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タイトル:公開特許公報(A)_ウレタン(メタ)アクリレート及び硬化性組成物
出願番号:2006005937
年次:2007
IPC分類:C08F 299/06,C08G 59/14,C07C 271/16,C07C 317/22


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新井 久由 桜井 宏子 JP 2007186604 公開特許公報(A) 20070726 2006005937 20060113 ウレタン(メタ)アクリレート及び硬化性組成物 大日本インキ化学工業株式会社 000002886 河野 通洋 100124970 新井 久由 桜井 宏子 C08F 299/06 20060101AFI20070629BHJP C08G 59/14 20060101ALI20070629BHJP C07C 271/16 20060101ALI20070629BHJP C07C 317/22 20060101ALI20070629BHJP JPC08F299/06C08G59/14C07C271/16C07C317/22 2 OL 17 4H006 4J036 4J127 4H006AA01 4H006AA03 4H006AB46 4H006TA02 4H006TB13 4H006TC34 4J036AB01 4J036AB07 4J036AC01 4J036AD07 4J036AD08 4J036AD21 4J036CA02 4J036CA07 4J036CB20 4J127AA01 4J127AA03 4J127BB031 4J127BB032 4J127BB091 4J127BB111 4J127BB112 4J127BB221 4J127BB222 4J127BC021 4J127BC022 4J127BC031 4J127BC121 4J127BC132 4J127BD161 4J127BD182 4J127BD411 4J127BE34Y 4J127BE342 4J127BE51Y 4J127BE511 4J127BF15X 4J127BF151 4J127BF23X 4J127BF231 4J127BF24X 4J127BF242 4J127BF27X 4J127BF272 4J127BF28X 4J127BF282 4J127BF29X 4J127BF291 4J127BF30X 4J127BF301 4J127BF66X 4J127BF661 4J127BG04X 4J127BG041 4J127BG05X 4J127BG051 4J127BG052 4J127BG10Y 4J127BG102 4J127BG12X 4J127BG121 4J127BG122 4J127BG13X 4J127BG132 4J127BG17X 4J127BG17Y 4J127BG171 4J127BG172 4J127BG27Y 4J127BG271 4J127BG33X 4J127BG331 4J127FA08 4J127FA15 本発明は、優れた水蒸気バリア性を有し、活性エネルギー線硬化系材料、熱硬化系材料、あるいはポリマー原料として好適に使用できる(メタ)アクリレートに関し、特に水蒸気バリアフィルム用材料として有用な(メタ)アクリレートに関する。 従来、(メタ)アクリレートは、活性エネルギー線硬化系や熱硬化系の材料、あるいはポリマー原料として最も汎用に使用される化合物である。中でもウレタン(メタ)アクリレートは、強靭性、柔軟性、耐薬品性、密着性、基材接着性等の塗膜物性に優れる理由から、特に、活性エネルギー線硬化系や熱硬化系の材料として汎用に利用されている。さらに最近では、このような塗膜固有の物性プラス何らかの付加的物性を有する原料が求められ、多々研究がなされている。 付加的物性の1つである水蒸気バリア性は、通常、食品や医療等の包装材料や、各種デバイスのフレキシブル基板用の材料に求められる必須物性である。従来使用される水蒸気バリアフィルムは、例えば、ポリ塩化ビニリデン又は塩化ビニリデン共重合体(以下、PVDCという。)等を基材フィルムにコーティングした食品用コーティングフィルムや、水溶性高分子に無機の層状粒子や板状粒子を混合した食品用フィルム(例えば特許文献1参照)、あるいは、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等の金属酸化物の薄膜をプラスチックフィルムに形成したデバイス基板用フィルム(例えば特許文献2参照)等が知られている。 上記水蒸気バリアフィルムの原料であるPVDCは、燃焼により有害なガスを生じ、さらには低温での焼却により発ガン性の強い有機塩素化合物を発生させる原因となるので、近年は使用されない。また、無機の層状粒子や板状粒子を混合して水蒸気バリア性を付与する方法は、無機微粒子の添加量と水蒸気バリア性とが比例しており、水蒸気バリア性を高めようと添加量を増やすと、塗工性に劣るといった欠点がある。また、デバイス基板用フィルムは、特に厳しい水蒸気バリア性を求められることから、金属酸化物の薄膜の他に、水蒸気バリア性を有する薄膜層を設ける必要がある。(例えば、特許文献3参照)。またこれらはいずれも、水蒸気バリア性は、無機微粒子や金属酸化物の無機物の存在に依存しており、有機物固有の物性に依存するものではなかった。特開2001−48994号公報特開昭58−217344号公報特開2005−262529号公報 本発明が解決しようとする課題は、前記水蒸気バリア性を要求させる用途に有用であり、塗工可能で、活性エネルギー線や熱により容易に硬化可能な、新規のウレタン(メタ)アクリレートを提供することにある。 本発明者らは、疎水基を多く含有し、かつπ−πスタッキングすると考えられるπ電子共役構造を分子末端に有する、新規のウレタン(メタ)アクリレートモノマーが、優れた水蒸気バリア性を有することを見いだした。具体的には、π電子共役構造を有する基を、3次元構造を構成するポリマーにペンダントさせ、該構造をπ-πスタッキングさせることで、硬化物の水蒸気透過性を大幅に抑制することができることを見いだした。 即ち、本発明は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを提供する。 (1)(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、A1及びA2は各々独立して、(但し、上記A3は、(nは0〜9の整数を表す)で表される置換基を表す。)B1は、を表す。)また、本発明は、前記一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物を提供する。 本発明のウレタン(メタ)アクリレートは、化合物そのものが高い水蒸気バリア性を有するため、無機物を添加しなくても十分な水蒸気バリア性を得ることができ、水蒸気バリア性を要求される用途用の原料として特に有用である。勿論、無機物を併用することで、更に高い水蒸気バリア性を得ることができる。 本発明のウレタン(メタ)アクリレートを、水蒸気バリア性を要求される用途に使用する硬化性組成物の原料として使用することにより、水蒸気バリア性に優れたものを得ることができる。(一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレート) 一般式(1)において、A1及びA2は各々独立して、置換基A3を有していてもよい下記構造で表されるベンゼン環、またはテトラリン、ナフタレン構造を有する1価の基を表す。 