生命科学関連特許情報

タイトル:公開特許公報(A)_水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法
出願番号:2005143067
年次:2006
IPC分類:C07B 31/00,B01J 27/125,C07C 1/26,C07C 9/15,C07C 29/10,C07C 29/14,C07C 29/143,C07C 29/147,C07C 31/08,C07C 31/10,C07C 33/22,C07C 33/26,C07C 39/04,C07C 209/32,C07C 209/48,C07C 209/50,C07C 211/05,C07C 211/06,C07C 211/07,C07C 319/06,C07C 321/04,C07B 61/00


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小川 毅 大橋 満也 JP 2006316030 公開特許公報(A) 20061124 2005143067 20050516 水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法 セントラル硝子株式会社 000002200 花田 吉秋 100123401 小川 毅 大橋 満也 C07B 31/00 20060101AFI20061027BHJP B01J 27/125 20060101ALI20061027BHJP C07C 1/26 20060101ALI20061027BHJP C07C 9/15 20060101ALI20061027BHJP C07C 29/10 20060101ALI20061027BHJP C07C 29/14 20060101ALI20061027BHJP C07C 29/143 20060101ALI20061027BHJP C07C 29/147 20060101ALI20061027BHJP C07C 31/08 20060101ALI20061027BHJP C07C 31/10 20060101ALI20061027BHJP C07C 33/22 20060101ALI20061027BHJP C07C 33/26 20060101ALI20061027BHJP C07C 39/04 20060101ALI20061027BHJP C07C 209/32 20060101ALI20061027BHJP C07C 209/48 20060101ALI20061027BHJP C07C 209/50 20060101ALI20061027BHJP C07C 211/05 20060101ALI20061027BHJP C07C 211/06 20060101ALI20061027BHJP C07C 211/07 20060101ALI20061027BHJP C07C 319/06 20060101ALI20061027BHJP C07C 321/04 20060101ALI20061027BHJP C07B 61/00 20060101ALN20061027BHJP JPC07B31/00B01J27/125 ZC07C1/26C07C9/15C07C29/10C07C29/14C07C29/143C07C29/147C07C31/08C07C31/10C07C33/22C07C33/26C07C39/04C07C209/32C07C209/48C07C209/50C07C211/05C07C211/06C07C211/07C07C319/06C07C321/04C07B61/00 300 1 OL 8 4G169 4H006 4H039 4G169AA02 4G169AA08 4G169BA21C 4G169BA36A 4G169BB08C 4G169BB19A 4G169BB19B 4G169BB19C 4G169BC04A 4G169BC04B 4G169BC04C 4G169BC16A 4G169BC16B 4G169BC16C 4G169BD12C 4G169BE01C 4G169BE37C 4G169CB02 4G169CB62 4G169CB65 4G169CB77 4G169FA01 4G169FB04 4G169FB77 4G169FC02 4H006AA02 4H006AC11 4H006AC41 4H006AC42 4H006AC52 4H006AC63 4H006BA03 4H006BA09 4H006BA37 4H006BB11 4H006BE22 4H006FC52 4H039CA60 4H039CA71 4H039CB20 4H039CB30 4H039CB40 4H039CD20 4H039CE40 本発明は、有機合成における有用な還元剤である水素化アルミニウムリチウムの還元反応において、反応溶媒として、芳香族炭化水素系溶媒を用い、触媒としてAlCl4−イオンを放出する物質を用いた還元方法に関するものである。 水素化アルミニウムリチウム(LiAlH4)は、従来から有機合成における還元試薬の一つとして広く利用されている。多くの官能基がLiAlH4によって還元されることが知られており、その代表例を次式に示す(ただしR、R’はアルキル基、またはアリール基を示す。)。R−COR’→ R−CHOH−R’R−CHO → R−CH2OHR−COOH → R−CH2OHR−COOR’ → R−CH2OH + R’−OHR−CONR’2 → R−CH2NR’2R−CN → R−CH2NH2R−Hal → R−HR−NO2 → R−NH2R−COCl → R−CH2OHR−COOCOR’ → R−CH2OH + R’−CH2OHR−SSR’ → R−SH + R’−SH LiAlH4による還元機構については、求核的二分子反応であるSN2機構で進行するとされている(非特許文献1)。