生命科学関連特許情報
| タイトル： | 特許公報(B2)_２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアンの製造方法 |
| 出願番号： | 2000383103 |
| 年次： | 2011 |
| IPC分類： | C07D 339/08 |
特許情報キャッシュ
手崎 清 杉本 義昭 JP 4683717 特許公報(B2) 20110218 2000383103 20001218 ２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアンの製造方法 日本曹達株式会社 000004307 廣田 雅紀 100107984 松橋 泰典 100113860 手崎 清 杉本 義昭 20110518 C07D 339/08 20060101AFI20110421BHJP JPC07D339/08 C07D327/00-347/00 CAplus/CASREACT/REGISTRY(STN) 特開平１０−１３０２６３（ＪＰ，Ａ） 特開平１１−３１０５６６（ＪＰ，Ａ） 新実験化学講座14 有機化合物の合成と反応III，１９７８年，pp.1491-1495 COREY,E.J. et al，A practical process for large-scale synthesis of (S)-5-hydroxy-6-trans-8,11,14-cis-eicosatetraenoic acid (5-HETE)，Tetrahedron Letters，１９８１年，Vol.22, No.4，pp.299-302 1 2002187888 20020705 4 20070703 三上 晶子 【０００１】【発明の属する技術分野】本発明は、光学製品、特に高屈折率プラスチックレンズの原料として有用な２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアン（以下ＢＩＭＤと略す）の製造方法に関する。【０００２】【従来の技術】ＢＩＭＤの製造方法に関しては、特開平１０−１３０２６３号公報に、ホスゲンを溶解した溶媒中に、２，５−ビス（アミノメチル）−１，４−ジチアン（以下ＢＡＭＤと略す）を添加し、ホスゲン化した後、ホスゲンを吹き込みながら高温で反応を完結させる冷熱二段法が記載されている。【０００３】しかし、上述した方法では、蒸留精製後の収率が７４％と満足のいくものではなかった。本発明は、収率の高いＢＩＭＤの製造方法を提供することを目的とする。【０００４】【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、有機溶媒中で、アミノ体を無機酸塩化し、単離することなくホスゲンと反応させることで収率よく目的物を得られることを見出し、本発明を完成するに至った。【０００５】即ち、本発明は、（１）２，５−ビス（アミノメチル）−１，４−ジチアンを、有機溶媒中、無機塩を形成した後、無機酸塩を単離することなく、ホスゲンと反応させることを特徴とする２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアンの製造方法、（２）無機酸が、塩酸であることを特徴とする（１）に記載の製造方法、（３）塩酸塩を、塩化水素ガスを吹き込んで製造することを特徴とする（２）に記載の製造方法、に関する。【０００６】【発明の実施の形態】本発明に用いられる無機酸は、アミンと塩を形成するものであれば、特に限定されず、例えば、塩酸、臭化水素酸、沃化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸等を例示することができる。特に、塩酸が好ましく例示することができる。【０００７】鉱酸塩下は、有機溶媒にＢＡＭＤを溶解させ、無機酸を添加する方法、また、有機溶媒中に無機酸を溶解、又は懸濁させておきＢＡＭＤ又はその溶液を添加する方法いずれの方法でも行うことができる。特に、塩酸塩化には、塩化水素ガスを吹き込むことによって行うのが好ましい。無機酸塩化は、室温から、用いる有機溶媒の沸点の範囲で行われる。無機酸に水を含む場合、反応させながら系外に水を追い出しながら行うのが好ましい。【０００８】本発明に用いられる溶媒としては、ホスゲンや生成したＢＩＭＤに対し不活性なもので、沸点８０℃以上のもの、更に１００℃以上のものが好ましい。沸点が１００℃以下の溶媒では生成したカルバミルクロリドの脱塩酸の進行が遅く、高品質のＢＩＭＤが得られ難い。また沸点があまり高いと蒸留でＢＩＭＤとの分離が困難になる。好便に使用できる溶媒の例としてはトルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン、クロロトルエンなどの塩素化芳香族炭化水素、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、酢酸ブチル、酢酸イソアミルなどのエステル類が挙げられ、これらを1種単独、又は２種以上混合して用いることができる。使用する溶媒の量は多ければ問題無いが、効率的には原料に対し５倍以上が適当である。【０００９】ＢＡＭＤの無機酸塩化が終了したのち、無機酸塩を単離することなく、ホスゲンガスを吹き込み反応を行う。完結に要する温度は用いる溶媒により異なるが１００〜１８０℃迄の温度で十分である。１００〜１３０℃でホスゲン化を継続し反応を完結させる。【００１０】反応はスラリー状で進行し、反応が進むとスラリー濃度が小さくなり、完結時にはわずかな沈澱物を含むほとんど透明な状態になる。ホスゲン化完結後、通常ホスゲン化反応で行われている窒素吹き込みによる脱ガスまたは減圧脱ガスもしくは溶媒の一部を留出させて脱ガスを行う。脱ガスを終了した液を濾過し、溶媒を留去した後、分子蒸留を行えば高純度のＢＩＭＤが得られる。分子蒸留の温度はＢＩＭＤが分解し、着色するので１５０℃以下の温度が望ましい。【００１１】以下、実施例を用いて本発明を詳細に説明するが、本発明の範囲は実施例に限定されるものではない。【００１２】実施例１【化１】還流冷却管、温度計、ガス吹込み管及び、撹拌機を備えた３Ｌのフラスコにモノクロロベンゼン２．３Ｌ及びＢＡＭＤ１６０．５ｇを仕込んだ。次に、攪拌下、１０５℃まで昇温し、１０５〜１１５℃の温度に保ちながら、塩化水素ガス９９ｇを１３０分かけて吹き込んだ。吹込後。１２０℃まで1時間かけて昇温した。昇温後、１１８℃〜１２３℃の温度に保ちながら、ホスゲンを８５ｇ／ｈｒで6時間、６０ｇ／ｈｒで７時間、４０ｇ／ｈｒで７時間吹き込んだ。反応後、反応液を濾過濃縮し、粗ＢＩＭＤ２０２．８ｇ（純度９６．２％、収率９４．１％）を得た。これを、減圧下蒸留し、ＢＩＭＤ１８８．９ｇ（収率９０％）を得た。【００１３】比較例１実施例１と同様の容器にｏ−ジクロロベンゼン１．２Ｌを仕込み。−１０℃まで冷却し、ホスゲン５０２ｇを吹き込んで吸収させた。次に、ＢＡＭＤ２１９．２ｇのｏ−ジクロロベンゼン溶液を、０℃以下の温度に保ちながら１００分で滴下した。滴下終了後、３時間かけて１３０〜１３５℃に昇温し、同温度を保ちながら、ホスゲン１３７８ｇを１３時間かけて吹き込んだ。実施例１と同様の処理を行い、粗ＢＩＭＤ２９２．５ｇ（純度８０％、収率８２．７ｇ）を得た。これを、減圧下蒸留し、ＢＩＭＤ２１５．３ｇ（収率７５％）を得た。【００１４】【発明の効果】以上、述べたように、本発明の方法を用いることにより、従来法に比べて収率よく高品位のＢＩＭＤを製造することが可能となった。 ２，５−ビス（アミノメチル）−１，４−ジチアンを、モノクロロベンゼン溶媒中、１０５〜１１５℃の温度に保ちながら塩化水素ガスを吹き込むことにより塩酸塩を形成した後、該塩酸塩を単離することなく、１００〜１３０℃にてホスゲンを吹き込み反応させることを特徴とする２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアンの製造方法。