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タイトル:公開特許公報(A)_微生物防除剤
出願番号:2004199763
年次:2006
IPC分類:A01N 43/40,A01N 33/12,C07D 213/30


特許情報キャッシュ

高麗 寛紀 五十嵐 喜雄 延嶋 浩文 JP 2006022022 公開特許公報(A) 20060126 2004199763 20040706 微生物防除剤 高麗 寛紀 501046958 タマ化学工業株式会社 595137941 吉田 勝広 100077698 近藤 利英子 100098707 高麗 寛紀 五十嵐 喜雄 延嶋 浩文 A01N 43/40 20060101AFI20051222BHJP A01N 33/12 20060101ALI20051222BHJP C07D 213/30 20060101ALI20051222BHJP JPA01N43/40 101KA01N33/12 101C07D213/30 5 OL 23 4C055 4H011 4C055AA01 4C055AA04 4C055BA01 4C055CA01 4C055CA02 4C055CA06 4C055CA16 4C055CB02 4C055CB08 4C055DA01 4C055DA06 4C055DA16 4C055DB02 4C055DB08 4C055EA01 4H011AA02 4H011AA03 4H011AA05 4H011BA01 4H011BA06 4H011BB04 4H011BB09 4H011BC03 4H011DA13 4H011DF04 本発明は、微生物防除剤、さらに詳しくは細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる微生物防除剤に関する。 従来より、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品には、細菌、かび、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因となっている。そのため、このような有害微生物の繁殖を防除するために、抗菌、防かび、防腐、防藻効果を発現する種々の微生物防除剤が広く使用されている。 また、このような微生物防除剤として、近年、例えば、特許文献1〜6などにおいて、それらに記載されるビス四級アンモニウム塩化合物が、広い抗菌スペクトルを有し、優れた防除効果を発現することが報告されている。特開平9−110692号公報特開平10−95773号公報特開平10−287566号公報特開2000−136185号公報特開2000−95763号公報特開2000−198879号公報 しかし、上記したビス四級アンモニウム塩化合物を単独で使用しても、その防除効果が十分でない場合もあり、十分な防除効果を発現し得る新規な微生物防除剤の開発が望まれている。 そこで、本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、その目的とするところは、細菌、かび、酵母、藻などに対して優れた防除効果を発現することのできる、微生物防除剤を提供することにある。 上記目的を達成するために、本発明者らは、特定のビス四級アンモニウム塩化合物と併用して優れた相乗効果を発現し得る化合物について鋭意検討したところ、特定のビス四級アンモニウム塩化合物に、四級アンモニウム塩化合物を併用することにより、特定のビス四級アンモニウム塩化合物と相乗的な防除効果を発現し得る知見を見い出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。 本発明は下記の構成からなる。1.下記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを含有することを特徴とする微生物防除剤。(但し、上記一般式において、R1およびR4は、炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐の同一または異なるアルキレン基であり、R2およびR5は、水素原子、同一または異なるハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基であり、R3は、炭素数2〜12の直鎖若しくは分岐のアルキレン基であり、R6は、炭素数1〜18の直鎖若しくは分岐のアルキル基であり、Zは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子若しくはOSO2R7基(R7は、低級アルキル基若しくは置換或いは無置換のフェニル基である)である。)2.前記一般式(1)において、R1およびR4は、ピリジン環の3または4位置に結合しているメチレン基であり、R2およびR5は、水素原子であり、R3は、テトラメチレン基であり、R6は、オクチル基、デシル基およびドデシル基から選ばれる基であり、Zは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子若しくはOSO2R7基(R7は、低級アルキル基若しくは置換或いは無置換のフェニル基である)である前記1に記載の微生物防除剤。3.前記一般式(1)で表される化合物は、下記式(1)〜(4)で表される少なくとも1種の化合物である前記1に記載の微生物防除剤。4.四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式(2)で示される4置換アンモニウム塩化合物および/または下記一般式(3)で示されるピリジニウム塩化合物である前記1に記載の微生物防除剤。(式中、R8、R9、R10およびR11は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、Z2はアニオンを、bは1または2の整数を示す。R12は、置換基を有していてもよい炭化水素基を、A環は置換基を有していてもよい芳香環を、Z3はアニオンを、cは1または2の整数を示す。)5.一般式(2)および一般式(3)で示されるR8、R9、R10、R11およびR12は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルケニル基、または、置換基を有していてもよい炭素数7〜16のアラルキル基である前記4に記載の微生物防除剤。 本発明の微生物防除剤は、優れた抗菌、防かび、防腐、防藻作用など、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として、前記一般式(1)で表される化合物と四級アンモニウム塩化合物との相乗効果を発現することができる。そのため、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。また、本発明の微生物防除剤は、例えば、繊維、木材、医療器械、医療器具、光学機器、工作機械、精密機器、精密器材などに、洗浄殺菌剤として適用することもできる。 以下に発明を実施するための最良の形態を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。