ケトン(R−COR’)を例にした反応機構を次式に示す。LiAlH4 → Li+ + AlH4−AlH4− + R−COR’ → H3AlOCHRR’−H3AlOCHRR’− + R−COR’ → H2Al(OCHRR’)2−H2Al(OCHRR’)2− + R−COR’ → HAl(OCHRR’)3−HAl(OCHRR’)3− + R−COR’ → Al(OCHRR’)4−Al(OCHRR’)4− + 4H+ → 4RCH(OH)R’ + Al3+ 最初にLiAlH4が溶媒中でLi+とAlH4−に解離した後、AlH4−が求核的にケトンのカルボニル基に作用しており、最後に形成された錯陰イオンであるAl(OCHRR’)4−を加水分解することでアルコールが生成する。これに対して別な機構も提案されている。すなわち溶媒中で生成したAlH4−は更にAlH3とH−に解離し、ここで生成したH−が求核的に作用するというものである(非特許文献2)。いずれの機構にせよLiAlH4還元が進行するためには、まず最初にLiAlH4が溶媒中でAlH4−を生成する必要があることから、反応溶媒としては、LiAlH4の溶解度が大きいジエチルエーテルやTHFといったエーテル系溶媒を用いるのが一般的である。LiAlH4が溶解しないヘキサンのような無極性の炭化水素系溶媒を用いて反応させることは極めて難しい。トルエンのようにわずかに極性を有する芳香族炭化水素系溶媒においても同様であり、例えばシクロヘキサノンをシクロヘキサノールへと還元する反応はトルエン中では進行しないことが報告されている(非特許文献3)。またアセトンのようにカルボニル基を有する溶媒、ジクロロメタンのようにハロゲンを有する溶媒、イソプロパノールや水に代表されるプロトン性溶媒では、溶媒自身がLiAlH4と反応してしまうために用いることが出来ない。炭化水素系溶媒にエーテル系溶媒を任意の割合で混合させた溶媒を用いて反応させることも知られているが、これはエーテル系溶媒の添加によってAlH4−の生成が誘起されているだけであって、本質的には炭化水素系溶媒中のみで反応が進行したとは言い難い。 このように現状では、LiAlH4の反応溶媒としてエーテル系溶媒の使用を避けることは難しい。溶媒の選択肢が限られるということは、反応生成物と溶媒との分離方法を制限してしまうだけでなく、場合によっては収率や純度の低下も招く。また近年の有機合成においては、全合成に代表されるような非常に多段階にわたった反応も行われており、その反応過程の中でLiAlH4還元のためだけにわざわざ溶媒を変更することは収率的にも時間的にも好ましいとは言えない。LiAlH4と同様の還元剤であるNaBH4がメタノールや水さえも溶媒に使用できることを考えると、これはLiAlH4の還元力が強すぎるがゆえのデメリットといえる。 LiAlH4の反応触媒としては、AlCl3が有名であるが、これはLiAlH4の還元力を抑制して選択的な還元反応を行う場合に用いられるものであり(非特許文献4)、芳香族炭化水素系溶媒中においては触媒として作用しない。Trevoy,L.W.,Brown,W.G.,J.Am.Chem.Soc.,71,1675(1949)Paddock,N.L.,Nature,167,1070(1951)E.V.Dehmlow,J.Chem.Research.(S),1990,24E.L.Eliel,T.J.Brett,J.Org.Chem.,28,1923(1963) 本発明は、有機合成反応におけるLiAlH4を用いた還元反応として、芳香族炭化水素系溶媒を用いて反応させる方法を提供することを目的としている。 本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、反応させる基質とLiAlH4を芳香族炭化水素系溶媒中においてAlCl4−触媒の存在下で接触させることにより反応が進行することを見出し、本発明に至ったものである。 すなわち本発明は、有機合成における水素化アルミニウムリチウムを用いた還元反応において、反応溶媒としての芳香族炭化水素系溶媒中でAlCl4−イオンを放出する物質を触媒として使用することを特徴とする水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法を提供するものである。 この反応においてはAlCl4−が触媒となるため、反応開始時にAlCl4−を添加しておくことで、反応速度が飛躍的に大きくなり、安全かつ安定に反応させることができる。 本発明の方法によれば、有機合成反応において、従来までのエーテル系溶媒で行われていた水素化アルミニウムリチウムの還元反応を芳香族炭化水素系溶媒を用いることにより安全かつ安定に反応を進行させることができ、また、反応収率も大幅に向上させることができる。 以下、本発明を更に詳述する。本発明で使用する芳香族炭化水素系溶媒としては、芳香環を含む炭化水素系溶媒であればよいが、触媒であるAlCl4−イオンを溶解することができるものでなければならない。具体的には、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、n−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、t−ブチルベンゼン、n−ペンチルベンゼン、ジペンチルベンゼン、イソペンチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベンゼンなどが挙げられる。より好ましくは溶媒の上限温度がLiAlH4の分解温度である120℃より低く、毒性も比較的低いトルエンである。 