポキシ樹脂D)。エポキシ当量は198g/eq.であり、加水分解性塩素は310ppm、示差走査熱量分析における融点のピーク温度は117℃、キャピラリー法による融点は62〜120℃、150℃での溶融粘度は0.01Pa・sであった。GPC測定結果から、成分Aが31.7%、成分Eが40.2%、成分Fが19.0%、成分Gが3.1%、その他高分子量体が6.0%であった。実施例5 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例5で合成したフェノール樹脂E400gをエピクロルヒドリン1790g及びジグライム270gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液320gを用いて、実施例4と同様に反応を行い、白色結晶性のエポキシ樹脂550gを得た(エポキシ樹脂E)。エポキシ当量は189g/eq.であり、加水分解性塩素は290ppm、示差走査熱量分析における融点のピーク温度は120℃、キャピラリー法による融点は79〜135℃、150℃での溶融粘度は0.01Pa・sであった。GPC測定結果から、成分Aが37.5%、成分Eが42.4%、成分Fが14.2%、成分Gが2.3%、その他高分子量体が3.6%であった。比較例1 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例6で合成したフェノール樹脂F400gをエピクロルヒドリン1950g及びジグライム290gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液340gを用いて、実施例4と同様に反応を行い、白色結晶性のエポキシ樹脂566gを得た(エポキシ樹脂F)。エポキシ当量は177g/eq.であり、加水分解性塩素は350ppm、示差走査熱量分析における融点のピーク温度は145℃(DSC)、キャピラリー法による融点は83〜165℃、150℃での溶融粘度は0.01Pa・sであった。GPC測定結果から、成分Aが37.5%、成分Eが42.4%、成分Fが14.2%、成分Gが2.3%、その他高分子量体が3.6%であった。比較例2 3Lの4口セパラブルフラスコに、合成例7で合成したフェノール樹脂G400gをエピクロルヒドリン1300g及びジグライム195gに溶解した後、減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液230gを用いて、実施例4と同様に反応を行い、粘調な液状のエポキシ樹脂504gを得た(エポキシ樹脂G)。エポキシ当量は231g/eq.、加水分解性塩素は270ppm、融点はなく、150℃での溶融粘度は0.04Pa・sであった。GPC測定結果から、成分Aが46.9%、成分Eが43.7%、成分Fが6.2%、成分Gが1.7%、その他高分子量体が1.5%であった。比較例3 3Lの4口セパラブルフラスコに合成例8で得たフェノール樹脂H400g、エピクロルヒドリン1520g、ジグライム228gを入れ撹拌溶解させた。減圧下、60℃にて48%水酸化ナトリウム水溶液233gを用いて、実施例4と同様に反応を行い、粘調な液状のエポキシ樹脂525gを得た(エポキシ樹脂H)。エポキシ当量は205g/eq.、加水分解性塩素は290ppm、融点はなく、150℃での溶融粘度は0.02Pa・sであった。GPC測定結果から、成分Aが18.3%、成分Eが32.1%、成分Fが29.3%、成分Gが11.8%、その他高分子量体が8.5%であった。実施例6〜10及び比較例4〜7 エポキシ樹脂成分として、実施例1〜5及び比較例1〜3で合成したエポキシ樹脂A〜H、ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ樹脂I;ジャパンエポキシレジン製、YX−4000H、エポキシ当量 195、融点105℃)、硬化剤として、フェノールアラルキル樹脂(三井化学製、XL-225-LL、OH当量175、軟化点74℃)を用い、充填剤としてシリカ(平均粒径、22μm)、硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンを表1に示す配合で混練しエポキシ樹脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を用いて175℃にて成形し、175℃にて12時間ポストキュアを行い、硬化物試験片を得た後、各種物性測定に供した。また、ブロッキング性は、微粉砕したエポキシ樹脂組成物を25℃で24時間放置後の凝集した組成物の重量割合とした。なお、表1に示す配合量は重量部である。 ガラス転移点(Tg)は、熱機械測定装置により、昇温速度10℃/分の条件で求めた。吸水率は、本エポキシ樹脂組成物を用いて、直径50mm、厚さ3mmの円盤を成形し、ポストキュア後、85℃、相対湿度85%の条件で100時間吸湿させたときのものである。接着強度は、42アロイ板2枚の間に25mm×12.5mm×0.5mmの成形物を圧縮成型機により175℃で成形し、175℃、12時間ポストキュアを行った後、引張剪断強度を求めることにより評価した。難燃性は、厚さ1/16インチの試験片を成形し、UL94V−0規格によって評価した。燃焼時間とは、n=5の試験での合計燃焼時間である。表2に評価結果を示す。 下記一般式(1)、(但し、R1、R2は、独立に下記式(a)若しくは(b)で表される置換基を示し、Gはグリシジル基を示す。pおよびqは独立に0〜3の数であるが、p+qの合計は平均値として0.5〜1.4である。また、nは0〜5の数を示す。)で表され、示差走査熱分析における吸熱ピークが80〜150℃にある結晶性エポキシ樹脂。 4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対して、インデン又はスチレンを0.5〜1.4モル反応させて、下記一般式(2)、(但し、R1、R2は、独立に水素原子又は下記式(a)若しくは(b)で表される置換基を示す。pおよびqは0〜3の数であるが、p+qの合計は平均値として0.5〜1.4である。)で表されるフェノール樹脂を得た後、エピクロルヒドリンを反応させることを特徴とする結晶性エポキシ樹脂の製造方法。 一般式(1)において、nが0であり、かつpおよびqともに0である成分が全体の30〜45wt%である請求項1の結晶性エポキシ樹脂。 請求項2に記載のエポキシ樹脂の製造方法によって得られたことを特徴とするエポキシ樹脂。 エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキシ樹脂組成物であって、エポキシ樹脂成分として請求項1又は3に記載のエポキシ樹脂を配合したことを特徴とするエポキシ樹脂組成物。 請求項5に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化させて得られたことを特徴とする硬化物。 【課題】流動性、フィラー高充填性、耐湿性、耐熱性、難燃性に優れた硬化物を与え、電子部品の封止、回路基板材料等の用途に好適なエポキシ樹脂及びその組成物を提供する。【解決手段】4,4’−ジヒドロキシビフェニル1モルに対して、0.5〜1.4モルのインデン又はスチレンを反応させて得られるフェノール樹脂と、エピクロルヒドリンを反応させることにより得られるエポキシ樹脂であり、下記一般式(1)で表される。(但し、R1、R2は、独立に水素、インデニル基又はα−メチルベンジル基を示し、Gはグリシジル基を示す。pおよびqは0〜3の数であるが、p+qの合計は平均値として0.5〜1.4である。また、nは0〜5の数を示す。)【選択図】なし