本発明に用いられる前記一般式(1)で表される化合物のなかで好ましい化合物は、前記一般式(1)において、R1およびR4が、ピリジン環の3または4位置に結合しているメチレン基であり、R2およびR5が、水素原子であり、R3が、テトラメチレン基であり、R6が、オクチル基、デシル基およびドデシル基から選ばれる基であり、Zが塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子若しくはOSO2R7基(R7は、低級アルキル基若しくは置換或いは無置換のフェニル基である)である化合物であり、特に好ましい化合物は前記式(1)〜(4)の化合物である。前記一般式(1)で表される化合物は、単独でも混合物としても使用できる。 一般式(1)で表される化合物は、下記一般式(a)で表されるピリジン化合物と、下記一般式(b)で表されるジオール類とを、強塩基の存在下に反応させることにより、下記一般式(c)で表されるピリジン化合物を製し、該化合物と下記一般式(d)で表されるピリジン化合物とを強塩基の存在下に反応させることにより下記一般式(e)で表されるピリジン化合物を製し、該化合物と下記一般式(f)で表されるハロゲン化合物若しくはスルホン酸エステル化合物とを反応させることによって得られる。(但し、上記一般式(a)〜(f)において、AおよびBは塩基の作用により脱離基として機能し、アルキルカチオンを生成し得る置換基であり、XおよびYは無機、若しくは有機のプロトン酸の対アニオンであり、mおよびnは0〜1であり、R1〜R7、Zは前記と同意義である。) 本発明に用いられる四級アンモニウム塩化合物としては、殺菌剤および/または抗菌剤として用いられる四級アンモニウム塩化合物であって、例えば、前記一般式(2)で示される4置換アンモニウム塩化合物および前記一般式(3)で示されるピリジニウム塩化合物が挙げられる。前記一般式(2)又は前記一般式(3)における好ましいアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、ペンチル、iso−ペンチル、sec−ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数1〜18のアルキル基が挙げられる。 好ましいアルケニル基としては、例えば、ビニル、アリル、メタリル、イソプロペニル、1−プロペニル、2−プロペニル、2−メチル−1−プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプチニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデセニルなどの炭素数1〜18のアルケニル基が挙げられる。 好ましいアラルキル基としては、例えば、ベンジル、1−フェニルエチル、2−フェニルエチル、1−フェニルプロピル、2−フェニルプロピル、3−フェニルプロピル、ジフェニルメチル、o、mまたはp−メチルベンジル、o、mまたはp−エチルベンジル、o、mまたはp−イソプロピルベンジル、o、mまたはp−tert−ブチルベンジル、2,3−、2,4−、2,5−、2,6−、3,4−または3,5−ジメチルベンジル、2,3,4−、3,4,5−または2,4,6−トリメチルベンジル、5−イソプロピル−2−メチルベンジル、2−イソプロピル−5−メチルベンジル、2−メチル−5−tert−ブチルベンジル、2,4−、2,5−または3,5−ジイソプロピルベンジル、3,5−ジ−tert−ブチルベンジル、1−(2−メチルフェニル)エチル、1−(3−メチルフェニル)エチル、1−(4−メチルフェニル)エチル、1−(2−イソプロピルフェニル)エチル、1−(3−イソプロピルフェニル)エチル、1−(4−イソプロピルフェニル)エチル、1−(2−tert−ブチルフェニル)エチル、1−(4−tert−ブチルフェニル)エチル、1−(2−イソプロピル−4−メチルフェニル)エチル、1−(4−イソプロピル−2−メチルフェニル)エチル、1−(2,4−ジメチルフェニル)エチル、1−(2,5−ジメチルフェニル)エチル、1−(3,5−ジメチルフェニル)エチル、1−(3,5−ジ−tert−ブチルフェニル)エチルなどの炭素数7〜16のアラルキル基が挙げられる。 一般式(2)で示される4置換アンモニウム塩化合物において、R8、R9、R10およびR11のうち、いずれか2つがメチルであることが特に好ましい。また、いずれか2つがメチルである場合には、他の2つが、例えば、ヘキサデシルおよびメチル、C8〜C18アルキルおよびベンジル、2−2−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェノキシ−エトキシ−エチルおよびベンジル、ともにデシル、ともにオクチル、ともにアリルなどであることが特に好ましい。 また、一般式(3)で示されるピリジニウム塩化合物において、R12は、置換基を有していないアルキル基、例えば、オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数1〜18のアルキル基であることが好ましい。 また、一般式(3)で示されるピリジニウム塩化合物において、A環で示される置換基を有していてもよい芳香環は、置換基を有していてもよい芳香族複素環(ピリジン環)であって、その置換基としては、好ましくはハロゲン原子、アルキル基(例えば、メチル、エチル、プロピル、iso−プロピル、ブチル、iso−ブチル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの炭素数1〜4のアルキル基など)が挙げられる。これらの置換基は、同一または相異なって1〜4個、好ましくは、1または2個置換していてもよい。A環で示される置換基を有していてもよい芳香環の好ましい態様としては、置換基を有していない芳香環が挙げられる。 一般式(2)の式中、Z2で示されるアニオン、および、一般式(3)の式中、Z3で示されるアニオンとしては、Z1で示されるアニオンと同様のものが挙げられる。好ましくは、ハロゲンイオン(例えば、F-、Cl-、Br-、I-など)、遊離の有機カルボン酸(例えば、酢酸イオンなどの1価の飽和カルボン酸イオン、アジピン酸イオンなどの2価の飽和カルボン酸イオンなど)が挙げられる。また、一般式(2)および一般式(3)の式中、bおよびcは、1または2の整数を示し、具体的には、四級アンモニウム塩化合物の種類に応じて、適宜決定される。bは、1が特に好ましい。 このような四級アンモニウム塩化合物は、以下に示す具体的な化合物に準じて公知の方法により製造することができ、その具体例としては、4置換アンモニウム塩化合物として、例えば、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム塩(セチルトリメチルアンモニウム塩)、N−アルキル(C8〜C18)−N,N−ジメチル−N−ベンジルアンモニウム塩(ベンザルコニウム塩)、N,N−ジメチル−N−2−2−4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−フェニキシ−エトキシ−エチル−ベンジルアンモニウム塩(ベンゼトニウム塩)、ジ−n−デシル−ジメチルアンモニウム塩、ジオクチル−ジメチルアンモニウム塩、ジアリル−ジメチルアンモニウム塩などが挙げられる。また、ピリジニウム塩化合物として、例えば、1−ヘキサデシルピリジニウム塩(セチルピリジニウム塩)などが挙げられる。また、四級アンモニウム塩化合物として、上記以外に、例えば、ジアリル−ジメチルアンモニウム塩の重合体、例えば、アルキル−イソキノリニウム塩、ヘダキニウム塩、デクアリニウム塩などのキノリニウム塩化合物が挙げられる。 