反応させる基質としては、従来までのエーテル系溶媒を用いてLiAlH4還元することができるケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、エステル類、酸アミド化物類、ニトリル類、ハロゲン化物類、ニトロ化物類、酸塩化物類、酸無水物類、ジスルフィド類、エポキシド類などが挙げられる。これら化合物は、本発明の還元方法により、アルコール類、アミン類、水素化物類、チオール類等に変換される。 本発明において、反応を進行させるためには、触媒の添加が不可欠である。すなわち、極性の乏しい芳香族炭化水素系溶媒においては、触媒が存在しない場合は、LiAlH4の還元力が低く、反応が極めて遅くなる。添加する触媒としては、AlCl4−イオンを放出する物質であれば特に限定されない。具体的には、LiAlCl4、NaAlCl4、KAlCl4等が挙げられるが、LiAlCl4が特に好ましい。 触媒には、LiAlCl4そのものを用いても良いが、入手が容易なLiClとAlCl3との1:1混合物を用いても良い。また、塩化物を還元的に水素化する場合には、反応残液で生成したLiAlCl4の一部を再利用することも可能である。触媒添加量は、溶媒への溶解度以上仕込むことが好ましい。例えば、トルエンを溶媒として用いる場合には、0.1mol/L以上添加することが好ましい。添加量の上限としては、反応溶液の十分な撹拌が困難になる理由から5.0mol/Lである。 反応は0℃〜120℃の範囲内で行う。0℃未満では反応の進行が極めて遅く、120℃超ではLiAlH4の分解反応が生じるために好ましくない。より好ましい温度範囲については反応させる基質とLiAlH4との反応性に依存するため、一概に述べることは難しいが、例えばケトンであるシクロヘキサノンの場合は80℃〜100℃、ベンズアルデヒドの場合は25℃〜100℃である。 反応後に残ったLiAlH4は氷冷下で塩酸や水を滴下することで容易に処理することができる。この際、反応残液は水層と有機層に分離することから、分液することで純粋な溶媒を容易に回収することが可能である。 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、かかる実施例に制限されるものではない。 実施例1 反応器には、温度計、ジムロート型還流器、滴下ロートを具備した100ml3つ口フラスコを用いた。フラスコ内をヘリウムガスで置換した後、1.15g(0.030mol)のLiAlH4と触媒として0.30g(0.007mol)のLiCl、0.97g(0.007mol)のAlCl3、溶媒として30mlのトルエンを仕込んだ。続いて反応温度を80℃まで昇温し、滴下ロートより9.7ml(0.093mol)のシクロヘキサノン(C6H10O)を約10分かけて滴下した。シクロヘキサノンの滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応はシクロヘキサノンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、フラスコを室温まで降温し、5%塩酸30mlを加えて加水分解を行った。二層分離した反応溶液のトルエン層側に溶解した化合物をガスクロマトグラフ−質量分析計により分析したところ、目的生成物であるシクロヘキサノールが98.7%、未反応を含めたその他の化合物が1.3%含まれていた。 実施例2 反応させる基質をベンズアルデヒド(C6H5CHO)10.0ml(0.099mol)に代え、反応温度を25℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。ベンズアルデヒドの滴下と共に反応温度が5〜8℃上昇し、反応はベンズアルデヒドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるベンジルアルコールが96.1%、未反応を含めたその他の化合物が3.9%含まれていた。 実施例3 反応させる基質をプロピオン酸(CH3CH2COOH)2.4ml(0.032mol)に代え、反応温度を70℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。プロピオン酸の滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応はプロピオン酸の滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1−プロパノールが91.0%、未反応を含めたその他の化合物が9.0%含まれていた。 実施例4 反応させる基質を酢酸エチル(CH3COOC2H5)4.5ml(0.046mol)に代え、反応温度を50℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。酢酸エチルの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応は酢酸エチルの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるエタノールが97.7%、未反応を含めたその他の化合物が2.3%含まれていた。 実施例5 反応させる基質をN,N−ジエチルアセトアミド((C2H5)2NCOCH3)4.5ml(0.036mol)に代え、反応温度を70℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。N,N−ジメチルアセトアミドの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応はN,N−ジメチルアセトアミドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるトリエチルアミンが88.4%、未反応を含めたその他の化合物が11.6%含まれていた。 