ここで、置換基A3は、である。(nは0〜9の整数を表す) 前記A1及びA2と、置換基A3との組み合わせにおいて、特に好ましい組み合わせを下記に示す。 前記A1及びA2は、硬化後の3次元構造を構成するポリマーにペンダントされる部位となる。前記A1及びA2はπ-πスタッキング能力を有し、隣接する各々のA1及びA2がスタッキングすることで、硬化物の密度が上がり、硬化皮膜の水蒸気バリア性を低減できると考えられる。また、一般式(1)で表される化合物は高い接着性も有するが、これは、該構造がかさ高い構造であるため、硬化時の硬化収縮を抑制していると考えられる。一般式(1)において、B1は、を表す。中でも、下記構造が、耐熱性と溶解性のバランスの面で特に好ましい。(一般式(1)で表される化合物の製造方法) 前記一般式(1)で表される化合物は、公知の方法で製造することができる。最も汎用の方法として、前記B1を有するジグリシジルエーテルと、前記A1及びA2を有するヒドロキシ化合物とを反応させた後、ジグリシジルエーテルが開環して生じたヒドロキシ基に、(メタ)アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させる方法が挙げられる。 例えば、前記A1及びA2がビフェノール基であり、前記B1が、ビスフェノールAや水添ビスフェノールAである化合物の場合は、ビスフェノールAや水添ビスフェノールAのジグリシジルエーテルと、2−フェニルフェノールとを、テトラメチルアンモニウムクロリド等の触媒の存在下、窒素雰囲気にて反応させ、エポキシとフェノールの付加した中間体を得た後、触媒の存在下、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させることで、得ることができる。 また、前記B1を有するジヒドロキシ化合物と、前記A1及びA2を有するグリシジルエーテルとを反応させた後、グリシジルエーテルが開環して生じたヒドロキシ基に、(メタ)アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させる方法でも得ることができる。 例えば、前記A1及びA2がビフェノール基であり、前記B1が、ビスフェノールAやビスフェノールSである化合物の場合は、ビスフェノールAやビスフェノールSと、2−フェニルフェノールグリシジルエーテルとを、テトラメチルアンモニウムクロリド等の触媒の存在下、窒素雰囲気にて反応させ、エポキシとフェノールの付加した中間体を得た後、触媒の存在下、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させることで、得ることができる。(一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物) 本発明の硬化性組成物は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する以外は特に限定されず、公知の硬化性組成物に使用される、(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルオリゴマー、重合開始剤、各種添加剤を適宜添加することができる。 (メタ)アクリルモノマーとしては、例えば、グリセリン(メタ)アクリレート、(メタ)アクロイルオキシエチルフタレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジ(メタ)アクリレート、リン酸ジメタクリレート、トリス((メタ)アクロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ジメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジぺンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびそれらのエチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、カプロラクトン変性品等を挙げることができる。 水蒸気バリア性を更に高める場合は、環式構造を有する(メタ)アクリルモノマーを組み合わせることが効果的である。環式構造を有する(メタ)アクリルモノマーとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、モルホリンアクリレート、メトキシ化シクロデカントリエンアクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、等を挙げることができる。 (メタ)アクリルオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらのオリゴマーも、(メタ)アクリルモノマーと同様に、環状構造を有する(メタ)アクリレートオリゴマーであると、水蒸気バリア性を更に高めることができ好ましい。環式構造としては、脂環でも芳香環でも、また、単環構造でも多環構造でもよい。さらに該環式構造は、置換基として、アミノ基、アミド基、アルキル基、イソシアヌル基、エステル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基等を有しても良い。これらの(メタ)アクリルモノマーや(メタ)アクリルオリゴマーは2種類以上を混合して使用してもよい。 また、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを光硬化性組成物として使用する場合は、重合開始剤として光重合開始剤を使用する。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、チオキサントン類等の光ラジカル重合開始剤、ジアゾジスルホン系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、フェニルスルホン系化合物、スルフォニルピリジン系化合物、トリアジン系化合物及びジフェニルヨードニウム化合物等の光カチオン開始剤が挙げられる。添加する場合は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含む硬化性組成物全量に対して10質量%以下であることが好ましく、6質量%以下が特に好ましく、1〜4質量%の範囲が更に好ましい。光は紫外線又は可視光線が好ましく、中でも、300nm〜400nmの波長の光が好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用することができる。該光源の照度、光量に特に限定はなく、目的に応じて調製することが可能である。電子線を使用する場合は、重合開始剤を使用せずに硬化することができる。 また、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを、熱硬化性組成物として使用する場合は、重合開始剤として熱重合開始剤を使用する。熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。添加する場合は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含む硬化性組成物全量に対して10質量%以下であることが好ましく、6質量%以下が特に好ましく、1〜4質量%の範囲が更に好ましい。