なお、上記した四級アンモニウム塩化合物のアンモニウム塩(ピリジニウム塩およびキノリニウム塩を含む)としては、上記したZ2またはZ3で示されるアニオンとの塩であれば特に制限されないが、例えば、ブロマイド(アンモニウムブロマイド)、クロライド(アンモニウムクロライド)、アイオダイド(アンモニウムアイオダイド)、アセテート(アンモニウムアセテート)、アジペート(アンモニウムアジペート)などが挙げられる。 これらのうち、好ましくは、ヘキサデシルトリメチルアンモニウム塩(セチルトリメチルアンモニウム塩)、N−アルキル(C8〜C18)−N,N−ジメチル−N−ベンジルアンモニウム塩(ベンザルコニウム塩)、ジ−n−デシル−ジメチルアンモニウム塩、1−ヘキサデシルピリジニウム塩(セチルピリジニウム塩)が挙げられる。 そして、本発明の微生物防除剤は、前記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを配合することにより得ることができる。また、本発明の微生物防除剤は、前記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを別の製剤として調製し、使用時に混合してもよい。また、前記一般式(1)で表される化合物と四級アンモニウム塩化合物とを配合する割合は、例えば、前記一般式(1)で表される化合物100質量部に対して、四級アンモニウム塩化合物が、10〜1000質量部、好ましくは、50〜500質量部である。 このようにして配合される本発明の微生物防除剤は、細菌、かび、酵母、藻の少なくとも1つに対して優れた防除効果を発現するため、これらの防除剤として好適に用いられる。また、本発明の微生物防除剤は、前記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを予め配合して、製剤化したものを適用対象に添加してもよく、また、前記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを、適用対象に、それぞれ個別に添加して、適用対象において作用させてもよい。 本発明の微生物防除剤を製剤化する場合には、特に限定されることなく、公知の方法を用いることができ、その目的および用途に応じて、例えば、液剤(水懸濁剤および油剤を含む。)、ペースト剤、粉剤、粒剤、マイクロカプセルなどの公知の種々の剤型に製剤化すればよい。また、包接化合物として調製してもよく、さらに、層状ケイ酸塩などのモンモリロナイト(スメクタイト類など)などに担持させ、或いは、クレー、シリカ、ホワイトカーボン、タルクなどに吸着させることにより調製してもよい。 これらのうち、例えば、液剤として製剤化する場合には、前記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを、上記した配合割合で、適宜溶剤に溶解または分散すればよい。より具体的には、例えば、液剤100質量%中に、溶剤が1〜99.8質量%、前記一般式(1)で表される化合物が0.1〜95質量%、四級アンモニウム塩化合物が0.1〜95質量%となる割合でそれぞれ配合し、溶解または分散させればよい。用いられる溶剤としては、前記一般式(1)で表される化合物および四級アンモニウム塩化合物を溶解しまたは分散し得る溶剤であれば特に制限されない。 このような溶剤としては、例えば、水、メタノール、エタノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、n−ブタノール、tert−ブタノール、3−メチル−3−メトキシブタノールなどのアルコール系溶剤、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコール系溶剤、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、プロピレンカーボネートなどのケトン系溶剤、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル系溶剤、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、3−メチル−3−メトキシブチルアセテート、γ−ブチロラクトン、アジピン酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、コハク酸ジメチルなどのエステル系溶剤、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、N−メチルピロリドンなどの極性溶剤などが挙げられる。これらのうち、好ましくは、水、アルコール系溶剤、グリコール系溶剤、極性溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独または2種以上併用してもよい。 また、本発明の微生物防除剤は、その目的および用途によって、公知の添加剤、例えば、他の防藻剤および/または防かび剤、界面活性剤、酸化防止剤、光安定剤、食用色素などを添加してもよい。他の防藻剤および/または防かび剤としては、例えば、イソチアゾリン系化合物、ニトロアルコール系化合物、ジチオール系化合物、チオフェン系化合物、ハロアセチレン系化合物、フタルイミド系化合物、ハロアルキルチオ系化合物、ピリチオン系化合物、フェニルウレア系化合物、トリアジン系化合物、グアニジン系化合物、トリアゾール系化合物、ベンズイミダゾール系化合物などが挙げられる。 イソチアゾリン系化合物としては、例えば、2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、5−クロロ−2−メチル−4−イソチアゾリン−3−オン、5−クロロ−2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、4−クロロ−2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、4,5−ジクロロ−2−n−オクチル−4−イソチアゾリン−3−オン、1,2−ベンツイソチアゾリン−3−オン、N−n−ブチル−1,2−ベンツイソチアゾリン−3−オンなどが挙げられる。 ニトロアルコール系化合物としては、例えば、2−ブロモ−2−ニトロプロパン−1,3−ジオール、2,2−ジブロモ−2−ニトロ−1−エタノールなどが挙げられる。ジチオール系化合物としては、例えば、4,5−ジクロロ−1,2−ジチオール−3−オンなどが挙げられる。チオフェン系化合物としては、例えば、3,3,4−トリクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシド、3,3,4,4−テトラクロロテトラヒドロチオフェン−1,1−ジオキシドなどが挙げられる。 ハロアセチレン系化合物としては、例えば、N−ブチル−3−ヨードプロピオール酸アミド、3−ヨード−2−プロピニルブチルカーバメートなどが挙げられる。フタルイミド系化合物としては、例えば、N−1,1,2,2−テトラクロロエチルチオ−テトラヒドロフタルイミド(Captafol)、N−トリクロロメチルチオ−テトラヒドロフタルイミド(Captan)、N−ジクロロフルオロメチルチオフタルイミド(Fluorfolpet)、N−トリクロロメチルチオフタルイミド(Folpet)などが挙げられる。 