実施例6 反応させる基質をペンタンニトリル(CH3(CH2)3CN)3.0ml(0.029mol)に代え、反応温度を60℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。ペンタンニトリルの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応はペンタンニトリルの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるペンチルアミンが91.9%、未反応を含めたその他の化合物が8.1%含まれていた。 実施例7 反応させる基質を1−ブロモヘキサン(CH3(CH2)5Br)10.0ml(0.071mol)に代え、反応温度を50℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。1−ブロモヘキサンの滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応は1−ブロモヘキサンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるヘキサンが86.4%、未反応を含めたその他の化合物が13.6%含まれていた。 実施例8 反応させる基質を1−ニトロプロパン(CH3(CH2)2NO2) 1.7ml(0.019mol)に代え、反応温度を0℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。1−ニトロプロパンの滴下と共に反応温度が5〜8℃上昇し、反応は1−ニトロプロパンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるプロピルアミンが88.0%、未反応を含めたその他の化合物が12.0%含まれていた。 実施例9 反応させる基質を塩化ベンゾイル(C6H5COCl)5.0ml(0.043mol)に代え、反応温度を50℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。塩化ベンゾイルの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応は塩化ベンゾイルの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるベンジルアルコールが80.1%、未反応を含めたその他の化合物が19.9%含まれていた。 実施例10 反応させる基質を無水フタル酸(C6H4(CO)2O)4.0g(0.027mol)に代え、反応温度を60℃にし、無水フタル酸を20mlのトルエンと混合させて滴下した以外は実施例1と同様の方法で反応させた。滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応は無水フタル酸の滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1,2−ベンゼンジメタノールが82.8%、未反応を含めたその他の化合物が17.2%含まれていた。 実施例11 反応させる基質をジブチルジスルフィド(CH3(CH2)3SS(CH2)3CH3)10.0ml(0.052mol)に代え、反応温度を80℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応はジブチルジスルフィドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1−ブタンチオールが95.5%、未反応を含めたその他の化合物が4.5%含まれていた。 実施例12 反応させる基質をスチレンオキシド(C6H5OC2H3)10.0ml(0.088mol)に代え、反応温度を0℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。滴下と共に反応温度が7〜10℃上昇し、反応はスチレンオキシドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1−フェニルエタノールが75.6%、未反応を含めたその他の化合物が24.4%含まれていた。 実施例13 トルエンの代わりにキシレンを用いる以外は実施例1と同様の方法で反応させた。シクロヘキサノンの滴下と共に反応温度が2〜5℃上昇し、反応はシクロヘキサノンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、キシレン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるシクロヘキサノールが89.7%、未反応を含めたその他の化合物が10.3%含まれていた。 比較例1 トルエンの変わりにヘキサンを使用した以外は実施例1と同様の方法で反応させた。シクロヘキサノンを全量滴下したが、反応温度に変化は認められなかった。塩酸を加えた後、ヘキサン中の化合物について分析したところ、未反応のシクロヘキサノンのみが検出され、反応は全く進行していなかった。有機合成における水素化アルミニウムリチウムを用いた還元反応において、反応溶媒としての芳香族炭化水素系溶媒中でAlCl4−イオンを放出する物質を触媒として使用することを特徴とする水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法。 【課題】 有機合成における有用な還元剤である水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法を提供する。【解決手段】 有機合成における水素化アルミニウムリチウムを用いた還元反応において、反応溶媒としての芳香族炭化水素系溶媒中でAlCl4−イオンを放出する物質を触媒として使用する。【選択図】 なし