熱硬化の条件は使用目的に応じて調製することが可能である。 一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物を、水蒸気バリア性を付与する材料として、各種用途に使用することが可能である。 例えば、透明性を有する基材(例えば熱可塑性樹脂フィルム)に、本発明の一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物溶液を、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、メタリングバーコートなどの公知のコート法で塗工後、硬化させることで、水蒸気バリアフィルムを得ることができる。この場合、基材が熱可塑性樹脂フィルムの場合には、熱で可塑化する恐れがあるので、硬化手段としては紫外線等の光を使用するのが好ましい。この時、水蒸気バリア性をさらに高める目的で、公知の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、酸化防止剤、耐候剤、熱安定剤、滑剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、着色剤、酸素吸収剤等であり、これらはガスバリア層の全重量に対して25重量%以下まで含有されていてもよい。加えて、前記ガスバリアフィルムの透明性およびガスバリア性が損なわれない範囲内であれば、前記ガスバリア層に無機系微粒子、有機系微粒子が含まれていてもよい。無機系微粒子、有機系微粒子としては、例えばカオリン、天然粘土、合成粘土鉱物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、リン酸カルシウム、コロイダルシリカ、水ガラス、架橋アクリル系粒子、架橋ポリスチレン系粒子等が挙げられる。 また、ポリイミド等の耐熱性を有する樹脂基材上に、金属酸化物の薄膜と、本発明の一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化塗膜を有するフィルム基板は、液晶表示素子、太陽電池、エレクトロルミネッセンス素子等のデバイス用の基板として好適に使用することができる。具体的には、耐熱性を有する樹脂基板上に、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の方法で金属酸化物の薄膜層を得た後、本発明の一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物溶液を、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、メタリングバーコートなどの公知のコート法で塗工後、硬化させることで得ることができる。 以下に、本発明を実施例、比較例によって説明する。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」および「%」は質量基準である。(合成例1 化合物(a)の合成) 化合物(a) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル(エポキシ当量209)(エピクロンEXA−7015,大日本インキ)20部、2−フェニルフェノール(東京化成)16.3部、テトラメチルアンモニウムクロリド0.015部を触媒とし、窒素雰囲気にて140℃、6時間反応し、エポキシとフェノールの付加した中間体を得た。得られた中間体にp−メトキシフェノール0.03部とラウリル酸ジブチル錫0.01部を添加し、80℃、空気雰囲気下においてメタクリロイルオキシエチルイソシアネート14.8部を滴下し4時間攪拌して反応混合物を得た。(化合物の精製) 反応混合物20部に60部の温メタノールを加え溶解した後冷却し、沈殿した粘調な油状層を分離した後、再び60部の温メタノールを加え溶解した後冷却し、沈殿した粘調な油状層を分離した。油状物質にトルエンを加え、減圧蒸留にて残留メタノールを除去し、イオン交換体1部を加え、40℃、2時間攪拌し、脱イオン処理した後、イオン交換体を濾過、トルエンを減圧除去して精製した化合物(a)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表1に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例2 化合物(b)の合成) 化合物(b) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりに、ビスフェノールAジグリシジルエーテル(エポキシ当量171)(エピクロンEXA−850CRP,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに2−ナフトール(東京化成)16.9部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの代わりにアクリロイルオキシエチルイソシアネート(カレンズAOI,昭和電工)を16.5部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.019部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.01部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(b)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表2に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例3 化合物(c)の合成) 化合物(c) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールSジグリシジルエーテル(エポキシ当量296)(エピクロンEXA−7015CRP,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−α−クミルフェノール(東京化成)を13.7部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを10.5部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.014部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.01部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(c)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表3に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例4 化合物(d)の合成) 化合物(d) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(エポキシ当量108)(東京化成)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−フェニルフェノール(東京化成)を31.5部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを28.