ハロアルキルチオ系化合物としては、例えば、N−ジメチルアミノスルホニル−N−トリル−ジクロロフルオロメタンスルファミド(Tolylfluanide)、N−ジメチルアミノスルホニル−N−フェニル−ジクロロフルオロメタンスルファミド(Dichlofluanide)などが挙げられる。ピリチオン系化合物としては、例えば、ナトリウムピリチオン、ジンクピリチオンなどが挙げられる。フェニルウレア系化合物としては、例えば、3−(3,4−ジクロロフェニル)−1,1−ジメチルウレアなどが挙げられる。 トリアジン系化合物としては、例えば、2−メチルチオ−4−t−ブチルアミノ−6−シクロプロピルアミノ−s−トリアジンなどが挙げられる。グアニジン系化合物としては、例えば、1,6−ジ−(4’−クロロフェニルジグアニド)−ヘキサン、ポリヘキサメチレンビグアニジン塩酸塩などが挙げられる。 トリアゾール系化合物としては、例えば、α−[2−(4−クロロフェニル)エチル]−α−(1,1−ジメチルエチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(慣用名:テブコナゾール)、1−[[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−n−プロピル−1,3−ジオキソラン−2−イル]メチル]−1H−1,2,4−トリアゾール(慣用名:プロピコナゾール)、1−[[2−(2,4−ジクロロフェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]メチル]−1H−1,2,4−トリアゾール(慣用名:アザコナゾール)、α−(4−クロロフェニル)−α−(1−シクロプロピルエチル)−1H−1,2,4−トリアゾール−1−エタノール(慣用名:シプロコナゾール)などが挙げられる。 ベンズイミダゾール系化合物としては、例えば、メチル2−ベンズイミダゾールカルバメート、エチル2−ベンズイミダゾールカルバメート、2−(4−チアゾリル)ベンズイミダゾールなどが挙げられる。 また、他の防藻剤および/または防かび剤として、その他に、例えば、ジヨードメチル−p−トルイルスルホン、p−クロロフェニル−3−ヨードプロパルギルフォルマールなどの有機ヨウ素系化合物、例えば、テトラメチルチウラムジスルフィドなどのチオカーバメート系化合物、例えば、2,4,5,6−テトラクロロイソフタロニトリルなどのニトリル系化合物、例えば、2,3,5,6−テトラクロロ−4−(メチルスルフォニル)ピリジンなどのピジリン系化合物、例えば、2−(4−チオシアノメチルチオ)ベンゾチアゾールなどのベンゾチアゾール系化合物、例えば、3−ベンゾ[b]チエン−2−イル−5,6−ジヒドロ−1,4,2−オキサチアジン−4−オキサイドなどのオキサチアジン系化合物などが挙げられる。 これらの他の防藻剤および/または防かび剤は、単独または2種以上併用してもよい。また、他の防藻剤および/または防かび剤の配合割合は、その剤型および目的ならびに用途によって適宜決定されるが、例えば、前記一般式(1)で表される化合物100質量部に対して、1〜9000質量部、好ましくは、3〜8000質量部である。 また、界面活性剤としては、例えば、石鹸類、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤など、公知の界面活性剤が挙げられ、好ましくは、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が挙げられる。 ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル、ポリオキシエチレン誘導体、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン、アルキルアルカノールアミド、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステルなどが挙げられる。 より具体的には、ポリオキシエチレンアルキルエーテルおよびポリオキシエチレンアルキルアリルエーテルとして、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル(エマルゲン(花王社製、以下同じ)104P、エマルゲン105、エマルゲン106、エマルゲン108、エマルゲン109P、エマルゲン120、エマルゲン123P、エマルゲン147、エマルゲン130K)、例えば、ポリオキシエチレンセチルエーテル(エマルゲン210P、エマルゲン220)、例えば、ポリオキシエチレンステアリルエーテル(エマルゲン306P、エマルゲン320P)、例えば、ポリオキシエチレンオレイルエーテル(エマルゲン404、エマルゲン408、エマルゲン409P、エマルゲン420、エマルゲン430)、例えば、ポリオキシエチレン高級アルコールエーテル(エマルゲン705、エマルゲン707、エマルゲン709)、例えば、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル(エマルゲン810、エマルゲン840S)、例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル(エマルゲン903、エマルゲン904、エマルゲン905、エマルゲン906、エマルゲン909、エマルゲン910、エマルゲンPI−20T、エマルゲン911、エマルゲン913、エマルゲン920、エマルゲン930、エマルゲン931、エマルゲン935、エマルゲン950、エマルゲン985)などが挙げられる。 また、ポリオキシエチレン誘導体およびソルビタン脂肪酸エステルとして、例えば、ポリオキシエチレン誘導体(エマルゲンA−60、エマルゲンA−90、エマルゲンA−500、エマルゲンB−66、エマルゲンL−40)、例えば、ソルビタンモノラウレート(レオドール(花王社製、以下同じ)SP−L10)、例えば、ソルビタンモノパルミテート(レオドールSP−P10)、例えば、ソルビタンモノステアレート(レオドールSP−S10)、例えば、ソルビタントリステアレート(レオドールSP−S30)、例えば、ソルビタンモノオレエート(レオドールSP−O10)、例えば、ソルビタントリオレエート(レオドールSP−O30)、例えば、ソルビタンモノラウレート(レオドールスーパーSP−L10)、例えば、ソルビタンモノステアレート(レオドールスーパーSP−S10)、例えば、ソルビタンモノステアレート(レオドールAS−10)、例えば、ソルビタンモノオレエート(レオドールAO−10)、例えば、ソルビタンセスキオレエート(レオドールAO−15)、例えば、ソルビタンモノラウレート(エマゾール(花王社製、以下同じ)L−10(F))、例えば、ソルビタンモノパルミテート(エマゾールP−10(F))、例えば、ソルビタンモノステアレート(エマゾールS−10(F))、例えば、ソルビタンモノオレエート(エマゾールO−10(F))、例えば、ソルビタンモノラウレート(エマゾールスーパーL−10(F))、例えば、ソルビタンモノステアレート(エマゾールスーパーS−10(F))、例えば、ソルビタンセスキオレエート(エマゾールO−15R)、例えば、ソルビタンジステアレート(エマゾールS−20)などが挙げられる。 