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特許公報(B2)_水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法

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タイトル:特許公報(B2)_水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法
出願番号:2005143067
年次:2011
IPC分類:C07B 31/00,B01J 27/125,C07C 29/14,C07C 29/143,C07C 29/147,C07C 29/153,C07C 31/08,C07C 31/10,C07C 31/125,C07C 33/22,C07C 33/26,C07C 35/08,C07C 209/32,C07C 209/48,C07C 209/50,C07C 211/05,C07C 211/06,C07C 211/07,C07C 319/06,C07C 321/04,C07B 61/00


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小川 毅 大橋 満也 JP 4774802 特許公報(B2) 20110708 2005143067 20050516 水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法 セントラル硝子株式会社 000002200 小出 誠 100145632 小川 毅 大橋 満也 20110914 C07B 31/00 20060101AFI20110825BHJP B01J 27/125 20060101ALI20110825BHJP C07C 29/14 20060101ALI20110825BHJP C07C 29/143 20060101ALI20110825BHJP C07C 29/147 20060101ALI20110825BHJP C07C 29/153 20060101ALI20110825BHJP C07C 31/08 20060101ALI20110825BHJP C07C 31/10 20060101ALI20110825BHJP C07C 31/125 20060101ALI20110825BHJP C07C 33/22 20060101ALI20110825BHJP C07C 33/26 20060101ALI20110825BHJP C07C 35/08 20060101ALI20110825BHJP C07C 209/32 20060101ALI20110825BHJP C07C 209/48 20060101ALI20110825BHJP C07C 209/50 20060101ALI20110825BHJP C07C 211/05 20060101ALI20110825BHJP C07C 211/06 20060101ALI20110825BHJP C07C 211/07 20060101ALI20110825BHJP C07C 319/06 20060101ALI20110825BHJP C07C 321/04 20060101ALI20110825BHJP C07B 61/00 20060101ALN20110825BHJP JPC07B31/00B01J27/125 ZC07C29/14C07C29/143C07C29/147C07C29/153C07C31/08C07C31/10C07C31/125C07C33/22C07C33/26C07C35/08C07C209/32C07C209/48C07C209/50C07C211/05C07C211/06C07C211/07C07C319/06C07C321/04C07B61/00 300 C07B 31/00 B01J 27/125 CA/REGISTRY(STN) 特開2005−154336(JP,A) 特開昭58−035129(JP,A) 特開平07−206740(JP,A) 特開平09−169679(JP,A) 特開昭62−016435(JP,A) 特開昭49−133338(JP,A) 特公昭44−031326(JP,B1) 1 2006316030 20061124 7 20080307 阿川 寛樹 本発明は、有機合成における有用な還元剤である水素化アルミニウムリチウムの還元反応において、反応溶媒として、芳香族炭化水素系溶媒を用い、触媒としてAlCl4−イオンを放出する物質を用いた還元方法に関するものである。 水素化アルミニウムリチウム(LiAlH4)は、従来から有機合成における還元試薬の一つとして広く利用されている。多くの官能基がLiAlH4によって還元されることが知られており、その代表例を次式に示す(ただしR、R’はアルキル基、またはアリール基を示す。)。R−COR’→ R−CHOH−R’R−CHO → R−CH2OHR−COOH → R−CH2OHR−COOR’ → R−CH2OH + R’−OHR−CONR’2 → R−CH2NR’2R−CN → R−CH2NH2R−Hal → R−HR−NO2 → R−NH2R−COCl → R−CH2OHR−COOCOR’ → R−CH2OH + R’−CH2OHR−SSR’ → R−SH + R’−SH LiAlH4による還元機構については、求核的二分子反応であるSN2機構で進行するとされている(非特許文献1)。ケトン(R−COR’)を例にした反応機構を次式に示す。