生命科学関連特許情報
| タイトル： | 特許公報(B2)_ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 |
| 出願番号： | 1994252418 |
| 年次： | 2004 |
| IPC分類： | 7,C07C37/055,C07C39/17 |
特許情報キャッシュ
青木 摩利男 JP 3594662 特許公報(B2) 20040910 1994252418 19941018 ヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法 富士写真フイルム株式会社 000005201 柳川 泰男 100074675 青木 摩利男 20041202 7 C07C37/055 C07C39/17 JP C07C37/055 C07C39/17 7 C07C 37/055 C07C 39/17 CA(STN) REGISTRY(STN) イスラエル特許第７０５７２号公報，１９８７年 モリソンボイド有機化学（上）第６版，株式会社 東京化学同人，１９７０年 ３月 ２日，３１５ 3 1996119894 19960514 4 20000710 井上 千弥子 【０００１】【産業上の利用分野】本発明は液晶中間体などに有用なヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法に関し、さらに詳しくは、ヨウ化水素を脱アルキル化剤として用いて、ヘキサアルコキシトリフェニレンからヘキサヒドロキシトリフェニレンを製造する方法に関する。【０００２】【従来の技術】ヘキサヒドロキシトリフェニレンは液晶中間体として有用な化合物である（Ｊ．ＭＡＴＥＲ．ＣＨＥＭ．，１９９２，２，１２６１など）。その合成法は、ヘキサメトキシトリフェニレンの脱メチル化による方法が一般的であり、脱メチル化剤として三臭化ホウ素（Ｊ．ＭＡＴＥＲ．ＣＨＥＭ．，１９９２，２，１２６１）や臭化水素（イスラエル特許第７０５７２Ａ１号）を用いる方法が知られている。しかし、臭化水素を用いる方法は、反応性が低いために２２時間と長時間反応させなければならず、また、三臭化ホウ素は反応性が高いものの、腐食性が大きい上に空気中の水分で容易に分解するなど、工業的に製造する上で問題の大きい方法であった。【０００３】【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的は、液晶中間体として有用なヘキサヒドロキシトリフェニレンを高収率で合成する工業的に有効な製造方法を提供することにある。【０００４】【課題を解決するための手段】上記課題を達成するために、本発明者は、ヘキサアルコキシトリフェニレンの脱アルキル化反応を研究し、ヨウ化水素を用いるヘキサヒドロキシトリフェニレンの合成法を見いだすに至った。【０００５】すなわち、本発明の目的は、下式で表されるようにヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ化水素で脱アルキル化することにより、結晶としてヘキサヒドロキシトリフェニレンを析出させることを特徴とするヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法によって達成された。【０００６】【化１】【０００７】次にこの反応について詳細に説明する。基質のヘキサアルコキシトリフェニレンについて詳細に説明する。Ｒ１からＲ６で表される置換基はアルキル基であるが、好ましくは炭素数１から１２のアルキル基を表す。これらのアルキル基は、すべて同一でもよく、また異なっていてもよい。また、互いにとなり合ったアルキル基同士で互いに連結し、５から７員環を形成していてもよい。【０００８】Ｒ１ からＲ６ で表される置換基を具体的にさらに詳しく説明すれば、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ベンジル基などであり、アルキル基同士が連結して環をつくる場合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などである。【０００９】Ｒ１からＲ６で表される置換基は、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ベンジル基、メチレン基であり、さらに好ましくはメチル基、ベンジル基、メチレン基であり、なかでも、置換基がすべて同一なのが特に好ましい。最も好ましいのはすべてメチル基である。【００１０】反応に用いられるヨウ化水素は、ヨウ化水素ガスを反応溶媒に吸収させて用いてもよいし、水溶液を用いてもよい。ヨウ化水素を反応溶媒に吸収させて用いる場合、ヨウ化水素の濃度は２パーセント以上が好ましく、反応溶媒に飽和するまで吸収させて用いるのがさらに好ましい。水溶液を用いる場合、その濃度は、５パーセント以上が好ましく２０パーセント以上がさらに好ましい。特に好ましい濃度は４７パーセント以上である。反応溶媒としては種々の溶媒を用いることが出来、水、メタノールやエタノールなどのアルコール類、クロロベンゼンやジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、トルエンやキシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸やプロピオン酸などの有機酸類があげられる。なかでも、水、メタノール、クロロベンゼン、ｏ−ジクロルベンゼン、トルエン、キシレン、有機酸類が好ましく、水、クロロベンゼン、キシレン、有機酸類がさらに好ましい。特に好ましいのは、有機酸類で、酢酸が最も好ましい。【００１１】反応温度は、０℃から２００℃であり、１００℃から１５０℃が好ましい。反応は、生成物が酸化されることを防ぐために窒素雰囲気下で行うことが好ましい。【００１２】【実施例】次に、実施例によって、本発明を更に詳しく説明する。実施例１ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と５７％ヨウ化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏｌ）と酢酸５ｍｌを窒素雰囲気下、４時間攪拌還流した。最初懸濁状であるが、反応進行にしたがって均一になり、約２時間後に結晶が析出し始める。室温に冷却後、結晶を濾取した。収量０．８０ｇ（定量的）このものは、純度９８％以上で、精製することなく、合成原料として用いることが出来る。【００１３】実施例２ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と５７％ヨウ化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏｌ）を窒素雰囲気下、９時間攪拌還流した。室温に冷却後、結晶を濾取した。収量０．８１ｇ（定量的）。このものは、純度９５％以上であった。【００１４】実施例３ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と５７％ヨウ化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏｌ）とクロロベンゼン５ｍｌを窒素雰囲気下、９時間攪拌還流した。室温に冷却後、結晶を濾取した。収量０．８１ｇ（定量的）。このものは、純度９５％以上であった。【００１５】比較例１ヘキサメトキシトリフェニレン１．０２ｇ（２．５ｍｍｏｌ）と４７％臭化水素水溶液５ｍｌ（３８ｍｍｏｌ）とクロロベンゼン５ｍｌを窒素雰囲気下、９時間攪拌還流した。室温に冷却後、濾取した。収量０．８７ｇ。このものは、純度約４０％であった。【００１６】【発明の効果】本発明の、ヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ化水素で脱アルキル化することを特徴とするヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法は、高収率で、反応時間を短縮することが出来る。 ヘキサアルコキシトリフェニレンをヨウ化水素で脱アルキル化することにより、結晶としてヘキサヒドロキシトリフェニレンを析出させることを特徴とするヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法。 前記結晶の純度が９５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法。 前記結晶を室温で濾取することを特徴とする請求項１に記載のヘキサヒドロキシトリフェニレンの製造方法。