また、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンおよびアルキルアルカノールアミドとして、例えば、ポリエチレングリコールモノラウレート(エマノーン(花王社製、以下同じ)1112)、例えば、ポリエチレングリコールモノステアレート(エマノーン3199)、例えば、ポリエチレングリコールジステアレート(エマノーン3299)、例えば、ポリエチレングリコールジステアレート(エマノーン3299R)、例えば、ポリエチレングリコールモノオレエート(エマノーン4110)、例えば、ポリオキシエチレンアルキルアミン(アミート(花王社製、以下同じ)105、アミート320)、例えば、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油(エマノーンCH−25、エマノーンCH−40、エマノーンCH−60(K)、エマノーンCH−80)、例えば、アルキルアルカノールアミド(アミノーン(花王社製、以下同じ)PK−02S、アミノーンL−02)などが挙げられる。 また、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステルとして、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(レオドールTW−L120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(レオドールTW−L106)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート(レオドールTW−P120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(レオドールTW−S120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(レオドールTW−S106)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタントリステアレート(レオドールTW−S320)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(レオドールTW−O120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(レオドールTW−O106)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタントリオレエート(レオドールTW−O320)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート(レオドールスーパーTW−L120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート(レオドールスーパーTW−S120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレート(レオドールスーパーTW−O120)、例えば、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート(エマゾールO−105R)、例えば、テトラオレイン酸ポリオキシエチレンソルビット(レオドール430、レオドール440、レオドール460)、例えば、グリセロールモノステアレート(レオドールMS−50)、例えば、グリセロールモノステアレート(レオドールMS−60)、例えば、グリセロールモノオレエート(レオドールMO−60)、例えば、自己乳化型グリセロールモノステアレート(レオドールMS−165)、例えば、グリセロールモノオレエート(エマゾールMO−50)、例えば、分子蒸留モノグリセライドステアリン系(エキセル(花王社製、以下同じ)T−95)、例えば、分子蒸留モノグリセライド植物性ステアリン系(エキセルVS−95)、例えば、分子蒸留モノグリセライド植物性オレイン系(エキセルO−95R)、例えば、中純度モノグリセライドステアリン系(エキセル150)、例えば、中純度モノグリセライドステアリン・オレイン系(エキセル200)、例えば、中純度モノグリセライドオレイン系(エキセル300)、例えば、中純度モノグリセライドステアリン系(エキセル84)、例えば、中純度モノグリセライドオレイン・ステアリン系(エキセル122)、例えば、中純度モノグリセライド自己乳化型ステアリン系(エキセルP−40S)、例えば、中純度モノグリセライドオレイン・ステアリン系(エキセルP−40)などが挙げられる。 アニオン系界面活性剤としては、例えば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフタレンスルホン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性剤、ジアルキルスルホコハク酸エステル金属塩、ポリオキシエチレンジスチレン化フェニルエーテルサルフェートアンモニウム塩、リグニンスルホン酸金属塩などが挙げられる。また、これらの金属塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩などが挙げられる。 また、酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2’−メチレンビス[4−メチル−6−t−ブチルフェノール]などのフェノール系酸化防止剤、例えば、アルキルジフェニルアミン、N,N’−ジ−s−ブチル−p−フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防止剤などが挙げられる。これら、界面活性剤および酸化防止剤は、例えば、液剤の場合には、液剤100質量部に対して0.1〜5質量部添加される。 また、光安定剤としては、例えば、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケートなどのヒンダードアミン系光安定剤などが挙げられる。このような光安定剤は、例えば、液剤の場合には、液剤100質量部に対して0.1〜10質量部添加される。また、食用色素としては、例えば、青色1号、黄色4号、赤色105号などが挙げられる。このような食用色素は、例えば、液剤の場合には、液剤100質量部に対して0.001〜10質量部添加される。 このようにして得られる本発明の微生物防除剤は、優れた、抗菌、防かび、防腐、防藻作用など、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として、前記一般式(1)で表される化合物と四級アンモニウム塩化合物との相乗効果を発現することができる。 そのため、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。また、本発明の微生物防除剤は、例えば、繊維、木材、医療器械、医療器具、光学機器、工作機械、精密機器、精密器材などに、洗浄殺菌剤として適用することもできる。 なお、本発明の微生物防除剤は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、1〜8,000mg(全有効成分)/kg(製品)、好ましくは、5〜5,000mg(全有効成分)/kg(製品)の濃度として用いることができる。 また、本発明の微生物防除剤は、pHが、3〜13、好ましくは、4〜12の適用対象に用いることができ、さらには、例えば、SO22-、SO32-、HSO2-、HSO3-、S2O32-、好ましくは、SO32-、HSO3-、S2O32-などの還元剤の存在下においても、その効力を有効に発現することができる。