LiAlH4 → Li+ + AlH4−AlH4− + R−COR’ → H3AlOCHRR’−H3AlOCHRR’− + R−COR’ → H2Al(OCHRR’)2−H2Al(OCHRR’)2− + R−COR’ → HAl(OCHRR’)3−HAl(OCHRR’)3− + R−COR’ → Al(OCHRR’)4−Al(OCHRR’)4− + 4H+ → 4RCH(OH)R’ + Al3+ 最初にLiAlH4が溶媒中でLi+とAlH4−に解離した後、AlH4−が求核的にケトンのカルボニル基に作用しており、最後に形成された錯陰イオンであるAl(OCHRR’)4−を加水分解することでアルコールが生成する。これに対して別な機構も提案されている。すなわち溶媒中で生成したAlH4−は更にAlH3とH−に解離し、ここで生成したH−が求核的に作用するというものである(非特許文献2)。いずれの機構にせよLiAlH4還元が進行するためには、まず最初にLiAlH4が溶媒中でAlH4−を生成する必要があることから、反応溶媒としては、LiAlH4の溶解度が大きいジエチルエーテルやTHFといったエーテル系溶媒を用いるのが一般的である。LiAlH4が溶解しないヘキサンのような無極性の炭化水素系溶媒を用いて反応させることは極めて難しい。トルエンのようにわずかに極性を有する芳香族炭化水素系溶媒においても同様であり、例えばシクロヘキサノンをシクロヘキサノールへと還元する反応はトルエン中では進行しないことが報告されている(非特許文献3)。またアセトンのようにカルボニル基を有する溶媒、ジクロロメタンのようにハロゲンを有する溶媒、イソプロパノールや水に代表されるプロトン性溶媒では、溶媒自身がLiAlH4と反応してしまうために用いることが出来ない。炭化水素系溶媒にエーテル系溶媒を任意の割合で混合させた溶媒を用いて反応させることも知られているが、これはエーテル系溶媒の添加によってAlH4−の生成が誘起されているだけであって、本質的には炭化水素系溶媒中のみで反応が進行したとは言い難い。 このように現状では、LiAlH4の反応溶媒としてエーテル系溶媒の使用を避けることは難しい。溶媒の選択肢が限られるということは、反応生成物と溶媒との分離方法を制限してしまうだけでなく、場合によっては収率や純度の低下も招く。また近年の有機合成においては、全合成に代表されるような非常に多段階にわたった反応も行われており、その反応過程の中でLiAlH4還元のためだけにわざわざ溶媒を変更することは収率的にも時間的にも好ましいとは言えない。LiAlH4と同様の還元剤であるNaBH4がメタノールや水さえも溶媒に使用できることを考えると、これはLiAlH4の還元力が強すぎるがゆえのデメリットといえる。 LiAlH4の反応触媒としては、AlCl3が有名であるが、これはLiAlH4の還元力を抑制して選択的な還元反応を行う場合に用いられるものであり(非特許文献4)、芳香族炭化水素系溶媒中においては触媒として作用しない。Trevoy,L.W.,Brown,W.G.,J.Am.Chem.Soc.,71,1675(1949)Paddock,N.L.,Nature,167,1070(1951)E.V.Dehmlow,J.Chem.Research.(S),1990,24E.L.Eliel,T.J.Brett,J.Org.Chem.,28,1923(1963) 本発明は、有機合成反応におけるLiAlH4を用いた還元反応として、芳香族炭化水素系溶媒を用いて反応させる方法を提供することを目的としている。 本発明者らは、上記目的を達成するため、鋭意検討を重ねた結果、反応させる基質とLiAlH4を芳香族炭化水素系溶媒中においてAlCl4−触媒の存在下で接触させることにより反応が進行することを見出し、本発明に至ったものである。 すなわち本発明は、下式に示す(ただしR、R’はアルキル基、またはアリール基を示す。)基質と、還元剤である水素化アルミニウムリチウムを反応させる還元反応において、反応溶媒としての芳香族炭化水素系溶媒中でAlCl4−リチウムを放出する物質を触媒として使用することを特徴とする水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法。R−COR’、R−CHO、R−COOH、R−COOR’、R−CONR’2、R−CN、R−Hal、R−NO2、R−COCl、R−COOCOR’、又はR−SSR’ この反応においてはAlCl4−が触媒となるため、反応開始時にAlCl4−を添加しておくことで、反応速度が飛躍的に大きくなり、安全かつ安定に反応させることができる。 本発明の方法によれば、有機合成反応において、従来までのエーテル系溶媒で行われていた水素化アルミニウムリチウムの還元反応を芳香族炭化水素系溶媒を用いることにより安全かつ安定に反応を進行させることができ、また、反応収率も大幅に向上させることができる。 以下、本発明を更に詳述する。本発明で使用する芳香族炭化水素系溶媒としては、芳香環を含む炭化水素系溶媒であればよいが、触媒であるAlCl4−イオンを溶解することができるものでなければならない。具体的には、ベンゼン、トルエン、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、n−プロピルベンゼン、n−ブチルベンゼン、sec−ブチルベンゼン、t−ブチルベンゼン、n−ペンチルベンゼン、ジペンチルベンゼン、イソペンチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベンゼンなどが挙げられる。より好ましくは溶媒の上限温度がLiAlH4の分解温度である120℃より低く、毒性も比較的低いトルエンである。 反応させる基質としては、従来までのエーテル系溶媒を用いてLiAlH4還元することができる、下式に示す(ただしR、R’はアルキル基、またはアリール基を示す。)