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.02部、p−メトキシフェノールを0.04部、ラウリル酸ジブチル錫を0.016部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(d)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表4に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例5 化合物(e)の合成) 化合物(e) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりに1,6−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ナフタレン(エポキシ当量142)(エピクロンEXA−4032D,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに5,6,7,8−テトラヒドロナフト−ル(東京化成)を20.9部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを21.9部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.016部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.013部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(e)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を下記に示す。なお、表5測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例6 化合物(f)の合成) 化合物(f) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりに3,3‘,5,5’−テトラメチルビフェニルー4,4‘−ジグリシジルエーテル(エポキシ当量196)(エピコートYX4000H,ジャパンエポキシレジン)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−ノニルフェノール(東京化成)22.5部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの代わりにアクリロイルオキシエチルイソシアネートを14.4部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.017部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.011部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(f)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表6に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例7 化合物(g)の合成) 化合物(g) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールFジグリシジルエーテル(エポキシ当量175)(エピクロンEXA−830,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−シクロヘキシルフェノール(東京化成)を20.1部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを17.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.016部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.012部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(g)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表7に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(比較例1 化合物(h)の合成) 比較化合物(h) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールA(東京化成)を20部、2−フェニルフェノールの代わりにn−ブチルグリシジルエーテル(東京化成)を8.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.011部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.02部、アクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.5部用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(h)を得た。(比較例2 化合物(i)の合成) 比較化合物(i) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにセバシン酸(東京化成)を20部、2−フェニルフェノールの代わりにフェニルグリシジルエーテル(東京化成)を29.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.02部、p−メトキシフェノールを0.04部、ラウリル酸ジブチル錫を0.016部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを30.7部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(i)を得た。(実施例8)硬化性組成物の調整 化合物(a)100部に対し、光重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパンー1−オン(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)を3部、PO変性ビスフェノールAジグリシジルエーテルジアクリレート(エポキシエステル3002A、共栄社化学)を60部添加し、実施例1の組成物とした。 同様にして、実施例9〜15および比較例3〜4の組成物を調整した。各実施例および比較例の配合を表8に示す。(水蒸気バリア性の測定) 水蒸気バリア性の評価は、JIS Z−0208に準じて行った。40℃、相対湿度90%の条件で、24時間で試料を透過した水分量(g/m2・24時間)を測定した。試料は、前記光硬化性組成物をアプリケータで厚さ約200μmに基板上に塗布し、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を使用して25mW/cm2の紫外線を200秒間照射したものを使用した。その結果を表9に示す。 本発明のウレタン(メタ)アクリレートは、活性エネルギー線硬化性材料、熱硬化性材料、各種ポリマー原料として好適に使用することができる。