生命科学関連特許情報
| タイトル： | 公開特許公報(A)_アリール又はヘテロアリール化合物の製法 |
| 出願番号： | 2005169232 |
| 年次： | 2006 |
| IPC分類： | C07B 37/06,C07C 201/12,C07C 205/06 |
特許情報キャッシュ
西野 繁栄 島 秀好 小田 広行 岡田 尚子 JP 2006342102 公開特許公報(A) 20061221 2005169232 20050609 アリール又はヘテロアリール化合物の製法 宇部興産株式会社 000000206 西野 繁栄 島 秀好 小田 広行 岡田 尚子 C07B 37/06 20060101AFI20061124BHJP C07C 201/12 20060101ALI20061124BHJP C07C 205/06 20060101ALI20061124BHJP JPC07B37/06C07C201/12C07C205/06 4 ＯＬ 7 4H006 4H006AA02 4H006AC26 4H006BB22 4H006BC10 本発明は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を製造する方法に関する。アリール又はヘテロアリール化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。 従来、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール又はヘテロアリール化合物を製造する方法としては、例えば、塩化マグネシウムの存在下、2-(2-クロロ-4-ニトロフェニル)-2-メチルマロン酸ジエチルを、N,N-ジメチルアセトアミド中、140〜150℃で脱炭酸反応させて、2-クロロ-4-ニトロエチルベンゼンを収率72％で得る方法（例えば、非特許文献１参照）、塩化ナトリウムの存在下、2-(2-クロロ-4-ニトロフェニル)-2-ベンジルマロン酸ジエチルを、ジメチルスルホキシドと水の混合溶媒中、155℃で脱炭酸反応させて、2-クロロ-4-ニトロビベンジルを収率85％で得る方法（例えば、非特許文献２参照）が開示されている。しかしながら、この方法では、反応温度が高い上に、反応装置に対する腐食性が高い塩素化合物を使用しなければならず、アリール又はヘテロアリール化合物の工業的な製法としては不利であった。Synthesis,12,1659(2000)Tetrahedron Lett.,42,8395(2001) 本発明の課題は、即ち、上記問題点を解決し、温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を高収率で製造することが出来る、工業的に好適なアリール又はヘテロアリール化合物の製法を提供することにある。 塩基の存在下、一般式（１）（式中、Ａｒは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基、Ｒ１は、水素原子又は置換基を有していても良い炭化水素基、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なっていても良く、水素原子又は炭化水素基を示す。）で示される2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物を脱炭酸反応させることを特徴とする、一般式（２）（式中、Ａｒ及びＲ１は、前記と同義である。）で示されるアリール又はヘテロアリール化合物の製法によって解決される。 本発明により、温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール又はヘテロアリール化合物を高収率で製造することが出来る、工業的に好適なアリール又はヘテロアリール化合物の製法を提供することが出来る。 本発明の脱炭酸反応において使用する2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物は、前記の一般式（１）で示される。その一般式（１）において、Ａｒは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基であり、アリール基としては、例えば、フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等；ヘテロアリール基としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピロリル基、オキサゾリル基、ピリジル基、キノリニル基、カルバゾリル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。 前記のアリール基又はヘテロアリール基は、置換基を有していても良い。その置換基としては、炭素原子を介して出来る置換基、酸素原子を介して出来る置換基、窒素原子を介して出来る置換基、硫黄原子を介して出来る置換基、ハロゲン原子等が挙げられる。 前記炭素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基等のアルケニル基；キノリル基、ピリジル基、ピロリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基等の複素環基；フェニル基、トリル基、フルオロフェニル基、キシリル基、ビフェニリル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基等のアリール基；アセチル基、プロピオニル基、アクリロイル基、ピバロイル基、シクロヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、トルオイル基等のアシル基（アセタール化されていても良い）；カルボキシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基（なお、アルコキシカルボニル基は、本発明の脱炭酸反応中に加水分解されてカルボキシル基になっても構わない）；フェノキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基（なお、アリールオキシカルボニル基は、本発明の脱炭酸反応中に加水分解されてカルボキシル基になっても構わない）；トリフルオロメチル基等のハロゲン化アルキル基；シアノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。 前記酸素原子を介して出来る置換基としては、例えば、ヒドロキシル基；メトキシル基、エトキシル基、プロポキシル基、ブトキシル基、ペンチルオキシル基、ヘキシルオキシル基、ヘプチルオキシル基、ベンジルオキシル基等のアルコキシル基；フェノキシル基、トルイルオキシル基、ナフチルオキシル基等のアリールオキシル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。 