なお、この場合の還元剤の濃度は、例えば、製品中1〜10,000ppmであることが好ましい。 次に本発明で使用する前記一般式(1)で表される化合物の合成例を挙げる。合成例1(前記化合物(1)の合成)[下記構造式で示される化合物(1−1)の合成] DMF(ジメチルホルムアミド)75mlに1,4−ブタンジオール8.24g(91.43mmol)を加え、氷冷下カリウムtert−ブトキシド10.3g(91.79mmol)を添加し、室温で1.5時間撹拌した。このスラリー液に−8〜−3℃で3−クロロメチルピリジン塩酸塩1.0g(6.10mmol)およびカリウムtert−ブトキシド0.68g(6.06mmol)を交互に添加し、これを15回繰り返し、全量で3−クロロメチルピリジン塩酸塩15.0g(91.45mmol)およびカリウムtert−ブトキシド10.2g(90.9mmol)を添加した。 添加終了後、反応混合物をHPLC(条件1)で分析すると、3−クロロメチルピリジンのピークが確認されたので、3−クロロメチルピリジンのピークが消失するまで、カリウムtert−ブトキシドを5℃以下で添加した。追加したカリウムtert−ブトキシドは1.13g(10.07mmol)であった。反応混合物を固液分離し、ケークをDMF30mlで洗浄、ろ洗液からDMFを減圧下に留去して油状の粗生成物(化合物(1−1))17.1gを得た。得られたオイルをHPLC(条件1)で分析すると、前記化合物(1−1)の面積%は76.0%であった。 前記化合物(1−1)の粗生成物を水30mlに溶解し、トルエンで洗浄した。その後、水層に食塩6gを加え、ジクロロメタン20ml×2で抽出し、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去し、油状の前記化合物(1−1)9.21g(収率(1,4−ブタンジオールより):57.2%)を得た。得られたオイルをHPLC(条件1)で分析すると、面積%は99.4%であった。(1H−NMR(CDCl3):δ1.67−1.75(4H,m,−(CH2)2−)、δ2.35(1H,s,OH)、δ3.52−3.56(2H,t,J=6.0Hz,CH2)、δ3.64−3.68(2H,t,J=6.0Hz,CH2)、δ4.52(2H,s,CH2)、δ7.27−7.31(1H,m,aromH)、δ7.66−7.70(1H,m,aromH)、δ8.52−8.56(2H,m,arom H×2)、MS(APCl):m/z=182[M+H]+)HPLC(条件1)・カラム:Inertsil ODS-3(GL Sciences)4.6mmφ×250mm・カラム温度:15℃付近の一定温度・移動相:A−0.5%酢酸アンモニウム水溶液、B−アセトニトリル A:B=70:30(一定)・流量:1.0ml/min・検出器:UV254nm・注入量:20μL[下記構造式で示される化合物(1−2)の合成] DMF25mlに前記化合物(1−1)5.0g(27.59mmol)を加え、氷冷下カリウムtert−ブトキシド3.1g(27.63mmol)を添加した。このスラリーに5〜6℃で3−クロロメチルピリジン塩酸塩0.5g(3.05mmol)およびカリウムtert−ブトキシド0.34g(3.03mmol)を交互に添加し、これを9回繰り返し、全量で3−クロロメチルピリジン塩酸塩4.5g(27.43mmol)およびカリウムtert−ブトキシド3.06g(27.27mmol)を添加した。添加終了後、反応混合物をHPLC(条件1)で分析すると、3−クロロメチルピリジンおよび前記化合物(1−1)のピークが確認されたので、3−クロロメチルピリジンのピークおよび前記化合物(1−1)のピークが消失するまで、カリウムtert−ブトキシドを5℃以下で添加した。追加したカリウムtert−ブトキシドは0.62g(5.53mmol)であった。 反応混合物を固液分離し、ケークをDMF30mlで洗浄、ろ洗液からDMFを減圧下に留去した。この濃縮残液にジクロロメタン20mlを添加し、溶解液を飽和食塩水で洗浄後、溶媒を留去し、油状物5.8gを得た。この粗生成物0.5gについてシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:クロロホルム−メタノール)で精製を行い、油状の前記化合物(1−2)0.3gを得た。(1H−NMR:δ1.70−1.74(4H,m,−(CH2)2−)、δ3.50−3.54(4H,m,CH2×2)、δ4.51(4H,s,CH2×2)、δ7.25−7.29(2H,dd,J=4.9Hz,7.9Hz,aromH×2)、δ7.65−7.69(2H,dt,J=1.7Hz,7.9Hz,aromH×2)、δ8.52−8.57(4H,dd,J=1.7Hz,4.9Hz,aromH×4)、MS(APCl):m/z=273[M+H]+)[化合物(1)の合成] 前記化合物(1−2)5.0g(18.36mmol)にオクチルブロマイド35.5g(183.8mmol)を加え、70〜80℃で20時間反応を行った。反応混合物をHPLC(条件2)で分析すると、前記化合物(1−2)のピークは消失していた。反応混合物より上層のオクチルブロマイド層を分離し、下層油状物をアセトニトリル−酢酸エチル=1:3(v/v)混液に注加した。混合物を冷却し、析出結晶を0℃でろ過、減圧乾燥を行い、灰白色結晶9.7g(粗収率(前記化合物(1−2)より):85%)を得た。 得られた結晶2gについてアセトニトリル−酢酸エチル=1:3(v/v)混液で再結晶を行い、微灰白色結晶の化合物(1)1.6gを得た。(融点:52〜53℃、1H−NMR(d6−DMSO):δ0.82−0.89(6H,t,J=5.3Hz,CH3×2)、δ1.25−1.34(20H,m,−(CH2)5−×2)、δ1.77−1.80(4H,m,−(CH2)2−×2)、δ2.04−2.09(4H,t,J=7.0Hz,CH2×2)、δ3.70−3.72(4H,t,J=5.9Hz,CH2×2)、δ4.67−4.71(4H,t,J=7.0Hz,CH2×2)、δ4.84(4H,s,CH2×2)、δ8.11−8.15(2H,dd,J=6.0Hz,8.0Hz,aromH×2)、δ8.56−8.59(2H,d,J=8.0Hz,aromH×2)、δ8.69−8.92(4H,dd,J=6.0Hz,13.1Hz,aromH×4)、MS(ESI):m/z=579[M−Br]+)。HPLC(条件2)・カラム:Inertsil ODS-3(GL Sciences)4.6mmφ×250mm・カラム温度:15℃付近の一定温度・移動相:A−0.5%酢酸アンモニウム水溶液、B−アセトニトリル A:70%(12min保持)→(10min)→A:50%(14min保持)→A:70%・流量:1.0ml/min・検出器:UV254nm・注入量:20μL合成例2(前記化合物(2)の合成)[下記構造式で示される化合物(2−1)の合成:3−クロロメチルピリジン塩酸塩から4−クロロメチルピリジン塩酸塩に代え、反応条件を以下の通りにした他は合成例1と同様] DMF75mlに1,4−ブタンジオール8.24g(91.43mmol)を加え、氷冷下カリウムtert−ブトキシド10.3g(91.79mmol)を添加し、室温で1時間撹拌した。このスラリーに−10〜−5℃で4−クロロメチルピリジン塩酸塩1.5g(9.14mmol)、カリウムtert−ブトキシド1.03g(9.18mmol)を交互に添加し、これを10回繰り返した。 