特に、水蒸気バリア性を求められるような食品・医療等の包装材料、デバイス用基板材料、シール剤等、各種用途に好適に使用することができる。一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレート。 (1)(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、A1及びA2は各々独立して、(但し、上記A3は、(nは0〜9の整数を表す)で表される置換基を表す。)B1は、を表す。)前記一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする硬化性組成物。 【課題】 前記水蒸気バリア性を要求させる用途に有用であり、塗工可能で、活性エネルギー線や熱により容易に硬化可能な、新規のウレタン(メタ)アクリレートを提供する。【解決手段】 一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレート。【化0】(1)(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、A1及びA2は各々独立して置換基を有するベンゼン環等を表し、B1は、ビスフェノールA骨格等を表す。【選択図】 なし


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特許公報(B2)_ウレタン(メタ)アクリレート及び硬化性組成物

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タイトル:特許公報(B2)_ウレタン(メタ)アクリレート及び硬化性組成物
出願番号:2006005937
年次:2011
IPC分類:C07C 271/16,C08F 20/36,C07C 317/22


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新井 久由 桜井 宏子 JP 4655226 特許公報(B2) 20110107 2006005937 20060113 ウレタン(メタ)アクリレート及び硬化性組成物 DIC株式会社 000002886 河野 通洋 100124970 新井 久由 桜井 宏子 20110323 C07C 271/16 20060101AFI20110303BHJP C08F 20/36 20060101ALI20110303BHJP C07C 317/22 20060101ALI20110303BHJP JPC07C271/16C08F20/36C07C317/22 C07C 271/16 C07C 317/22 C08F 20/36 CA/REGISTRY(STN) 特開2007−092037(JP,A) 国際公開第2004/103949(WO,A1) 特開昭62−153312(JP,A) 2 2007186604 20070726 17 20081106 宮本 純 本発明は、優れた水蒸気バリア性を有し、活性エネルギー線硬化系材料、熱硬化系材料、あるいはポリマー原料として好適に使用できる(メタ)アクリレートに関し、特に水蒸気バリアフィルム用材料として有用な(メタ)アクリレートに関する。 従来、(メタ)アクリレートは、活性エネルギー線硬化系や熱硬化系の材料、あるいはポリマー原料として最も汎用に使用される化合物である。中でもウレタン(メタ)アクリレートは、強靭性、柔軟性、耐薬品性、密着性、基材接着性等の塗膜物性に優れる理由から、特に、活性エネルギー線硬化系や熱硬化系の材料として汎用に利用されている。さらに最近では、このような塗膜固有の物性プラス何らかの付加的物性を有する原料が求められ、多々研究がなされている。 付加的物性の1つである水蒸気バリア性は、通常、食品や医療等の包装材料や、各種デバイスのフレキシブル基板用の材料に求められる必須物性である。従来使用される水蒸気バリアフィルムは、例えば、ポリ塩化ビニリデン又は塩化ビニリデン共重合体(以下、PVDCという。)等を基材フィルムにコーティングした食品用コーティングフィルムや、水溶性高分子に無機の層状粒子や板状粒子を混合した食品用フィルム(例えば特許文献1参照)、あるいは、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素等の金属酸化物の薄膜をプラスチックフィルムに形成したデバイス基板用フィルム(例えば特許文献2参照)等が知られている。 上記水蒸気バリアフィルムの原料であるPVDCは、燃焼により有害なガスを生じ、さらには低温での焼却により発ガン性の強い有機塩素化合物を発生させる原因となるので、近年は使用されない。また、無機の層状粒子や板状粒子を混合して水蒸気バリア性を付与する方法は、無機微粒子の添加量と水蒸気バリア性とが比例しており、水蒸気バリア性を高めようと添加量を増やすと、塗工性に劣るといった欠点がある。また、デバイス基板用フィルムは、特に厳しい水蒸気バリア性を求められることから、金属酸化物の薄膜の他に、水蒸気バリア性を有する薄膜層を設ける必要がある。(例えば、特許文献3参照)。またこれらはいずれも、水蒸気バリア性は、無機微粒子や金属酸化物の無機物の存在に依存しており、有機物固有の物性に依存するものではなかった。特開2001−48994号公報特開昭58−217344号公報特開2005−262529号公報 本発明が解決しようとする課題は、前記水蒸気バリア性を要求させる用途に有用であり、塗工可能で、活性エネルギー線や熱により容易に硬化可能な、新規のウレタン(メタ)アクリレートを提供することにある。 本発明者らは、疎水基を多く含有し、かつπ−πスタッキングすると考えられるπ電子共役構造を分子末端に有する、新規のウレタン(メタ)アクリレートモノマーが、優れた水蒸気バリア性を有することを見いだした。具体的には、π電子共役構造を有する基を、3次元構造を構成するポリマーにペンダントさせ、該構造をπ-πスタッキングさせることで、硬化物の水蒸気透過性を大幅に抑制することができることを見いだした。 即ち、本発明は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを提供する。 (1)(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、A1及びA2は各々独立して、(但し、上記A3は、(nは0〜9の整数を表す)で表される置換基を表す。)B1は、を表す。)また、本発明は、前記一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物を提供する。 本発明のウレタン(メタ)アクリレートは、化合物そのものが高い水蒸気バリア性を有するため、無機物を添加しなくても十分な水蒸気バリア性を得ることができ、水蒸気バリア性を要求される用途用の原料として特に有用である。勿論、無機物を併用することで、更に高い水蒸気バリア性を得ることができる。 本発明のウレタン(メタ)アクリレートを、水蒸気バリア性を要求される用途に使用する硬化性組成物の原料として使用することにより、水蒸気バリア性に優れたものを得ることができる。(一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレート) 一般式(1)において、A1及びA2は各々独立して、置換基A3を有していてもよい下記構造で表されるベンゼン環、またはテトラリン、ナフタレン構造を有する1価の基を表す。 ここで、置換基A3は、である。