、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、エステル類、酸アミド化物類、ニトリル類、ハロゲン化物類、ニトロ化物類、酸塩化物類、酸無水物類、ジスルフィド類、エポキシド類などが挙げられる。これら化合物は、本発明の還元方法により、アルコール類、アミン類、水素化物類、チオール類等に変換される。R−COR’、R−CHO、R−COOH、R−COOR’、R−CONR’2、R−CN、R−Hal、R−NO2、R−COCl、R−COOCOR’、又はR−SSR’ 本発明において、反応を進行させるためには、触媒の添加が不可欠である。すなわち、極性の乏しい芳香族炭化水素系溶媒においては、触媒が存在しない場合は、LiAlH4の還元力が低く、反応が極めて遅くなる。添加する触媒としては、AlCl4−イオンを放出する物質であれば特に限定されない。具体的には、LiAlCl4、NaAlCl4、KAlCl4等が挙げられるが、LiAlCl4が特に好ましい。 触媒には、LiAlCl4そのものを用いても良いが、入手が容易なLiClとAlCl3との1:1混合物を用いても良い。また、塩化物を還元的に水素化する場合には、反応残液で生成したLiAlCl4の一部を再利用することも可能である。触媒添加量は、溶媒への溶解度以上仕込むことが好ましい。例えば、トルエンを溶媒として用いる場合には、0.1mol/L以上添加することが好ましい。添加量の上限としては、反応溶液の十分な撹拌が困難になる理由から5.0mol/Lである。 反応は0℃〜120℃の範囲内で行う。0℃未満では反応の進行が極めて遅く、120℃超ではLiAlH4の分解反応が生じるために好ましくない。より好ましい温度範囲については反応させる基質とLiAlH4との反応性に依存するため、一概に述べることは難しいが、例えばケトンであるシクロヘキサノンの場合は80℃〜100℃、ベンズアルデヒドの場合は25℃〜100℃である。 反応後に残ったLiAlH4は氷冷下で塩酸や水を滴下することで容易に処理することができる。この際、反応残液は水層と有機層に分離することから、分液することで純粋な溶媒を容易に回収することが可能である。 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は、かかる実施例に制限されるものではない。 実施例1 反応器には、温度計、ジムロート型還流器、滴下ロートを具備した100ml3つ口フラスコを用いた。フラスコ内をヘリウムガスで置換した後、1.15g(0.030mol)のLiAlH4と触媒として0.30g(0.007mol)のLiCl、0.97g(0.007mol)のAlCl3、溶媒として30mlのトルエンを仕込んだ。続いて反応温度を80℃まで昇温し、滴下ロートより9.7ml(0.093mol)のシクロヘキサノン(C6H10O)を約10分かけて滴下した。シクロヘキサノンの滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応はシクロヘキサノンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、フラスコを室温まで降温し、5%塩酸30mlを加えて加水分解を行った。二層分離した反応溶液のトルエン層側に溶解した化合物をガスクロマトグラフ−質量分析計により分析したところ、目的生成物であるシクロヘキサノールが98.7%、未反応を含めたその他の化合物が1.3%含まれていた。 実施例2 反応させる基質をベンズアルデヒド(C6H5CHO)10.0ml(0.099mol)に代え、反応温度を25℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。ベンズアルデヒドの滴下と共に反応温度が5〜8℃上昇し、反応はベンズアルデヒドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるベンジルアルコールが96.1%、未反応を含めたその他の化合物が3.9%含まれていた。 実施例3 反応させる基質をプロピオン酸(CH3CH2COOH)2.4ml(0.032mol)に代え、反応温度を70℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。プロピオン酸の滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応はプロピオン酸の滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1−プロパノールが91.0%、未反応を含めたその他の化合物が9.0%含まれていた。 実施例4 反応させる基質を酢酸エチル(CH3COOC2H5)4.5ml(0.046mol)に代え、反応温度を50℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。酢酸エチルの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応は酢酸エチルの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるエタノールが97.7%、未反応を含めたその他の化合物が2.3%含まれていた。 実施例5 反応させる基質をN,N−ジエチルアセトアミド((C2H5)2NCOCH3)4.5ml(0.036mol)に代え、反応温度を70℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。N,N−ジメチルアセトアミドの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応はN,N−ジメチルアセトアミドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるトリエチルアミンが88.4%、未反応を含めたその他の化合物が11.6%含まれていた。 