添加終了後、反応混合物をHPLC(条件1)で分析すると、4−クロロメチルピリジンのピークが確認されたので、4−クロロメチルピリジンのピークが消失するまでカリウムtert−ブトキシドを10℃以下で添加した。追加したカリウムtert−ブトキシドは1.03g(9.18mmol)であった。反応混合物を固液分離し、ケークをDMF20mlで洗浄、ろ洗液からDMFを減圧下に留去し油状の粗生成物17.0gを得た。得られたオイルをHPLC(条件1)で分析すると、前記化合物(2−1)の面積%は63.0%であった。 粗生成物を水30mlに溶解し、トルエンで洗浄した。その後、水層に食塩6gを加え、ジクロロメタン20ml×2で抽出し、無水硫酸マグネシウムで脱水後、溶媒を留去し、油状の前記化合物(2−1)9.21g(収率(1,4−ブタンジオールより):57.2%)を得た。得られたオイルをHPLC(条件1)で分析すると、面積%は99.4%であった。(1H−NMR(CDCl3):δ1.65−1.80(4H,m,−(CH2)2−)、δ2.4(1H,s,OH)、δ3.54−3.58(2H,t,J=5.9Hz,CH2)、δ3.66−3.70(2H,t,J=5.9Hz,CH2)、δ4.53(2H,s,CH2)、δ7.24−7.26(2H,dd,J=1.5Hz,4.5Hz,aromH×2)、δ8.55−8.57(2H,dd,J=1.5Hz,4.5Hz,aromH×2)、MS(APCl):m/z=182[M+H]+)[下記構造式で示される化合物(2−2)の合成:3−クロロメチルピリジン塩酸塩から4−クロロメチルピリジン塩酸塩に代え、反応条件を以下の通りにした他は合成例1と同様] DMF49mlに1,4−ブタンジオール2.7g(30.0mmol)を加え、氷冷下カリウムtert−ブトキシド3.4g(30.0mmol)を添加し、室温で1時間撹拌した。このスラリーに−5〜−3℃で4−クロロメチルピリジン塩酸塩0.98g(6mmol)、カリウムtert−ブトキシド0.68g(6mmol)を交互に添加し、これを5回繰り返した。これ以降の添加は、−5〜−2℃で4−クロロメチルピリジン塩酸塩0.98g(6mmol)、カリウムtert−ブトキシド1.36g(12mmol)を交互に添加し、これを5回繰り返し、全量で4−クロロメチルピリジン塩酸塩9.8g(60mmol)、カリウムtert−ブトキシド10.2g(90mmol)を添加した。 添加終了後、反応混合物をHPLC(条件1)で分析すると、4−クロロメチルピリジンおよび前記化合物(2−1)のピークが確認されたので、4−クロロメチルピリジンのピークおよび前記化合物(2−1)のピークが消失するまで、4−クロロメチルピリジン塩酸塩とカリウムtert−ブトキシドを10℃以下で添加した。追加した4−クロロメチルピリジン塩酸塩は2.0g(12mmol)、カリウムtert−ブトキシドは2.6g(24mmol)であった。反応混合物を固液分離し、ケークをDMF20mlで洗浄、ろ洗液からDMFを減圧下に留去した。 この濃縮残液に酢酸エチル50mlを添加し、溶解液を水で洗浄後、溶媒を留去し、黄色結晶の前記化合物(2−2)を得た。該化合物の結晶をHPLC(条件1)で分析すると、前記化合物(2−2)の面積%は70.5%であった。得られた粗生成物5g(18mmol)をイソプロピルアルコール23.3gで再結晶を行い、白色結晶の前記化合物(2−2)2.7gを得た。(融点:98.6〜100.2℃、1H−NMR(CDCl3):δ1.75−1.79(4H,m,−(CH2)2−)、δ3.53−3.57(4H,m,CH2×2)、δ4.52(4H,s,CH2×2)、δ7.23−7.27(4H,dd,J=0.8Hz,6.0Hz,aromH×4)、δ8.55−8.57(4H,dd,J=1.6Hz,6.0Hz,aromH×4)、MS(APCl):m/z=273[M+H]+)[下記構造式の化合物(2)の合成:前記化合物(2−2)を4−クロロメチルピリジン塩酸塩から誘導したものに代え、反応条件を以下の通りにした他は合成例1と同様] 前記化合物(2−2)2.0g(7.34mmol)にオクチルブロマイド21.3g(110.3mmol)を加え、70〜80℃で53時間反応を行った。反応混合物をHPLC(条件2)で分析すると、前記化合物(2−2)のピークは消失していた。反応混合物からオクチルブロマイドを減圧下で留去し、油状の前記化合物(2)5.2g(粗収率:107.7%)を得た。得られたオイルをHPLC(条件2)で分析すると、化合物(2)のピークの面積%は81.3%であった。合成例3(前記化合物(3)の合成) 前記化合物(1−2)5.0g(18.36mmol)にデシルブロマイド40.6g(183.8mmol)を加え、70〜80℃で20時間反応を行った。 反応混合物をHPLC(条件3)で分析すると、前記化合物(1−2)のピークは消失していた。反応混合物より上層のデシルブロマイド層を分離し、下層油状物をアセトニトリル−酢酸エチル=1:3(v/v)混液に注加した。混合物を冷却し、析出結晶を0℃でろ過、減圧乾燥を行い、灰白色結晶11.6g(粗収率(前記化合物(1−2)より):88.5%)を得た。該化合物の結晶をHPLC(条件1)で分析すると、前記化合物(3)の面積%は98.4%であった。融点およびNMR分析値は以下の通りであった。(融点:76.8〜79.2℃、1H−NMR(CD3OD):δ0.9(6H、t、CH3×2)、δ1.29〜1.40(28H、m、(CH2)7×2)、δ1.77〜1.84(4H、m、CH2×2)、δ2.00〜2.05(4H、t、CH2×2)、δ3.69〜3.70(4H、t、CH2×2)、δ4.64〜4.68(4H、t、CH2×2)、δ4.77(4H、s、CH2×2)、δ8.07〜8.11(2H、dd、J=、aromH×2)、δ8.55〜8.57(2H、d、aromH×2)、δ8.93〜8.94(2H、d、aromH×2)、δ9.02(2H、s、aromH×2)HPLC(条件3)・カラム:Inertsil ODS-3(GL Sciences)4.6mmφ×250mm・カラム温度:15℃付近の一定温度・移動相:A−0.5%酢酸アンモニウム水溶液、B−アセトニトリル A:60%(5min保持)→(10min)→A:30%(30min保持)→A:60%・流量:1.0ml/min・検出器:UV254nm・注入量:10μL合成例4(前記化合物(4)の合成) 合成例3におけるデシルブロマイドに代えて当モル量のドデシルブロマイドを用いた以外は合成例3と同様にして下記構造式で表される化合物(4)13.0g(粗収率:91.5%)を得た。得られた化合物(4)をHPLC(条件4)で分析すると、化合物(4)のピークの面積%は97.5%であった。また、融点およびNMR分析値は以下の通りであった。(融点:90.0〜91.4℃、1H−NMR(CD3OD):δ0.89(6H、t、CH3×2)、δ1.26〜1.39(36H、m、(CH2)9×2)、δ1.79〜1.82(4H、m、CH2×2)、δ1.84〜2.05(4H、m、CH2×2)、δ3.67〜3.70(4H、t、CH2×2)、δ4.65〜4.68(4H、t、CH2×2)、δ4.77(4H、s、CH2×2)、δ8.07〜8.11(2H、dd、aromH×2)、δ8.55〜8.57(2H、d、aromH×2)、δ8.93〜8.94(2H、d、aromH×2)、δ9.02(2H、s、aromH×2)HPLC(条件4)・カラム:CAPCELL PAK C18 SG120(資生堂)4.6mmφ×250mm・カラム温度:15℃付近の一定温度・移動相:A−0.1Mリン酸二水素カリウム(0.05%燐酸)水溶液、B−80%アセトニトリル水溶液 A:B=30:70・流量:1.0ml/min・検出器:UV254nm・注入量:20μL 以下に実施例および比較例を挙げ、本発明をより具体的に説明する。