(nは0〜9の整数を表す) 前記A1及びA2と、置換基A3との組み合わせにおいて、特に好ましい組み合わせを下記に示す。 前記A1及びA2は、硬化後の3次元構造を構成するポリマーにペンダントされる部位となる。前記A1及びA2はπ-πスタッキング能力を有し、隣接する各々のA1及びA2がスタッキングすることで、硬化物の密度が上がり、硬化皮膜の水蒸気バリア性を低減できると考えられる。また、一般式(1)で表される化合物は高い接着性も有するが、これは、該構造がかさ高い構造であるため、硬化時の硬化収縮を抑制していると考えられる。一般式(1)において、B1は、を表す。中でも、下記構造が、耐熱性と溶解性のバランスの面で特に好ましい。(一般式(1)で表される化合物の製造方法) 前記一般式(1)で表される化合物は、公知の方法で製造することができる。最も汎用の方法として、前記B1を有するジグリシジルエーテルと、前記A1及びA2を有するヒドロキシ化合物とを反応させた後、ジグリシジルエーテルが開環して生じたヒドロキシ基に、(メタ)アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させる方法が挙げられる。 例えば、前記A1及びA2がビフェノール基であり、前記B1が、ビスフェノールAや水添ビスフェノールAである化合物の場合は、ビスフェノールAや水添ビスフェノールAのジグリシジルエーテルと、2−フェニルフェノールとを、テトラメチルアンモニウムクロリド等の触媒の存在下、窒素雰囲気にて反応させ、エポキシとフェノールの付加した中間体を得た後、触媒の存在下、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させることで、得ることができる。 また、前記B1を有するジヒドロキシ化合物と、前記A1及びA2を有するグリシジルエーテルとを反応させた後、グリシジルエーテルが開環して生じたヒドロキシ基に、(メタ)アクリロイル基を有するイソシアネート化合物を反応させる方法でも得ることができる。 例えば、前記A1及びA2がビフェノール基であり、前記B1が、ビスフェノールAやビスフェノールSである化合物の場合は、ビスフェノールAやビスフェノールSと、2−フェニルフェノールグリシジルエーテルとを、テトラメチルアンモニウムクロリド等の触媒の存在下、窒素雰囲気にて反応させ、エポキシとフェノールの付加した中間体を得た後、触媒の存在下、(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアネートを反応させることで、得ることができる。(一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物) 本発明の硬化性組成物は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する以外は特に限定されず、公知の硬化性組成物に使用される、(メタ)アクリルモノマー、(メタ)アクリルオリゴマー、重合開始剤、各種添加剤を適宜添加することができる。 (メタ)アクリルモノマーとしては、例えば、グリセリン(メタ)アクリレート、(メタ)アクロイルオキシエチルフタレート、フェノキシ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、フタル酸ジ(メタ)アクリレート、リン酸ジメタクリレート、トリス((メタ)アクロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ジメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジぺンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、およびそれらのエチレンオキシド、プロピレンオキシド、エピクロルヒドリン、カプロラクトン変性品等を挙げることができる。 水蒸気バリア性を更に高める場合は、環式構造を有する(メタ)アクリルモノマーを組み合わせることが効果的である。環式構造を有する(メタ)アクリルモノマーとしては、例えば、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、モルホリンアクリレート、メトキシ化シクロデカントリエンアクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ペンタメチルピペリジルメタクリレート、トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレート、等を挙げることができる。 (メタ)アクリルオリゴマーとしては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらのオリゴマーも、(メタ)アクリルモノマーと同様に、環状構造を有する(メタ)アクリレートオリゴマーであると、水蒸気バリア性を更に高めることができ好ましい。環式構造としては、脂環でも芳香環でも、また、単環構造でも多環構造でもよい。さらに該環式構造は、置換基として、アミノ基、アミド基、アルキル基、イソシアヌル基、エステル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基等を有しても良い。これらの(メタ)アクリルモノマーや(メタ)アクリルオリゴマーは2種類以上を混合して使用してもよい。 また、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを光硬化性組成物として使用する場合は、重合開始剤として光重合開始剤を使用する。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、チオキサントン類等の光ラジカル重合開始剤、ジアゾジスルホン系化合物、トリフェニルスルホニウム系化合物、フェニルスルホン系化合物、スルフォニルピリジン系化合物、トリアジン系化合物及びジフェニルヨードニウム化合物等の光カチオン開始剤が挙げられる。添加する場合は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含む硬化性組成物全量に対して10質量%以下であることが好ましく、6質量%以下が特に好ましく、1〜4質量%の範囲が更に好ましい。光は紫外線又は可視光線が好ましく、中でも、300nm〜400nmの波長の光が好ましい。光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等を使用することができる。該光源の照度、光量に特に限定はなく、目的に応じて調製することが可能である。電子線を使用する場合は、重合開始剤を使用せずに硬化することができる。 また、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを、熱硬化性組成物として使用する場合は、重合開始剤として熱重合開始剤を使用する。熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。添加する場合は、一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含む硬化性組成物全量に対して10質量%以下であることが好ましく、6質量%以下が特に好ましく、1〜4質量%の範囲が更に好ましい。熱硬化の条件は使用目的に応じて調製することが可能である。 