実施例6 反応させる基質をペンタンニトリル(CH3(CH2)3CN)3.0ml(0.029mol)に代え、反応温度を60℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。ペンタンニトリルの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応はペンタンニトリルの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるペンチルアミンが91.9%、未反応を含めたその他の化合物が8.1%含まれていた。 実施例7 反応させる基質を1−ブロモヘキサン(CH3(CH2)5Br)10.0ml(0.071mol)に代え、反応温度を50℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。1−ブロモヘキサンの滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応は1−ブロモヘキサンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるヘキサンが86.4%、未反応を含めたその他の化合物が13.6%含まれていた。 実施例8 反応させる基質を1−ニトロプロパン(CH3(CH2)2NO2) 1.7ml(0.019mol)に代え、反応温度を0℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。1−ニトロプロパンの滴下と共に反応温度が5〜8℃上昇し、反応は1−ニトロプロパンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるプロピルアミンが88.0%、未反応を含めたその他の化合物が12.0%含まれていた。 実施例9 反応させる基質を塩化ベンゾイル(C6H5COCl)5.0ml(0.043mol)に代え、反応温度を50℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。塩化ベンゾイルの滴下と共に反応温度が2〜3℃上昇し、反応は塩化ベンゾイルの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるベンジルアルコールが80.1%、未反応を含めたその他の化合物が19.9%含まれていた。 実施例10 反応させる基質を無水フタル酸(C6H4(CO)2O)4.0g(0.027mol)に代え、反応温度を60℃にし、無水フタル酸を20mlのトルエンと混合させて滴下した以外は実施例1と同様の方法で反応させた。滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応は無水フタル酸の滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1,2−ベンゼンジメタノールが82.8%、未反応を含めたその他の化合物が17.2%含まれていた。 実施例11 反応させる基質をジブチルジスルフィド(CH3(CH2)3SS(CH2)3CH3)10.0ml(0.052mol)に代え、反応温度を80℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。滴下と共に反応温度が3〜5℃上昇し、反応はジブチルジスルフィドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1−ブタンチオールが95.5%、未反応を含めたその他の化合物が4.5%含まれていた。 実施例12 反応させる基質をスチレンオキシド(C6H5OC2H3)10.0ml(0.088mol)に代え、反応温度を0℃にした以外は実施例1と同様の方法で反応させた。滴下と共に反応温度が7〜10℃上昇し、反応はスチレンオキシドの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、トルエン中の化合物について分析したところ、目的生成物である1−フェニルエタノールが75.6%、未反応を含めたその他の化合物が24.4%含まれていた。 実施例13 トルエンの代わりにキシレンを用いる以外は実施例1と同様の方法で反応させた。シクロヘキサノンの滴下と共に反応温度が2〜5℃上昇し、反応はシクロヘキサノンの滴下直後に進行していることがわかった。反応終了後、塩酸で加水分解を行い、キシレン中の化合物について分析したところ、目的生成物であるシクロヘキサノールが89.7%、未反応を含めたその他の化合物が10.3%含まれていた。 比較例1 トルエンの変わりにヘキサンを使用した以外は実施例1と同様の方法で反応させた。シクロヘキサノンを全量滴下したが、反応温度に変化は認められなかった。塩酸を加えた後、ヘキサン中の化合物について分析したところ、未反応のシクロヘキサノンのみが検出され、反応は全く進行していなかった。下式に示す(ただしR、R’はアルキル基、またはアリール基を示す。)基質と、還元剤である水素化アルミニウムリチウムを反応させる還元反応において、反応溶媒としての芳香族炭化水素系溶媒中でAlCl4−リチウムを放出する物質を触媒として使用することを特徴とする水素化アルミニウムリチウムを用いた還元方法。R−COR’、R−CHO、R−COOH、R−COOR’、R−CONR’2、R−CN、R−Hal、R−NO2、R−COCl、R−COOCOR’、又はR−SSR’


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