実施例1 前記化合物(1)(10質量%プロピレングリコール溶液)50gとジデシルジメチルアンモニウムクロライド(50質量%水溶液)10gとを、水40gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。実施例2 前記化合物(2)(10質量%プロピレングリコール溶液)50gとジデシルジメチルアンモニウムアジペート(50質量%水溶液)10gとを、水40gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。実施例3 前記化合物(3)(10質量%プロピレングリコール溶液)50gを、塩化ベザルコニウム(10質量%水溶液)50gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。実施例4 前記化合物(4)(10質量%プロピレングリコール溶液)50gを、セチルピリジニウムクロライド(10質量%水溶液)50gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。実施例5 前記化合物(1)と前記化合物(4)の等量混合物5gと塩化ベンザルコニウム(10質量%水溶液)50gとを、ジメチルスルホキシド45gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。比較例1 ジデシルジメチルアンモニウムクロライド(50質量%水溶液)20gを、水80gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。比較例2 ジデシルジメチルアンモニウムアジペート(50質量%水溶液)20gを、水80gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。比較例3 塩化ベンザルコニウム(10質量%水溶液)100gを、そのまま微生物防除剤として用いた。比較例4 セチルピリジニウムクロライド(10質量%水溶液)100gを、そのまま微生物防除剤として用いた。比較例5 N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムアセテート)(商品名:ダイマー38A、イヌイ社製、10質量%プロピレングリコール溶液)100gを、そのまま微生物防除剤として用いた。比較例6 N,N’−ヘキサメチレンビス(4−カルバモイル−1−デシルピリジニウムブロマイド)(商品名:ダイマー38、イヌイ社製、純度99.9質量%)5gを、プロピレングリコール95gに溶解し、微生物防除剤100gを調製した。 最小殺菌濃度試験前培養した大腸菌(K12W3110)を、滅菌水で0.001(OD660nm)となるように調整して、菌液を得た。実施例1〜5および比較例1〜6において調製した各微生物防除剤を、種々の濃度の水溶液となるように調製し、各水溶液0.5mLと、菌液0.5mLとを混合し、30℃のウォータバスシェーカーで1分間接触後、NB培地中に接種した。各培地を、37℃、24時間静置培養後、増殖の有無を肉眼で判定し、最小殺菌濃度(MBC)を求めた。その結果を表1に示す。 以上述べたように、本発明の微生物防除剤は、優れた抗菌、防かび、防腐、防藻作用など、細菌、かび、酵母、藻などに対する防除剤として、前記一般式(1)で表される化合物と四級アンモニウム塩化合物との相乗効果を発現することができる。そのため、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉糊、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、表面サイズ剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品などの有害微生物の防除の用途において有効に用いることができる。また、本発明の微生物防除剤は、例えば、繊維、木材、医療器械、医療器具、光学機器、工作機械、精密機器、精密器材などに、洗浄殺菌剤として適用することもできる。 下記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを含有することを特徴とする微生物防除剤。(但し、上記一般式において、R1およびR4は、炭素数1〜4の直鎖若しくは分岐の同一または異なるアルキレン基であり、R2およびR5は、水素原子、同一または異なるハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基であり、R3は、炭素数2〜12の直鎖若しくは分岐のアルキレン基であり、R6は、炭素数1〜18の直鎖若しくは分岐のアルキル基であり、Zは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子若しくはOSO2R7基(R7は、低級アルキル基若しくは置換或いは無置換のフェニル基である)である。) 前記一般式(1)において、R1およびR4は、ピリジン環の3または4位置に結合しているメチレン基であり、R2およびR5は、水素原子であり、R3は、テトラメチレン基であり、R6は、オクチル基、デシル基およびドデシル基から選ばれる基であり、Zは、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子若しくはOSO2R7基(R7は、低級アルキル基若しくは置換或いは無置換のフェニル基である)である請求項1に記載の微生物防除剤。 前記一般式(1)で表される化合物は、下記式(1)〜(4)で表される少なくとも1種の化合物である請求項1に記載の微生物防除剤。 四級アンモニウム塩化合物が、下記一般式(2)で示される4置換アンモニウム塩化合物および/または下記一般式(3)で示されるピリジニウム塩化合物である請求項1に記載の微生物防除剤。(式中、R8、R9、R10およびR11は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭化水素基を、Z2はアニオンを、bは1または2の整数を示す。R12は、置換基を有していてもよい炭化水素基を、A環は置換基を有していてもよい芳香環を、Z3はアニオンを、cは1または2の整数を示す。) 一般式(2)および一般式(3)で示されるR8、R9、R10、R11およびR12は、同一または相異なって、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数1〜18のアルケニル基、または、置換基を有していてもよい炭素数7〜16のアラルキル基である請求項4に記載の微生物防除剤。 【課題】 細菌、かび、酵母、藻などに対して優れた防除効果を発現することのできる、微生物防除剤を提供すること。【解決手段】 下記一般式(1)で表される化合物と、四級アンモニウム塩化合物とを含有することを特徴とする微生物防除剤。【選択図】 なし


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