一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物を、水蒸気バリア性を付与する材料として、各種用途に使用することが可能である。 例えば、透明性を有する基材(例えば熱可塑性樹脂フィルム)に、本発明の一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物溶液を、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、メタリングバーコートなどの公知のコート法で塗工後、硬化させることで、水蒸気バリアフィルムを得ることができる。この場合、基材が熱可塑性樹脂フィルムの場合には、熱で可塑化する恐れがあるので、硬化手段としては紫外線等の光を使用するのが好ましい。この時、水蒸気バリア性をさらに高める目的で、公知の添加剤が含まれていてもよい。添加剤としては、酸化防止剤、耐候剤、熱安定剤、滑剤、結晶核剤、紫外線吸収剤、着色剤、酸素吸収剤等であり、これらはガスバリア層の全重量に対して25重量%以下まで含有されていてもよい。加えて、前記ガスバリアフィルムの透明性およびガスバリア性が損なわれない範囲内であれば、前記ガスバリア層に無機系微粒子、有機系微粒子が含まれていてもよい。無機系微粒子、有機系微粒子としては、例えばカオリン、天然粘土、合成粘土鉱物、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、リン酸カルシウム、コロイダルシリカ、水ガラス、架橋アクリル系粒子、架橋ポリスチレン系粒子等が挙げられる。 また、ポリイミド等の耐熱性を有する樹脂基材上に、金属酸化物の薄膜と、本発明の一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化塗膜を有するフィルム基板は、液晶表示素子、太陽電池、エレクトロルミネッセンス素子等のデバイス用の基板として好適に使用することができる。具体的には、耐熱性を有する樹脂基板上に、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の方法で金属酸化物の薄膜層を得た後、本発明の一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有する硬化性組成物溶液を、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、メタリングバーコートなどの公知のコート法で塗工後、硬化させることで得ることができる。 以下に、本発明を実施例、比較例によって説明する。しかし、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」および「%」は質量基準である。(合成例1 化合物(a)の合成) 化合物(a) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル(エポキシ当量209)(エピクロンEXA−7015,大日本インキ)20部、2−フェニルフェノール(東京化成)16.3部、テトラメチルアンモニウムクロリド0.015部を触媒とし、窒素雰囲気にて140℃、6時間反応し、エポキシとフェノールの付加した中間体を得た。得られた中間体にp−メトキシフェノール0.03部とラウリル酸ジブチル錫0.01部を添加し、80℃、空気雰囲気下においてメタクリロイルオキシエチルイソシアネート14.8部を滴下し4時間攪拌して反応混合物を得た。(化合物の精製) 反応混合物20部に60部の温メタノールを加え溶解した後冷却し、沈殿した粘調な油状層を分離した後、再び60部の温メタノールを加え溶解した後冷却し、沈殿した粘調な油状層を分離した。油状物質にトルエンを加え、減圧蒸留にて残留メタノールを除去し、イオン交換体1部を加え、40℃、2時間攪拌し、脱イオン処理した後、イオン交換体を濾過、トルエンを減圧除去して精製した化合物(a)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表1に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例2 化合物(b)の合成) 化合物(b) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりに、ビスフェノールAジグリシジルエーテル(エポキシ当量171)(エピクロンEXA−850CRP,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに2−ナフトール(東京化成)16.9部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの代わりにアクリロイルオキシエチルイソシアネート(カレンズAOI,昭和電工)を16.5部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.019部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.01部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(b)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表2に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例3 化合物(c)の合成) 化合物(c) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールSジグリシジルエーテル(エポキシ当量296)(エピクロンEXA−7015CRP,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−α−クミルフェノール(東京化成)を13.7部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを10.5部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.014部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.01部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(c)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表3に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例4 化合物(d)の合成) 化合物(d) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(エポキシ当量108)(東京化成)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−フェニルフェノール(東京化成)を31.5部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを28.