前記窒素原子を介して出来る置換基としては、例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロへキシルアミノ基、フェニルアミノ基、ナフチルアミノ基等の第一アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、メチルブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、N-メチル-N-メタンスルホニルアミノ基等の第二アミノ基；モルホリノ基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピラゾリジニル基、ピロリジノ基、インドリル基等の複素環式アミノ基；イミノ基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。 前記硫黄原子を介して出来る置換基としては、例えば、メルカプト基；チオメトキシル基、チオエトキシル基、チオプロポキシル基等のチオアルコキシル基；チオフェノキシル基、チオトルイルオキシル基、チオナフチルオキシル基等のチオアリールオキシル基等が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。 前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 Ｒ１は、水素原子又は置換基を有していても良い炭化水素基を示すが、炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等のシクロアルキル基；ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等のアラルキル基；フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等のアリール基が挙げられるが、好ましくはベンジル基である。なお、これらの基は、各種異性体を含む。又、炭化水素上の置換基としては、Ａｒで定義したものと同義である。 又、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なっていても良く、水素原子又は炭化水素基を示すが、炭化水素基としては、Ｒ１で定義したものと同義である。 本発明の反応で使用する塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩；ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムｔ-ブトキシド、カリウムt-ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等のアルカリ金属アルコキシド等が挙げられる。これらの塩基は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。 前記塩基の使用量は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物1モルに対して、好ましくは0.1〜20モル、更に好ましくは0.5〜10モルである。 本発明の脱炭酸反応は、溶媒の存在下で行うのが望ましく、使用される溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されないが、例えば、水；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類；N,N'-ジメチルイミダゾリジノン等の尿素類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。 前記溶媒の使用量は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物1gに対して、好ましくは0.5〜100ml、更に好ましくは1〜50mlである。 本発明の脱炭酸反応は、例えば、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物、塩基及び溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは10〜200℃、更に好ましくは20〜120℃であり、反応圧力は特に制限されない。 本発明の脱炭酸反応によってアリール又はヘテロアリール化合物が得られるが、これは、反応終了後、例えば、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、カラムクロマトグラフィー等の一般的な製法によって単離・精製される。 次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。実施例１（4-ニトロビベンジルの合成） 攪拌装置、温度計及び還流冷却器を備えた内容積20mlのガラス製容器に、2-ベンジル-2-(4-ニトロフェニル)マロン酸ジエチル1.0g(2.69mmol)、4mol/l水酸化ナトリウム水溶液2.36ml(9.44mmol)及びジメチルスルホキシド5mlを加え、攪拌しながら80℃で2時間反応させた。反応終了後、6mol/l塩酸3.14ml(18.9mmol)を加えた後、酢酸エチルで抽出し、抽出液を濃縮した。次いで、濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン／酢酸エチル＝9／1）し、黄色結晶として、4-ニトロビベンジル0.28gを得た（単離収率；46％）。 4-ニトロビベンジルの物性値は以下の通りであった。CI-MS；228(M+1)1H−NMR(CDCl3,δ(ppm))；2.91〜3.06(4H,m)、7.11〜7.14(2H,m)、7.18〜7.30(5H,m)、8.09〜8.14(2H,m) 本発明は、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を製造する方法に関する。アリール又はヘテロアリール化合物は、医薬・農薬等の原料や合成中間体として有用な化合物である。 塩基の存在下、一般式（１）（式中、Ａｒは、置換基を有していても良いアリール基又はヘテロアリール基、Ｒ１は、水素原子又は置換基を有していても良い炭化水素基、Ｒ２及びＲ３は、同一又は異なっていても良く、水素原子又は炭化水素基を示す。）で示される2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物を脱炭酸反応させることを特徴とする、一般式（２）（式中、Ａｒ及びＲ１は、前記と同義である。）で示されるアリール又はヘテロアリール化合物の製法。 脱炭酸反応を溶媒中で行う請求項１記載のアリール又はヘテロアリール化合物の製法。 反応温度が20〜120℃である請求項１記載のアリール又はヘテロアリール化合物の製法。 Ｒ１が置換基を有していても良いベンジル基である請求項１記載のアリール又はヘテロアリール化合物の製法。 【課題】 本発明の課題は、温和な条件下、繁雑な操作を必要とすることなく、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物からアリール化合物を高収率で製造することが出来る、工業的に好適なアリール又はヘテロアリール化合物の製法を提供することにある。【解決手段】 本発明の課題は、塩基の存在下、2-アリール又はヘテロアリールマロン酸化合物を脱炭酸反応させることを特徴とする、アリール又はヘテロアリール化合物の製法によって解決される。【選択図】 なし