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.02部、p−メトキシフェノールを0.04部、ラウリル酸ジブチル錫を0.016部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(d)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表4に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例5 化合物(e)の合成) 化合物(e) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりに1,6−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)ナフタレン(エポキシ当量142)(エピクロンEXA−4032D,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに5,6,7,8−テトラヒドロナフト−ル(東京化成)を20.9部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを21.9部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.016部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.013部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(e)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を下記に示す。なお、表5測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例6 化合物(f)の合成) 化合物(f) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりに3,3‘,5,5’−テトラメチルビフェニルー4,4‘−ジグリシジルエーテル(エポキシ当量196)(エピコートYX4000H,ジャパンエポキシレジン)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−ノニルフェノール(東京化成)22.5部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートの代わりにアクリロイルオキシエチルイソシアネートを14.4部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.017部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.011部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(f)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表6に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(実施例7 化合物(g)の合成) 化合物(g) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールFジグリシジルエーテル(エポキシ当量175)(エピクロンEXA−830,大日本インキ)を20部、2−フェニルフェノールの代わりに4−シクロヘキシルフェノール(東京化成)を20.1部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを17.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.016部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.012部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(g)を得た。得られた生成物の核磁気共鳴(NMR)の測定を行った結果を表7に示す。なお、下記測定は、基準物質としてテトラメチルシランを、溶媒は、重クロロホルムを用いて行った。(比較例1 化合物(h)の合成) 比較化合物(h) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにビスフェノールA(東京化成)を20部、2−フェニルフェノールの代わりにn−ブチルグリシジルエーテル(東京化成)を8.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.011部、p−メトキシフェノールを0.03部、ラウリル酸ジブチル錫を0.02部、アクリロイルオキシエチルイソシアネートを16.5部用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(h)を得た。(比較例2 化合物(i)の合成) 比較化合物(i) 水添ビスフェノールAジグリシジルエーテルの代わりにセバシン酸(東京化成)を20部、2−フェニルフェノールの代わりにフェニルグリシジルエーテル(東京化成)を29.7部、テトラメチルアンモニウムクロリドを0.02部、p−メトキシフェノールを0.04部、ラウリル酸ジブチル錫を0.016部、メタクリロイルオキシエチルイソシアネートを30.7部、用い、実施例1と同様にして反応混合物を得た。得られた反応混合物を実施例1と同様の方法で精製し、化合物(i)を得た。(実施例8)硬化性組成物の調整 化合物(a)100部に対し、光重合開始剤として2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパンー1−オン(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ)を3部、PO変性ビスフェノールAジグリシジルエーテルジアクリレート(エポキシエステル3002A、共栄社化学)を60部添加し、実施例1の組成物とした。 同様にして、実施例9〜15および比較例3〜4の組成物を調整した。各実施例および比較例の配合を表8に示す。(水蒸気バリア性の測定) 水蒸気バリア性の評価は、JIS Z−0208に準じて行った。40℃、相対湿度90%の条件で、24時間で試料を透過した水分量(g/m2・24時間)を測定した。試料は、前記光硬化性組成物をアプリケータで厚さ約200μmに基板上に塗布し、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を使用して25mW/cm2の紫外線を200秒間照射したものを使用した。その結果を表9に示す。 本発明のウレタン(メタ)アクリレートは、活性エネルギー線硬化性材料、熱硬化性材料、各種ポリマー原料として好適に使用することができる。特に、水蒸気バリア性を求められるような食品・医療等の包装材料、デバイス用基板材料、シール剤等、各種用途に好適に使用することができる。一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレート。 (1)(式中、R1は水素原子またはメチル基を表し、A1及びA2は各々独立して、(但し、上記A3は、(nは0〜9の整数を表す)で表される置換基を表す。)B1は、を表す。)前記一般式(1)で表されるウレタン(メタ)アクリレートを含有することを特徴とする硬化性組成物。


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